敏射线树脂组合物制造技术

一种敏射线树脂组合物，其中向光敏性树脂基组合物中加入特定量的荧光物质制得该组合物，它具有优良的敏感性，分辨度与膜层保护特性，并能形成令人满意的（光致防蚀）图形。当该光敏性树脂基组合物至少兼有一种树脂和一种光敏性物质时，例如一种含有碱溶性线型酚醛清漆树脂和醌二叠氮化物的组合物等，那么上述荧光物质的加入量，相对于１００份重量的光敏性物质，是０．０００１－１．０份重量。当该光敏性树脂基组合物至少兼有一种树脂和一种光致酸生成剂时，例如负性或正性，化学增强型的光致抗蚀剂，那么上述荧光物质的加入量是１．０－３０．０份重量。上述荧光物质可以包括有机的荧光物质，如萘、蒽、菲、芘、＊、芴、咔唑、联苯、对三联苯、对四联苯、吲哚吖啶、并四苯、红荧烯、＊及它们的衍生物。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种新的敏射线的树脂组合物。更确切地说，涉及一个适用于生产半导体，制备LCD(液晶显示)板中的液晶显示装置中的显示平面，以及生产热压头的电路衬底(基片)等的敏射线树脂组合物。此外，本专利技术还涉及一种除了可适用于上述用途外，并还可适用于其它所有的应用对曝光射线的光敏特性的用途的敏射线树脂组合物，例如UV(紫外线)干燥油墨，紫外线油漆，紫外线粘合剂，摄影(光电)记录物质，光电模制(造型)物质等。
技术介绍
在许多
中，例如制备半导体集成电路如LSI(大规模集成电路)，制备LCD板中的液晶显示装置的显示平面，以及生产用于热压头的电路衬底的技术中，人们惯常用光刻(照相平板)工艺进行精细加工和制作精细元件。在上述光刻方法中，人们采用正性或负性的敏射线树脂组合物以便制得光致抗蚀图形。在上述射射线树脂组合物中，人们广泛地惯用一种含有一种树脂和一种光敏性物质的敏射线树脂组合物。此外，最近人们还广泛使用了一种光致酸生成剂的敏射线树脂组合物，即化学增强的敏射线树脂组合物。在上述敏射线树脂组合物中，有一种典型的含有一种树脂和一种光敏性物质的正性的敏射线树脂组合物，它含有一种碱溶性本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种至少兼有一种树脂和一种光敏性物质的敏射线树脂组合物，其中结合加入的荧光物质量，相对于１００份重量的光敏性物质，是０．０００１－１．０份重量。

【技术特征摘要】
JP 1999-2-15 35797/99;JP 1999-2-15 35798/991．一种至少兼有一种树脂和一种光敏性物质的敏射线树脂组合物，其中结合加入的荧光物质量，相对于100份重量的光敏性物质，是0．0001-1．0份重量。2．根据权利要求1所述的敏射线树脂组合物，其中的树脂是一种碱溶性树脂。3．根据权利要求2所述的敏射线树脂组合物，其中的碱溶性树脂是一种碱溶性的线型酚醛清漆树脂。4．根据权利要求1所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：高桥修一，
申请(专利权)人：克拉瑞特金融BVI有限公司，
类型：发明
国别省市：VG[英属维尔京群岛]