一种艾草的种植方法技术

技术编号:32117364 阅读:42 留言:0更新日期:2022-01-29 19:02
本发明专利技术属于农业种植技术领域,具体涉及一种艾草的种植方法。利用组织培养技术对艾草种子进行培育,在缩短传统直播所需的发芽出苗时间的同时,还保证了种苗的品质,在短期内即可获得大量的再生植株,保持了母本的优良特性。在种植过程中,在土壤中添加土壤处理剂作为栽培土,能有效调整土壤pH值,提高土壤蓄水保肥的能力,减少施肥次数及肥料使用量。所制备的水溶肥能有效缩短艾草的生长周期、增加收割次数,产出的艾草中有效挥发物质含量更高。产出的艾草中有效挥发物质含量更高。

【技术实现步骤摘要】
一种艾草的种植方法


[0001]本专利技术属于农业种植
,具体涉及一种艾草的种植方法。

技术介绍

[0002]艾(学名:Artemisia argyi Levl.et Van),是菊科、蒿属植物,多年生草本或略成半灌木状,植株有浓烈香气。全草入药,有温经、去湿、散寒、止血、消炎、平喘、止咳、安胎、抗过敏等作用。艾叶晒干捣碎得“艾绒”,制艾条供艾灸用,又可作“印泥”的原料。此外全草作杀虫的农药或薰烟作房间消毒、杀虫药。嫩芽及幼苗作菜蔬。艾晒干粉碎成艾蒿粉,还可以做天然植物染料使用。随着艾草的使用越来越广泛,自然条件下存在的艾草已经不能够满足需求,而现有技术中,在对艾草进行培育时,都是直接进行栽种,导致其存活率不足,难以规模化。

技术实现思路

[0003]本专利技术为解决上述问题,提供了一种艾草的种植方法。
[0004]具体是通过以下技术方案来实现的:
[0005]一种艾草的种植方法,包括以下步骤:
[0006]1、选地整地:选择土壤肥沃的土地为种植地,清除石块和杂草,翻耕后做床,在阳光下暴晒3
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种艾草的种植方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)选地整地:选择土壤肥沃的土地为种植地,清除石块和杂草,翻耕后做床,在阳光下暴晒3

5天;(2)种子扩繁:对艾草种子进行消毒后,接种至愈伤组织诱导培养基中培养,待长出幼苗,且苗长0.8

1.5cm时将其接入生根培养基中进行培养,得到艾草苗;(3)育苗:在培育盆中加入栽培土,将艾草苗转移至培育盆中进行炼苗,直至艾草苗长度达到8

12cm时进行移栽;(4)移栽:将艾草苗连同培育盆一同直接移栽至种植地中;(5)水肥管理:当艾草的高度生长至25

35cm时,施加水溶肥,做好日常管理即可。2.如权利要求1所述的一种艾草的种植方法,其特征在于,所述的愈伤组织诱导培养基,其组成为:MS+BA 1.0

2.0mg/L+NAA 0.1

0.5mg/L。3.如权利要求1所述的一种艾草的种植方法,其特征在于,所述的生根培养基,其组成为:MS+IBA 0.1

1.0mg/L+NAA 0.01

0.5mg/L+0.6

1.2%的琼脂+2

5%的蔗糖。4.如权利要求1所述的一种艾草的种植方法,其特征在于,所述的栽培土,其是在土壤中添加10
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【专利技术属性】
技术研发人员:张治华杨胜伟龚健
申请(专利权)人:务川自治县都濡街道桐木村股份经济合作社
类型:发明
国别省市:

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