基片处理装置、液处理装置和液处理方法制造方法及图纸

目的在于在传输路径上以单位时间高效地从基片上去除处理液。当基片（Ｇ）偏离规定位置时，停止旋转传输滚轴（１３８），使基片（Ｇ）静止。之后，操作驱动部（１８８）使升降轴（１８６）上升。此时，（基板）１８２和起模顶杆（１８４）也上升，起模顶杆（１８４）从下突起，向传输路径（１０８）的上方抬起基片（Ｇ）。接着，以传输路径（１０８）的宽度方向上延伸的轴（１９６）为中心向后仅旋转基板（１８２）规定角度。此时，起模顶杆（１９２）、止动部件（１９４）、基片（Ｇ）也在传输路径（１０８）上向后方仅倾斜相同角度。基片（Ｇ）止动于止动部件（１９４）上，基片（Ｇ）上的液体（Ｑ）由于重力而在基片倾斜面上向后方滑落，落到基片的外部。从基片（Ｇ）落下的液体（Ｑ）收集在盘（１３０）中。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
专利技术
技术介绍
领域本专利技术涉及一种边水平传输被处理基片边进行单一或一连串液处理工序的基片处理装置。本专利技术涉及一种对例如液晶显示装置(LCD)玻璃基片等基片进行显影处理等液处理的液处理装置和液处理方法。
技术介绍
的说明最近，在LCD(液晶显示器)制造的抗蚀剂涂布显影处理系统中，作为可有利地对应于LCD基片大型化的显影方式，在水平方向上铺设传输滚轴或托运带所构成的传输路径上边传输LCD基片边在传输中进行显影、漂洗、干燥等一连串显影处理工序的所谓平流方式引人注意。这种平流方式与旋转运动基片的旋转器方式相比，有如下优点基片的处理或传输系统和驱动系统的结构简单，不产生雾，对基片的再附着少等。通常，在平流方式的显影处理装置中，在沿传输路径从上流侧向下流侧依次设定的显影工序、漂洗工序的每个液处理部中设置收集落到传输路径下的液体用的皿状容器或盘，各盘的排液口连接在另外的排液系统上。但是，在现有的平流方式下，在传输路径上原样保持水平姿势，从上流侧的液处理部向下流侧的液处理部传输基片，所以上流侧的液处理部中使用的处理液残留在基片上，原样送到下流侧的液处理部，落到下流侧的盘中并混合，难以分别回收各本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基片处理装置，具有： 传输路径，在水平方向上铺设基本水平地载送被处理基片用的传输体来构成； 传输驱动部件，驱动所述传输体，以在所述传输路径上传输所述基片； 处理液提供部件，包含向所述传输路径上的所述基片的被处理面提供规定处理液用的一个或多个喷嘴；和 基片倾斜部件，在所述传输路径上，向所述传输路径的前方或后方倾斜所述基片，以便液体因重力而从所述基片上落下。

【技术特征摘要】
JP 2001-6-19 184717/01;JP 2001-7-5 204170/011.一种基片处理装置，具有传输路径，在水平方向上铺设基本水平地载送被处理基片用的传输体来构成；传输驱动部件，驱动所述传输体，以在所述传输路径上传输所述基片；处理液提供部件，包含向所述传输路径上的所述基片的被处理面提供规定处理液用的一个或多个喷嘴；和基片倾斜部件，在所述传输路径上，向所述传输路径的前方或后方倾斜所述基片，以便液体因重力而从所述基片上落下。2.根据权利要求1所述的基片处理装置，其特征在于所述基片倾斜部件具有升降部件，在传输路径的第一位置和其上方的第二位置之间移动基片；和倾斜状态保持部件，保持在第二位置上倾斜基片的状态。3.根据权利要求2所述的基片处理装置，其特征在于所述基片倾斜部件具有基片姿势切换部件，在第二位置上在水平状态和倾斜状态之间切换基片的姿势。4.根据权利要求1所述的基片处理装置，其特征在于所述基片倾斜部件具有传输体倾斜部件，在移动传输路径上设定的区间中，在传输路径上的基本水平的第三位置和液体落下用的倾斜的第四位置之间移动传输体；和倾斜状态保持部件，保持在第四位置的传输体上倾斜基片的状态。5.根据权利要求4所述的基片处理装置，其特征在于具有离合器机构，使属于该区间的传输体可装卸地连接于传输驱动部件上。6.根据权利要求1所述的基片处理装置，其特征在于具有用于收集落到传输路径下面的液体的集液部件。7.根据权利要求6所述的基片处理装置，其特征在于所述集液部件在传输路径上前后邻接设定的第一和第二区间内包含分别用于收集落到传输路径下的液体的第一和第二集液部。8.根据权利要求7所述的基片处理装置，其特征在于所述处理液提供部件包含分别配置在第一和第二区间内的第一和第二喷嘴。9.根据权利要求7所述的基片处理装置，其特征在于所述基片倾斜部件包括第一基片倾斜部，该倾斜部使基片倾斜，以便在第一区间中提供的基片上的液体进入第二区间之前落入第一集液部中。10.一种对基片进行规定液处理的液处理装置，具备第一液处理部，在基本保持水平姿势的基片上涂布处理液；第二液处理部，从涂布了所述处理液的基片上去除所述处理液；和基片传输机构，从所述第一液处理部向所述第二液处理部以基本水平姿势向一个方向传输基片，所述第一液处理部具有处理液提供机构，从所述基片传输机构的基片传输方向的前方向后方，在所述基片上涂布所述处理液，所述第二液处理部具有基片倾斜机构，抬起涂布了所述处理液的基片的传输方向的前方，将所述基片变换为倾斜姿势，去除涂布在所述基片上的处理液。11.一种对基片进行规定液处理的液处理装置，具备第一液处理部，在基本保持水平姿势的基片上涂布第一处理液；第二液处理部，从涂布了所述第一处理液的基片上去除所述第一处理液；和基片传输机构，从所述第一液处理部向所述第二液处理部以基本水平姿势向一个方向传输涂布了所述第一处理液的基片，所述第二液处理部具有基片倾斜机构，抬起涂布了所述第一处理液的基片的一端，将所述基片变换为倾斜姿势，去除涂布在所述基片上的第一处理液；处理液喷出喷嘴，从由所述基片倾斜机构保持为倾斜姿势的基片中流出所述第一处理液的残渣，向所述基片喷出第二处理液；和喷嘴移动机构，沿由所述基片倾斜机构保持为倾斜姿势的基片表面，斜向移动所述处理液喷出喷嘴。12.一种对基片进行规定液处理的液处理装置，具备第一液处理部，在基本保持水平姿势的基片上涂布第一处理液；第二液处理部，从涂布了所述第一处理液的基片上去除所述第一处理液；和基片传输机构，从所述第一液处理部向所述第二液处理部以基本水平姿势向一个方向传输基片，所述第一液处理部具有第一处理液提供机构，从所述基片传输机构的基片传输方向的前方向后方，在所述基片上涂布所述第一处理液，所述第二液处理部具有基片倾斜机构，抬起涂布了所述第一处理液的基片的传输方向前端侧，将所述基片变换为倾斜姿势，去除涂布在所述基片上的第一处理液；和第二处理液提供机构，边从所述基片的上方端向下方端移动所述第二处理液提供位置，边向所述基片提供从由所述基片倾斜机构保持为倾斜姿势的基片中流出所述第一处理液残渣所用的第二处理液。13.根据权利要求12所述的液处理装置，其特征在于所述第一处理液提供机构具备喷出所述第一处理液的第一处理液喷出喷嘴；和基本水平地沿所述基片的表面以规定速度移动所述第一处理液喷出喷嘴的第一喷嘴移动机构。14.根据权利要求12所述的液处理装置，其特征在于所述第二处理液提供机构具备喷出所述第二处理液的第二处理液喷出喷嘴；和倾斜地沿所述基...

【专利技术属性】
技术研发人员：立山清久，元田公男，佐田彻也，宫崎一仁，筱木武虎，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]