【技术实现步骤摘要】
X射线装置及其制造方法
[0001]本揭示涉及一种电子装置及其制造方法,尤其涉及一种X射线装置及其制造方法。
技术介绍
[0002]X射线装置中的闪烁体层容易受潮而裂化。因此,降低外部水气侵入闪烁体层的机率是很重要的。
技术实现思路
[0003]本揭示提供一种X射线装置及其制造方法,可有效降低外部水气侵入闪烁体层的机率。
[0004]根据本揭示的实施例,X射线装置包括阵列基板、闪烁体层、第一黏着层、功能膜以及第二黏着层。闪烁体层设置在阵列基板上。第一黏着层设置在闪烁体层与阵列基板之间。功能膜设置在阵列基板上。第二黏着层设置在功能膜与阵列基板之间。功能膜覆盖闪烁体层。
[0005]根据本揭示的实施例,X射线装置的制造方法包括以下步骤。通过第一黏着层将闪烁体层贴附至阵列基板。通过第二黏着层将功能膜贴附至阵列基板,其中功能膜覆盖闪烁体层。
[0006]为让本揭示的上述特征和优点能更明显易懂,下文特举实施例,并配合附图作详细说明如下。
附图说明
[0007]图1是根据本揭示的第 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种X射线装置,其特征在于,包括:阵列基板;闪烁体层,设置在所述阵列基板上;第一黏着层,设置在所述闪烁体层与所述阵列基板之间;功能膜,设置在所述阵列基板上;以及第二黏着层,设置在所述功能膜与所述阵列基板之间,其中所述功能膜覆盖所述闪烁体层。2.根据权利要求1所述的X射线装置,其特征在于,所述功能膜、所述第二黏着层以及所述阵列基板形成气密空间,且所述第一黏着层以及所述闪烁体层位于所述气密空间中。3.根据权利要求2所述的X射线装置,其特征在于,所述气密空间呈真空状态。4.根据权利要求1所述的X射线装置,其特征在于,所述第二黏着层还设置在所述功能膜与所述闪烁体层之间。5.根据权利要求1所述的X射线装置,其特征在于,所述闪...
【专利技术属性】
技术研发人员:王豑莹,吴智濠,
申请(专利权)人:睿生光电股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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