一种涮烤一体锅制造技术

技术编号:32200531 阅读:40 留言:0更新日期:2022-02-08 16:07
本实用新型专利技术公开了一种涮烤一体锅,解决了现有技术中涮烤一体锅使用时调料需要单独餐盘盛放并放置在餐桌上而占有空间的技术问题,本实用新型专利技术的涮烤一体锅,包括加热底座,所述加热底座设有煎烤腔和火锅腔,所述煎烤腔的转角部与相邻的所述火锅腔的转角部之间形成有调料区,所述调料区内设有用于盛放调料的调料盒。盒。盒。

【技术实现步骤摘要】
一种涮烤一体锅


[0001]本技术涉及厨房器具
,尤其涉及一种涮烤一体锅。

技术介绍

[0002]现有市面上的涮烤一体锅只有火锅腔和煎烤腔,由于烹饪时需要对食材添加调料进行调味,因此需要单独的餐具来盛放调料并将其放置在餐桌上,餐桌的桌面的空间有限加之需要放置许多的食材,因此将调料放置在餐桌上会显得更加拥挤,极易发生打翻的情况,由此降低了用户的使用体验。

技术实现思路

[0003]本技术所要解决的技术问题在于克服现有技术的不足而提供一种涮烤一体锅,通过在加热底座上设置调料区来放置调料,可以避免将调料放置在餐桌上而占用空间,同时也方便用户及时随手添加调料,由此提升了用户的使用体验。
[0004]为解决上述技术问题,本技术采用如下技术方案:
[0005]一种涮烤一体锅,包括加热底座,所述加热底座设有煎烤腔和火锅腔,所述煎烤腔的转角部与相邻的所述火锅腔的转角部之间形成有调料区,所述调料区内设有用于盛放调料的调料盒。
[0006]进一步的,所述调料盒独立加工成型,所述调料区内设有插槽,至少部分所述调料本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种涮烤一体锅,包括加热底座,所述加热底座设有煎烤腔和火锅腔,其特征在于,所述煎烤腔的转角部与相邻的所述火锅腔的转角部之间形成有调料区,所述调料区内设有用于盛放调料的调料盒。2.如权利要求1所述的一种涮烤一体锅,其特征在于,所述调料盒独立加工成型,所述调料区内设有插槽,至少部分所述调料盒插装到所述插槽内。3.如权利要求2所述的一种涮烤一体锅,其特征在于,所述调料盒包括盒体和由所述盒体顶部向外弯折形成的翻边,所述翻边搭接在所述调料区围绕在所述插槽周围的部位上。4.如权利要求1所述的一种涮烤一体锅,其特征在于,所述调料区内设有下沉形成的盛放槽,所述盛放槽形成所述调料盒。5.如权利要求4所述的一种涮烤一体锅,其特征在于,所述调料区内还设有下沉形成的引导槽,所述煎烤腔具有朝上...

【专利技术属性】
技术研发人员:朱泽春张利新
申请(专利权)人:杭州九阳小家电有限公司
类型:新型
国别省市:

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