一种在半导体制程中探测化学溶剂泄漏的装置，包括： 一控制盒，用以接收至少一输入信号，该控制盒包括一前面板以及一电路板，该电路板用以接收至少一输入信号并触发一报警信号，该前面板包括一第一指示器，用以提供该报警信号，表示化学溶剂泄漏； 一托盘，用以搜集泄漏的化学液体，该托盘包括多个垂直侧边以及多个腿部，其中至少一腿部是可调整的，使该托盘的一个角落比该托盘的其它角落更靠近地面；以及 一传感器，用以探测化学溶剂的泄漏以及传送该输入信号至该控制盒。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种探测液体泄漏的装置，特别是一种在半导体制程中探测化学溶剂泄漏的装置。
技术介绍
在半导体制程中，多数集成电路(Integrated Circuits，ICs)是利用沉积以及蚀刻制程形成在一硅晶圆上。举例来说，步进机(stepper)是用以在各种不同制程步骤中，将光学掩模上线路布局的设计，以紫外光对光阻曝光的方式，转换到已覆盖有光阻层以及材料层的硅基板上，再利用蚀刻技术将光阻层下方不必要的薄膜材料层去除，以保留电路布局设计。其中，光学掩模或是光阻是用以保护基板或是薄膜材料层上的特殊区域不在蚀刻制程中被去除。一般而言，湿式蚀刻以及干式蚀刻均适用以转换设计至材料层；例如，干式蚀刻中的离子反应蚀刻(Reactive Ion Etching，RIE)即是利用高能量的电浆离子不断撞击材料层所欲去除的区域；而湿式蚀刻则是利用不同种类的化学腐蚀溶剂借以腐蚀所欲去除区域的材料层。其中，湿式蚀刻亦常被用于半导体制程中硅基板上的导体、半导体、以及介电层的去除、成型、以及清洁程序中。湿式蚀刻制程中所使用的化学溶剂，常有类似氢氟酸(HF)等高腐蚀性的化学溶剂，因此常造成化学溶剂的泄漏问题而危害无尘室、工厂、实验室或工作人员的环境安全质量。因而需要一种化学溶剂泄漏的探测装置。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种从而解决上述问题。这种是这样解决上述问题的 根据本专利技术提供的一种在半导体制程中探测化学溶剂泄漏的装置包括一控制盒，用以接收至少一输入信号，上述控制盒包括一前面板以及一电路板，前述电路板用以接收至少一输入信号并触发一报警信号，上述前面板包括一第一指示器，用以提供上述报警信号，表示化学溶剂泄漏；一托盘，用以搜集泄漏的化学液体，该托盘包括多个垂直侧边以及多个腿部，其中至少一腿部是可调整的，使上述托盘的一个角落比上述托盘的其它角落更靠近地面；以及一传感器，用以探测化学溶剂的泄漏以及传送上述输入信号至上述控制盒。根据本专利技术提供的另一种在半导体制程中探测化学溶剂泄漏的装置包括一控制盒，用以接收多个输入信号，该控制盒包括一前面板以及一电路板，该前面板具有多个指示器，且每一指示器对于化学溶剂泄漏都能发出报警信号，该电路板用于接收所述的输入信号，然后激活对应于所述的输入信号的指示器而发出报警信号；至少一托盘，用以搜集泄漏的化学液体，包括多个腿部，其中至少一腿部是可调整的，使上述托盘的一个角落比上述托盘的其它角落更靠近地面；以及多个传感器，分别与这些托盘中至少一个连接，用以探测化学溶剂的泄漏以及传送上述输入信号至上述控制盒。根据本专利技术提供的另一种在半导体制程中探测化学溶剂泄漏的方法包括下列步骤提供一控制盒，用以接收一代表化学溶剂泄漏的输入信号；当收到上述输入信号时，提供至少一声音或是视觉的报警信号；提供一可调整的托盘，用以接收泄漏的化学溶剂；在上述托盘还提供一传感器，用以探测化学溶剂泄漏；以上述传感器探测化学溶剂的泄漏；以及以上述传感器提供上述输入信号至上述控制盒。为进一步解释本专利技术目的、特征、和优点，以下通过一较佳实施例并配合附图进行详细说明。附图说明图1是本专利技术一实施例的控制盒示意图；图2A是图1中的控制盒的后面板；图2B是图1中的控制盒的前面板；图3是本专利技术一实施例的电路板示意图； 图4是本专利技术一实施例的装置示意图；图5是本专利技术另一实施例的装置示意图。具体实施例方式本专利技术提供一种探测液体泄漏的装置，特别是一种在半导体制程中探测用以蚀刻的化学溶剂的泄漏的装置；上述装置一般包含，一控制盒以及一具有传感器的托盘。图1是本专利技术一实施例的控制盒示意图，控制盒10是用以接收传感器探测到的溶剂泄漏事件；上述传感器通过信号线或是无线传输装置等传统信号处理结构，传送探测到的溶剂泄漏事件至控制盒10。当接收到溶剂泄漏事件信号，控制盒10会产生一声音或是视觉等至少其中一种警报以提醒工作人员。图2A是图1中控制盒10的后面板12，控制盒10由多个传感器，具有多个输入端IN1~IN6，每一输入端由不同的传感器耦合到不同的半导体制造工具，并将感测的信号通过传输线传回到控制盒10。如果是使用无线传输装置，则输入信号IN1~IN6则以信号接收器代替，接收传感器传回的信号。换句话说，控制盒10可用以监视多个半导体制造工具内的溶剂泄漏状态。图2B是图1中控制盒10的前面板14，包括一电源开关16以及多个指示器18，其中，指示器18可以是光发射二极管(light-emitting diodes，LEDs)。每一指示器18皆表示控制盒10所监视的不同半导体制造工具溶剂有无泄漏的状况；举例而言，指示器18-1监视第一半导体制造工具使用「溶剂1」进行制程，而指示器18-2监视第二半导体制造工具使用「溶剂2」进行制程。当控制盒10接收到传感器所传来的化学溶剂泄漏事件信号，指示器18会提供一声音或使灯光的警报，例如，红灯或是闪烁红灯，并伴随着警铃，以提醒工厂中的使用者。图3是控制盒10内的电路板20，用以接收并处理传感器的信号，并通过指示器18，以显示发生溶剂泄漏事件的半导体制造机台是哪一个。电路板20处理接受到的输入信号，并触发对应的指示器18产生动作，其中电路板20亦可以植入传统的电路设计中。图4是显示本专利技术实施例的托盘22，用以放置在使用湿式蚀刻制程的半导体制造机台24下方。上述机台24通常包括一腔体(图中未标示出)在其内进行湿式蚀刻制程，以及一排水设备26，用以排出腔体内的溶剂。托盘22具有大致垂直的边(未标号)、一传感器28、一管路30以及多个腿部32，其中至少一腿部32是可调整的。管路30与托盘22的一个角落连接，并具有一封闭端；在本实施例中，托盘22与管路30是一体成型。管路30的一开口端(图中未标示出)与托盘22连接，使托盘22内的液体可直接被搜集在管路内。其中，管路30所使用的材料可以是具有抗腐蚀性的特氟龙(Teflon)材料，在另一实施例中，管路30亦可以为透明材质。传感器28设置在管路30上，用以探测是否有液体进入管路30，当传感器28探测到有任何液体甚至是化学溶剂进入管路30内，则发出一信号至控制盒10以警告可能有化学溶剂泄漏发生。在此实施例中，传感器28可以设置在一粘着于托盘22的L型夹子上。托盘22的高度可以由前述的腿部32调整，使得管路30所在的角落与地面较近，则托盘22内的液体可顺势流入管路30内，则传感器28便会监视到化学溶剂泄漏。腿部32亦可用以调整使托盘22适用于不平坦的地板表面。而托盘22大致垂直的四边是用以容纳溢出于管路30的化学溶剂，且托盘22以抗腐蚀及防漏材料制作可用以搜集泄漏的化学溶剂。图5是本专利技术的另一实施例。托盘22’具有大致垂直的边(未标号)、一传感器28以及多个腿部32，其中至少一腿部32是可调整的。传感器28设置在托盘22’上，用以探测是否有液体泄漏至托盘22’。在此实施例中，传感器28可以设置在一粘着于托盘22的一个可调整的L型夹子(未标号)上。当感测寄探测到化学溶剂泄漏事件，便会将信号传回至控制盒10。此外，托盘22的高度可以由前述的腿部32调整，腿部32亦可用以调整使托盘22适用于不平坦的地板表面。而托盘22大致垂直的四边是用以容纳泄漏的化学溶剂。本专利技术已通过较佳实施例揭露如上，然而这本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种在半导体制程中探测化学溶剂泄漏的装置，包括一控制盒，用以接收至少一输入信号，该控制盒包括一前面板以及一电路板，该电路板用以接收至少一输入信号并触发一报警信号，该前面板包括一第一指示器，用以提供该报警信号，表示化学溶剂泄漏；一托盘，用以搜集泄漏的化学液体，该托盘包括多个垂直侧边以及多个腿部，其中至少一腿部是可调整的，使该托盘的一个角落比该托盘的其它角落更靠近地面；以及一传感器，用以探测化学溶剂的泄漏以及传送该输入信号至该控制盒。2.如权利要求1所述的在半导体制程中探测化学溶剂泄漏的装置，其特征在于该托盘还包括一管路，与该托盘具有的一开口相连接，用以接收泄漏的化学溶剂。3.如权利要求2所述的在半导体制程中探测化学溶剂泄漏的装置，其特征在于所述的管路与该托盘是一体成型的。4.如权利要求2所述的在半导体制程中探测化学溶剂泄漏的装置，其特征在于所述的管路是以抗腐蚀性材料制成。5.如权利要求2所述的在半导体制程中探测化学溶剂泄漏的装置，其特征在于所述的管路是透明管路。6.如权利要求1所述的在半导体制程中探测化学溶剂泄漏的装置，其特征在于还包括一贴附于该托盘的夹子，且该传感器贴附于该夹子。7.如权利要求6所述的在半导体制程中探测化学溶剂泄漏的装置，其特征在于所述的夹子是L型的。8.如权利要求1所述的在半导体制程中探测化学溶剂泄漏的装置，其特征在于所述的传感器位于该托盘下方。9.一种在半导体制程中探测化学溶剂泄漏的装置，包括一控制盒，用以接收多个输入信号，该控制盒包括一前面板以及一电路板，该前面板具有多个指示器，且每一指示器对于化学溶剂泄漏都能发出报警信号，该电路板用于接收所述的输入信号，然后激活对应于...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄川誌，钱信宏，朱崇仁，卓庆华，
申请(专利权)人：旺宏电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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