制备CuInSe2半导体薄膜的溶胶--凝胶--Se化工艺制造技术

技术编号:3220246 阅读:202 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及一种无机非金属材料工艺。该工艺的Cu↓[2]In↓[2]O↓[5]薄膜制备过程分为四个步骤:(1)前体溶液配制,将乙酸酮溶于2-甲氧基乙醇中;将三氯化铟或丙醇铟溶于2-甲氧基乙醇中,并将该溶液与乙酸酮溶液充分反应,最后加入甲酰胺。(2)基底准备,采用低碱玻璃作为基底,需经清洗。(3)旋转涂膜,涂膜过程在光刻匀胶机上进行。(4)热处理,将得到的薄膜进行干燥与退火的热处理。最后Se化Cu↓[2]In↓[2]O↓[5]薄膜,即得到CuInSe↓[2]多晶薄膜。该工艺设备简单,成本低,易控制薄膜厚度和化学计量化。(*该技术在2018年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种无机非金属材料工艺。CuInSe2(以下简称CIS)的禁带宽度近于1.0eV,是目前已知的吸收光性最好的半导体材料,其多晶薄膜具有优良的光伏特性。0.5μm厚的CIS足以吸收90%的太阳光子。因此,CIS技术有着广泛应用前途,就评定CIS技术成功的标准-效率、成本和稳定性而言,其高效和稳定性是不容置疑的,然而制备工艺的成本问题未得到很好的解决。制作CIS薄膜的方法主要有双源(CIS和Se)蒸发法、三源(Cu、In、Se)蒸发法、化学气相运移法(CVT)、快速热处理Cu\In\Se层法、Se化Cu\In合金法等。采用以上传统的物理气相沉积(PVD)法、化学气相沉积(CVD)法制备CIS多组分化合物薄膜,其主要困难是工艺成本高,难以控制各组分的化学计量比,因而也就难以制备出性能优良的多元化合物薄膜。本专利技术的目的是提供一种制备CuInSe2半导体薄膜的溶胶-凝胶-Se化工艺,采用溶胶-凝胶-Se化工艺制备CuInSe2多晶薄膜,薄膜的性能与采用其它高成本工艺制备的薄膜的性能基本相当,但大大降低了工艺成本,有利于CuInSe2技术推广实施。为实现上述目的,本专利技术采取下述技术方案这种制备CuInSe2半导体薄膜的溶胶-凝胶-Se化工艺分为两个工艺过程,即制备Cu2In2O5薄膜过程和Se化Cu2In2O5薄膜过程,(一)制备Cu2In2O5薄膜过程,该过程分为下述的四个步骤(1)前体溶液配制步骤将乙酸铜以1∶2-1∶5(重量比)的比例溶于2-甲氧基乙醇中,在90-100℃下进行磁力搅拌1-4小时,使之充分混合,将三氯化铟或丙醇铟以1∶3-1∶5(重量比)的比例溶于2-甲氧基乙醇中,超声振荡混匀,将该溶液加入已冷却到70℃-90℃的前述配制的乙酸铜溶液中,进行磁力搅拌,使之充分反应,然后在该混合溶液中,加入冰乙酸、去离子水和2-甲氧基乙醇,使得该混合溶液中水/醇=1∶6-1∶1.5(体积比),乙酸/醇=1∶7-1∶2(体积比),从而得到均匀透明无沉淀的绿色溶胶溶液,并且溶液中的Cn和In的浓度分别为0.3M-0.8M,最后,在该溶液中加入3-6%(体积比)的甲酰胺,(2)基底准备步骤采用低碱玻璃(SiO2-Al2O3-B2O3-RO系)作为基底,并清洗基底,(3)旋转涂膜步骤涂膜过程在光刻匀胶机上进行,转速为2500-4500转/分,匀胶时间为20-40秒,一次涂膜所得厚度约50-90nm,(4)热处理步骤该步骤有两个热处理工序干燥与退火,即将所得到的薄膜进行干燥,干燥温度为350℃-400℃,然后进行退火,晶化温度为450-500℃,时间均为30-60分钟,干燥和退火之间的升温速率为2-3℃/分,该热处理结束后断电,薄膜随炉自然冷却,(二)Se化Cu2In2O5薄膜过程Se化上述得到的薄膜的过程在封闭系统中进行,真空度不低于10-1Pa,Se化温度为350-400℃,时间为30-90分钟,升温速率为2-3℃/分钟,该热处理结束后,薄膜随炉自然冷却。这样,就得到了CuInSe2多晶薄膜。本专利技术所用原料如下Se、InCl3或丙醇铟、CuAc2、2-甲氧基乙醇、冰乙酸、甲酰胺、无水乙醇、丙酮等均为分析纯或高纯试剂;去离子水。本专利技术所使用的基底是采用低碱玻璃(SiO2-Al2O3-B2O3-RO系)作为基底,其成分接近于美国康宁公司的7059号玻璃。基底需经严格清洗。在本专利技术的旋转涂膜步骤中,涂膜过程在KW-4型光刻匀胶机上进行,所得薄膜厚度由美国TENCOR公司生产的alpha-step型台阶仪测定,每次匀胶所得膜层不宜过厚,以防在热处理过程中导致应力集中而裂纹。下面用实施例结合附图进行详细说明。附图说明图1为制备CuInSe2薄膜的工艺流程图实施例。如图1所示,将乙酸铜以1∶2(重量比)的比例溶于2-甲氧基乙醇中,在100℃下进行磁力搅拌两小时,使之充分混合。将三氯化铟以1∶3(重量比)的比例溶于2-甲氧基乙醇中,超声振荡混匀。然后将此溶液加入已冷却到70℃的前述配制的乙酸铜溶液中,磁力搅拌一小时,使之充分反应,用适量的冰乙酸、去离子水和2-甲氧基乙醇对其进行稀释,使得水/醇=1/3(体积比),乙酸/醇=1/5(体积比),从而得到均匀透明无沉淀的绿色溶胶溶液。然后,加入5%(体积比)甲酰胺。溶液浓度为Cu,0.6M;In,0.5M.上述溶液的涂膜过程在KW-4型光刻匀胶机上进行,转速为3500转/分,匀胶时间为20秒。基底为经严格清洗的低碱玻璃。一次涂膜所得厚度约70-90nm。将所得到的薄膜在空气中放置一小时,然后在400℃的温度下进行干燥,时间为30分钟,干燥后的薄膜在500℃下退火处理,时间为30分钟。干燥和退火过程中的升温速率为2℃/分钟,热处理结束后断电,试样随炉自然冷却。这样,就得到了Cu2In2O5多晶薄膜。在石英试管中,将Cu2In2O5薄膜进行Se化处理。真空度为10-1Pa,Se化温度为400℃,时间为60分钟。升温速度为2℃/分钟。热处理结束后,试样随炉自然冷却。即得到CuInSe2多晶薄膜。对采用上述工艺制备的CuInSe2薄膜进行了显微形貌(SEM)、成份(EPMA)、物相(XRD)等分析及电学性能的测试。CIS薄膜的SEM分析结果表明,采用本工艺制备了均匀平整无裂纹的CIS薄膜,CIS的粒径介于0.1-0.3μm之间;由薄膜的EPMA分析结果可知,采用上述工艺,制备了近于化学计量比的CIS薄膜Cu=0.995-1.158,In=0.881-0.986,Se=1.856~2.113;由薄膜的XRD分析结果可知,得到的CIS薄膜属黄铜矿型结构,薄膜具有沿(112)方向优先生长的趋势;CIS薄膜的电阻率为4.5×105-7.1×106Ωcm,可与采用三源共蒸法等较昂贵工艺制备的CIS薄膜相比,但大大降低了工艺成本;Se化CIO法制备CIS薄膜的体积变化幅度较小,薄膜与基底的结合力更强。采用本专利技术的sol-gel-Se化工艺制备CIS薄膜,具有以下优点(1)设备简单,采用了非真空和低真空度条件,工艺成本低;(2)避免了使用危险而有害的H2Se气体;(3)易于控制薄膜厚度;(4)易于控制Cu、In、Se的化学计量比,从而能够得到p型或n型CIS多晶薄膜材料;(6)易于制备100cm2以上大面积的薄膜。因此,本专利技术的工艺可以成为制备CIS太阳电池薄膜的切实可行的方法。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制备CuInSe↓[2]半导体薄膜的溶胶-凝胶-Se化工艺,其特征在于:该工艺分为两个工艺过程,即制备Cu↓[2]In↓[2]O↓[5]薄膜过程和Se化Cu↓[2]In↓[2]O↓[5]薄膜过程,(一)制备Cu↓[2]In↓[2]O ↓[5]薄膜过程,该过程分为下述的四个步骤:(1)前体溶液配制步骤:将乙酸铜以1∶2-1∶5(重量比)的比例溶于2-甲氧基乙醇中,在90-100℃下进行磁力搅拌1-4小时,使之充分混合,将三氯化铟或丙醇铟以1∶3-1∶5(重量比)的比例 溶于2-甲氧基乙醇中,超声振荡混匀,将该溶液加入已冷却到70℃-90℃的前述配制的乙酸铜溶液中,进行磁力搅拌,使之充分反应,然后在该混合溶液中,加入冰乙酸、去离子水和2-甲氧基乙醇,使得该混合溶液中∶水/醇=1∶6-1∶1.5(体积比),乙酸/醇=1∶7-1∶2(体积比),从而得到均匀透明无沉淀的绿色溶胶溶液,并且溶液中的Cn和In的浓度分别为0.3M-0.8M,最后,在该溶液中加入3-6%(体积比)的甲酰胺,(2)基底准备步骤:采用低碱玻璃(SiO↓[2]-Al↓[2] O↓[3]-B↓[2]O↓[3]-RO系)作为基底,并清洗基底,(3)旋转涂膜步骤:涂膜过程在光刻匀胶机上进行,转速为2500-4500转/分,匀胶时间为20-40秒,一次涂膜所得厚度约50-90nm,(4)热处理步骤:该步骤有两个 热处理工序:干燥与退火,即将所得到的薄膜进行干燥,干燥温度为350℃-400℃,然后进行退火,晶化温度为450-500℃,时间均为30-60分钟,干燥和退火之间的升温速率为2-3℃/分,该热处理结束后断电,薄膜随炉自然冷却,(二)Se化 Cu↓[2]In↓[2]O↓[5]薄膜过程Se化上述得到的薄膜的过程在封闭系统中进行,真空度不低于10↑[-1]Pa,Se化温度为350-400℃,时间为30-90分钟,升温速率为2-3℃/分钟,该热处理结束后,薄膜随炉自然冷却。这样, 就得到了CuInSe↓[2]多晶薄膜。...

【技术特征摘要】
1.一种制备CuInSe2半导体薄膜的溶胶-凝胶-Se化工艺,其特征在于该工艺分为两个工艺过程,即制备Cu2In2O5薄膜过程和Se化Cu2In2O5薄膜过程,(一)制备Cu2In2O5薄膜过程,该过程分为下述的四个步骤(1)前体溶液配制步骤将乙酸铜以1∶2-1∶5(重量比)的比例溶于2-甲氧基乙醇中,在90-100℃下进行磁力搅拌1-4小时,使之充分混合,将三氯化铟或丙醇铟以1∶3-1∶5(重量比)的比例溶于2-甲氧基乙醇中,超声振荡混匀,将该溶液加入已冷却到70℃-90℃的前述配制的乙酸铜溶液中,进行磁力搅拌,使之充分反应,然后在该混合溶液中,加入冰乙酸、去离子水和2-甲氧基乙醇,使得该混合溶液中水/醇=1∶6-1∶1.5(体积比),乙酸/醇=1∶7-1∶2(体积比),从而得到均匀透明无沉淀的绿色溶胶溶液,并且溶液中的Cn和In的浓度分别为0.3M-0.8M,最后...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨静马鸿文
申请(专利权)人:中国地质大学北京
类型:发明
国别省市:11[中国|北京]

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