测试光掩模、光斑评估方法以及光斑补偿方法技术

通过使用一个线图案以及一个带状图案，前者成为待测试的图案，后者成为一个光斑引起图案，它形成一个环绕着线图案的透光区域，并且令局部光斑出现在线图案之上，由于带状图案在线图案上生成的局部光斑的影响被测量为用于评估的线图案上的线宽。此外，这个测量数值被用来补偿局部光斑对每一个真实图案的影响。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光斑评估方法、一种光斑补偿方法以及一个测试光掩模，用于在半导体器件制造工艺之一的光刻工艺中使用的校准器。
技术介绍
近年来，当需要在半导体器件上形成图案时，使用一种折光系统或反射折光系统的投影校准器，在其中，由于在一个照明的光学系统的透镜、一个掩模、一个投影透镜等的表面上以及在其内部的反射和散射，以及透镜材料的折射率的不均匀性等原因，在不同于设计光路的光路上产生光。这是一种被称为光斑的现象。近来，对半导体器件的微型制造以及高集成度的需求日益增长，与此相关的是，在投射校准器中所使用的曝光在波长上已经变短。具体地，使用了波长为193nm的曝光。然而，由于与这样的短波长相关的透镜材料，使得依赖于曝光图案而局部地产生的光斑已经成为一个问题。这就是所谓的局部光斑，它已经成为待传送的图案的形状和线宽的不希望有的改变的主要原因。为了在半导体器件中满意地形成每一种所需的图案，需要对上述局部光斑进行量化和去除。然而，如上所述，局部光斑是一个近来已经受到关注的问题，因此，在现时的情况下，尚未提出用于有意地解决局部光斑问题的可取的技术。
技术实现思路
本专利技术的研究开发是为了解决上述问本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光斑评估方法，用于测量在制造半导体器件的过程中所使用的一个校准器中的光斑，包括下列步骤： 通过使用具有待测试的图案的一个测试掩模单元以及多个光斑引起图案，前者成为对在其上的所述光斑进行评估的一个对象，后者形成各透光区域使得在待测试的所述图案上产生局部光斑，并且与待测试的所述图案之间具有不同的距离， 针对每一个所述光斑引起图案，根据其与所述距离的关系，将所述光斑对所述待测试的图案的影响量化为所述待测试的图案的每一个测量值。

【技术特征摘要】
JP 2002-7-31 223966/20021.一种光斑评估方法，用于测量在制造半导体器件的过程中所使用的一个校准器中的光斑，包括下列步骤通过使用具有待测试的图案的一个测试掩模单元以及多个光斑引起图案，前者成为对在其上的所述光斑进行评估的一个对象，后者形成各透光区域使得在待测试的所述图案上产生局部光斑，并且与待测试的所述图案之间具有不同的距离，针对每一个所述光斑引起图案，根据其与所述距离的关系，将所述光斑对所述待测试的图案的影响量化为所述待测试的图案的每一个测量值。2.根据权利要求1所述的光斑评估方法，其中所述待测试的图案的的线宽被测量为所述测量值。3.根据权利要求2所述的光斑评估方法，其中被照射到所述光斑引起图案的光的强度被测量为所述测量值。4.根据权利要求1所述的光斑评估方法，其中所述测试掩模单元包括由所述待测试的图案形成的一个第一光掩模，以及由每一个所述光斑引起图案形成的一个第二光掩模，以及所述待测试的图案以及每一个所述光斑引起图案通过多次曝光组合在一起。5.根据权利要求1所述的光斑评估方法，其中所述测试掩模单元包括所述待测试的图案以及每一个所述光斑引起图案，它们被形成于同一光掩模之中的互相离开足够远的不同位置上，以及所述待测试的图案以及每一个所述光斑引起图案通过多次曝光组合在一起。6.根据权利要求1所述的光斑评估方法，其中每一个所述光斑引起图案都是一个圆形的透光区域，并且被设置成环绕着所述待测试的图案。7.根据权利要求1所述的光斑评估方法，其中每一个所述光斑引起图案都是一个矩形的框状透光区域，并且被设置成环绕着所述待测试的图案。8.根据权利要求1所述的光斑评估方法，其中每一个所述光斑引起图案都包括至少两个线性的透光区域，并且被设置成让所述待测试的图案介入其间。9.根据权利要求1所述的光斑评估方法，其中在所述透光区域中，每一个所述光斑引起图案都具有多个精细的挡光图案，以及所述精细的挡光图案控制着所述透光区域的一个开口面积比。10.一种光斑补偿方法，包括第一步骤通过使用具有待测试的图案的一个测试掩模单元以及多个光斑引起图形，前者成为对在半导体器件制造过程中使用的一个校准器中所出现的光斑进行评估的一个对象，后者形成各透光区域使得在所述待测试的图案上产生局部光斑，并且与待测试的所述图形之间具有不同的距离，根据所述待测试的图案的每一个测量值与所述距离的关系，针对每一个所述光斑引起图形，对所述光斑对所述待测试的图案的影响进行量化；第二步骤根据所述距离与所述光斑引起图案的所述透光区域的一个开口面积之间的关系，对所述待测试的图案的所述测量值的变化进行量化；第三步骤在一个目标真实图案中，针对每一个固定区域，在离开所述真实图案一个固定距离的范围内，计算一个开口的面积；第四步骤将所述真实图案到所述开口的一个距离以及所述计算出来的开口面积输入到所述关系，以计算所述真实图案的所述测量值；以及第五步骤根据所述计算出来的测量值，来校正所述真实图案的设计数据。11.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：八尾輝芳，羽入勇，桐越勝義，
申请(专利权)人：富士通株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]