一种铜靶材的清洗方法技术

本发明专利技术提供了一种铜靶材的清洗方法，将待清洗的铜靶材依次进行除油、除锈、醇洗以及干燥，得到洁净的铜靶材；本发明专利技术所述铜靶材的清洗方法增加了除锈这一步骤，从而达到更好的清洗效果，增加铜靶材的表面洁净度，延缓铜靶材的氧化；同时，除锈液对车削过程中嵌入螺纹内的微小铜屑具有微蚀作用，可以避免在后续溅射镀膜的使用过程中产生Particle现象；且操作简便。便。

【技术实现步骤摘要】
一种铜靶材的清洗方法


[0001]本专利技术属于靶材清洗领域，具体涉及一种铜靶材的清洗方法。

技术介绍

[0002]随着超大规模集成电路的飞速发展，超高纯铜及铜合金靶材被广泛应用。靶材洁净度对集成电路金属薄膜的制备以及性能存在着很大的影响，主要表现为：洁净的靶材在被溅射使用过程中可以保证沉积薄膜的成分均匀、厚度一致，可以满足集成电路中对铜薄膜制备的需求。
[0003]在自然环境下，铜由于铜原子最外层电子数处于非稳定状态，容易失去电子被氧化，生成氧化铜产生变色。因此，为了确保溅射过程稳定、薄膜成分均匀，需要严格控制靶材表面的洁净度，从而使靶材均匀地溅射在溅镀基材上。此外，在前工序车削螺纹的过程中，铜碎屑极易嵌入、附着在螺纹内，致使靶材溅射过程中极易发生Particle现象，进而影响客户使用良率，因此，为减少超高纯铜及铜合金靶材产生Particle现象。
[0004]CN112267099A提供了一种靶材表面的清洗方法，所述清洗方法包括以下步骤：将靶材表面进行流水清洗并擦拭，然后依次进行超声振动清洗、喷射清洗和吹扫干燥，得到清洗完成本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种铜靶材的清洗方法，其特征在于，所述清洗方法包括如下步骤：将待清洗的铜靶材依次进行除油、除锈、醇洗以及干燥，得到洁净的铜靶材。2.根据权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，在所述除油前进行一次清洗；优选地，所述一次清洗使用的清洗剂包括纯水；优选地，所述一次清洗的方式为超声；优选地，所述一次清洗的温度为20
‑
30℃；优选地，所述一次清洗的时间为5
‑
20min。3.根据权利要求1或2所述的清洗方法，其特征在于，所述除油使用的除油剂包括异丙醇；优选地，所述除油的方式为浸泡；优选地，所述除油的温度为20
‑
30℃；优选地，所述除油的时间为10
‑
30min。4.根据权利要求1
‑
3任一项所述的清洗方法，其特征在于，在所述除油后，所述除锈前进行二次清洗；优选地，所述二次清洗使用的清洗剂包括纯水；优选地，所述二次清洗的方式为超声；优选地，所述二次清洗的温度为20
‑
30℃；优选地，所述二次清洗的时间为5
‑
20min。5.根据权利要求1
‑
4任一项所述的清洗方法，其特征在于，所述除锈是采用除锈液完成的；优选地，所述除锈液包括苯三唑、油酸基羟基咪唑啉、柠檬酸和丁炔二醇；优选地，所述除锈液包括苯三唑8
‑
12wt％，油酸基羟基咪唑啉10
‑
15wt％，柠檬酸5
‑
10wt％，丁炔二醇1
‑
3wt％，其余为水。6.根据权利要求1
‑
5任一项所述的清洗方法，其特征在于，所述除锈的方式为浸泡；优选地，所述除锈的温度为20
‑
30℃；优选地，所述除锈的时间为5
‑
10min。7.根据权利要求1
‑
6任一项所述的清洗方法，其特征在于，在所述除锈后，所述醇...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚力军，潘杰，边逸军，王学泽，车雨晗，慕二龙，
申请(专利权)人：宁波江丰电子材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：