【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种晶片映射装置，特别是一种用在晶片加工设备中具有检测晶片存在或不存在的功能的晶片映射(测位)装置。本专利技术还具体涉及一种用于检测晶片在支架(货架)的每一搁板上存在与不存在的晶片加工设备，晶片被放置在这种支架上，且该支架装在清洁的容器内部，以保持晶片处于良好状态，供半导体产品、与电子部件相关的产品、光盘产品等在其制造期间使用。
技术介绍
近年来，在需要高洁净度的半导体产品制造等的晶片加工过程中，已采用了一种不使与加工过程相关的整个房间进入高洁净环境的技术。在这一技术中，在晶片制造过程的每一晶片加工设备中提供一个保持为高洁净的小空间(以下称为小环境)。其目的在于只保持在晶片加工设备中一小空间，及用于保持晶片在这些晶片加工设备之间移动期间良好状态的容器(以下称为容器)处于高洁净度。从而，节省了当与晶片处理过程的整个房间保持在高洁净环境时的设备投资与设备维护费用，从而获得和保持与晶片加工过程相关的整个房间处于高洁净环境相同的效果，并实现了有效的生产过程。在容器中，配置了具有搁板的支架，每一搁板上放置晶片。在这些搁板中，晶片被容纳在对其所指定的(分派的...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种晶片映射装置，当一个具有盒子-该盒子具有一个开口和用于保管晶片的沿垂直方向平行设置的搁板以及一个可分开地盖住所述开口的盖罩-的容器固定到一个晶片加工设备上时，该晶片映射装置用于确定每一搁板上是否有晶片存在，该晶片映射装置包括用于确定搁板上是否有晶片存在的第一传感器；用于支承该第一传感器的映射框架；用于支承该第一传感器的可移动部分，在该传感器插入该盒子的情况下，该可移动部分可沿垂直方向穿过该映射框架运动；具有以预定间隔设置的指示装置的同步板；和设置成在其间夹着该指示装置的第二传感器，其中，该同步板和该第二传感器根据该传感器的垂直运动产生一对应于每个所述搁板的信号。2.根据权利要求1所述的晶片映射装置，其特征是，所述可移动部分和所述第二传感器安置在所述开口的下边缘的下侧，并设置在一个基本封闭的空间内。3.根据权利要求1所述的晶片映射装置，其特征是，所述可移动部分与一个门相连，该门保持所述容器的盖罩，使...
【专利技术属性】
技术研发人员：五十岚宏，冈部勉，宫嶋俊彦，
申请(专利权)人：TDK株式会社，
类型：发明
国别省市：
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