用于输送灌溉液体的喷洒器装置和使用这种装置进行输送的方法制造方法及图纸

一种用于为基于重力的枢轴或线性灌溉系统输送灌溉液体的喷洒器装置(1)，包括支撑结构(6)，该支撑结构(6)具有带有限定纵向轴线(L)的喷嘴(7)的第一部分(6B)，该喷嘴(7)用于产生液体射流。该支撑结构(6)具有带有遮挡板(8)的第二部分(6C)，该遮挡板(8)相对于第二部分(8)枢转并且面向喷嘴(7)，并且该支撑结构(6)包括驱动装置，该驱动装置具有至少一个第一磁体，该第一磁体由于由流过喷嘴(7)的液体产生的负压而以往复振荡运动的方式移动；该驱动装置被构造成使遮挡板(8)移动，并迫使其以围绕纵向轴线(L)的经过预定角度的往复振荡运动的方式枢转，从而将液体输送到土壤的扇形区域上。一种为使用这种喷洒器装置(1)的基于重力的枢轴或线性灌溉系统输送灌溉液体的方法。力的枢轴或线性灌溉系统输送灌溉液体的方法。力的枢轴或线性灌溉系统输送灌溉液体的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于输送灌溉液体的喷洒器装置和使用这种装置进行输送的方法


[0001]本专利技术涉本专利技术一般应用于灌溉系统领域，且特别是涉及一种用于灌溉系统的喷洒器装置。
[0002]本专利技术还涉及一种输送灌溉液体喷洒器装置的方法。

技术介绍

[0003]系统在包括自走式承重桁架的灌溉系统领域中早已为人所知，该桁架经由一个或更多个机动轮沿着待灌溉的土壤的一部分移动。
[0004]该系统通常包括用于供给灌溉液体的供给管线，该供给管线连接至用于将液体分配在土壤上的多个中央喷洒器装置。
[0005]通常，这种装置包括带有配件的支撑结构，该配件连接至具有液体射流分配喷嘴的供给管线。
[0006]该装置还包括遮挡板，该遮挡板面向喷嘴并且适于拦截来自供给管线的液体的射流并使其径向转向以将其均匀地输送到待灌溉的土壤的圆形区域。
[0007]通常，灌溉系统包括至少一个上述类型的喷洒器装置，该喷洒器装置安装在其端部以产生半圆形水射流以增加该系统的灌溉面积。
[0008]通常，这种类型的装置被称为“端部喷雾”，并且包括具有高度雾化的短程扇形射流，且由于大量液体被风吹走而因此效率较低。
[0009]此外，液体分配不是最佳的，且灌溉液体在每个移动射流的末端处大量下落，特别是在低压下，导致高施用强度并且可能有损坏土壤和/或径流条件的风险。
[0010]为了至少部分地消除这个缺点，已经开发了喷洒器装置，其中灌溉液体通过一系列旋转的通道径向分配。
[0011]EP1880768公开了一种用于上述类型的灌溉系统的液体喷洒器装置，其具有带有上部部分的支撑结构，该上部部分具有喷嘴，该喷嘴适于将灌溉液体沿纵向方向引导至输送板，该输送板布置在喷嘴下面并通过液体压力旋转。
[0012]也就是说，这种已知的装置是摆动装置，这意味着板自身旋转并且围绕与旋转轴线倾斜的轴线进行章动运动。
[0013]支撑结构和板具有适于彼此相互作用的相应表面，并且具有连结至该结构的第一磁体和连结至输送板并靠近第一磁体放置的第二磁体。
[0014]第一磁体和第二磁体安装在相反的位置，使得当灌溉液体撞击喷洒器装置时，磁性排斥力促进触发喷洒器装置的旋转。
[0015]这种布置的第一个缺点是，发射装置各部分的接触面暴露于磨损，这导致板产生震荡式振动并最终导致装置失效，且液体的射流在待灌溉土壤的区域上分配不均匀。
[0016]此外，该方案的另一个缺点是，由于这些接触面的磨损，需要定期更换发射部件，这会增加系统的维护成本。
[0017]另外，在扩散器装置的定期维护期间，该系统停止运行，并且土壤在给定时间内保持未灌溉，这将减少作物的生长。
[0018]为了至少部分地消除这些缺点，已经开发了喷洒器装置，其包括灌溉液体偏转元件以避免对已经被该系统结构的中央喷洒器装置灌溉的土壤区域进行灌溉。
[0019]然而，这种类型的遮挡板会导致灌溉液体落入其下方并形成池，从而阻碍了作物优化所需的均匀灌溉。
[0020]技术问题
[0021]考虑到现有技术，本专利技术所要解决的技术问题是在有限角度的区域内对土壤进行灌溉，以获得具有降低的施用强度的均匀的液体施用。

技术实现思路

[0022]本专利技术的目的是通过如下方式来消除上述缺点：提供一种用于基于重力的灌溉系统的液体喷洒器装置和一种使用液体喷洒器装置输送灌溉液体的方法，其是高效且相对成本低廉的。
[0023]本专利技术的一个特定目的是提供如上文所述的一种液体喷洒器装置和一种输送灌溉液体的方法，其可以将液体分配在土壤的扇形部分中。
[0024]本专利技术的又一目的是提供一种如上文所述的液体发射装置，其具有非常长的寿命。
[0025]本专利技术的另一目的是提供如上所述的一种喷洒器装置和一种输送灌溉液体的方法，其允许以较低的施用强度均匀施用液体。
[0026]如下文更好地解释的，这些和其他目的通过如权利要求1所限定的用于基于重力的枢转或线性灌溉系统的液体喷洒器装置来实现，该液体喷洒器装置包括支撑结构，该支撑结构具有：第一部分，其具有限定纵向轴线以产生液体的射流的喷嘴；以及第二部分，其具有相对于第二部分枢转并面向喷嘴的遮挡板。
[0027]在本专利技术的一个特殊方面中，支撑结构包括驱动装置，该驱动装置具有至少一个第一磁体，该第一磁体由于由流过喷嘴的液体产生的负压而以往复振荡运动的方式移动；该驱动装置适于使板移动并迫使其以围绕纵向轴线的经过预定角度的往复振荡运动的方式枢转，以将液体输送到土壤的扇形区域上。
[0028]该板包括面向驱动装置的至少一个第一磁体的至少一个第二磁体，第一磁体和第二磁体具有相应的一致且相互吸引的极性。
[0029]另外，该装置的支撑结构在喷嘴上游具有配件，该配件用于连接至内径比喷嘴内径大的液体供应管线以形成能够产生负压的较窄部分。
[0030]通过这种特征组合，喷洒器装置可以将液体分配在土壤的扇形区域上。
[0031]本专利技术还涉及一种使用扩散器装置为基于重力的枢轴或线性灌溉系统输送灌溉液体的方法，如权利要求14中所限定。
[0032]根据从属权利要求获得本专利技术的有利实施方式。
附图说明
[0033]本专利技术的其他特征和优点将在阅读以下用于基于重力的枢轴或线性灌溉系统的
液体喷洒器装置以及使用该喷洒器装置为基于重力的枢轴或线性灌溉系统输送灌溉液体的方法的几个优选非排他性实施方式的详细描述后变得更加明显，这些实施方式在随附附图的帮助下被描述为非限制性示例，在附图中：
[0034]图1是结合了本专利技术的液体喷洒器装置的基于重力的枢轴灌溉系统的立体示意图；
[0035]图2是本专利技术液体喷洒器装置第一实施方式的立体图；
[0036]图3是图2的装置的沿轴向竖向平面III
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III截取的立体图；
[0037]图4是图2的装置的分解立体图；
[0038]图5是图2涉外装置的沿轴向竖向平面V
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V截取的侧视图；
[0039]图6A是图2的装置在第一操作步骤中的俯视图；
[0040]图6B是图2的装置在第二操作步骤中的俯视图；
[0041]图7A是图6A的装置的沿剖面VIIA
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VIIA部分截取的前视图；
[0042]图7B是图6B的装置的沿剖面VIIB
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VIIB部分截取的前视图；
[0043]图8A是图7A的装置的沿剖面VIIIA
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VIIIA部分截取的俯视图；
[0044]图8B是图7B的装置的沿剖面VIIIB
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VIIIB部分截取的俯视图；
[0045]图9是图2的装置的细节的正面、侧面和剖面立体图；
[0046]图10是图2的装置另外的细节的前视图；
[0047]图11是图2的装置的流动控制系统的示意图；
[0048]图11A至11D是图11的流本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种喷洒器装置(1)，所述喷洒器装置(1)用于在枢轴类型或线性类型的基于重力的枢轴或线性灌溉系统(4)中输送灌溉液体(F)，所述喷洒器装置(1)包括支撑结构(6)，所述支撑结构(6)具有限定纵向轴线(L)的至少一个第一喷嘴(7)，所述至少一个第一喷嘴(7)用于产生液体(F)的射流，所述支撑结构(6)具有遮挡板(8)，所述遮挡板(8)相对于所述支撑结构(6)枢转并且面向所述喷嘴(7)，其特征在于，所述喷洒器装置包括驱动装置(13)，所述驱动装置(13)具有至少一个第一磁体(14)，所述第一磁体(14)由于由流过所述至少一个第一喷嘴(7)的液体(F)产生的负压(D)而以往复直线运动(Δ)的方式移动，所述驱动装置(13)能够使所述板(8)移动并且向所述板(8)施加围绕与所述纵向轴线(L)平行的轴线(X1)的经过预定角度(γ)的往复枢转(β)，以将所述液体(F)分配在土壤(G)的扇形区域(S)上。2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述驱动装置(13)包括面向所述至少一个第一磁体(14)的至少一个第二磁体(15)，所述第一磁体(14)和所述第二磁体(15)具有相应的一致且相互吸引的极性(P2、P1)。3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述驱动装置(13)包括作用在所述板(8)上并且与所述第一磁体(14)相关联的致动器构件(16)，所述致动器构件(16)滑动地容纳在形成于所述支撑结构(6)中的第一腔室(17)中，所述第一腔室(17)具有用于所述致动器构件(16)的相应的第一限位止动表面(17A、17B)。4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，所述驱动装置(13)包括阀元件(18)，所述阀元件(18)具有面向所述致动器构件(16)的所述第一磁体(14)的第三磁体(19)，所述阀元件(18)滑动地容纳在第二腔室(20)中，所述第二腔室(20)形成在所述支撑结构(6)中并且包括用于所述阀元件(18)的相应的第二限位止动表面(20A、20B)。5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，所述阀元件(18)的所述第三磁体(19)面向所述致动器构件(16)的所述第一磁体(14)，所述第三磁体(19)和所述第一磁体(14)具有相应的相互排斥的极性(P3、P1)，所述阀元件(18)由于所述第一磁体(14)与所述第三磁体(19)之间的排斥力而以与所述致动器构件(16)的往复振荡运动(Δ1)相反的往复直线运动(Δ2)的方式移动。6.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述喷洒器装置包括用于连接至供给管线的配件(11)，所述供给管线用于在压力下供给所述液体(F)，并且所述供给管线具有比所述喷嘴(7)的内径(d1)大的内径(d2)。7.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述喷洒器装置包括第二喷嘴(12)，所述第二喷嘴(12)连接至所述配件(11)并且具有用于产生文丘里管引起的负压(D)的较窄部分。8.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述第二喷嘴(12)具有入口(12')和出口(12”)，所述出口具有比所述第一喷嘴(7)的内径(d2)小的内径(d3)。9.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，进气歧管(12A)位于所述第二喷嘴(12)的外围处以便产生流动限制和文丘里管引起的负压。10.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，所述支撑结构(6)包括用于在所述进气歧管(12A)与所述第二腔室(20)之间建立流体连通的主通道(21)；所述致动器构件(16)和所述阀元件(18)通过所述主通道(21)中的所述负压(D)以往复振荡运动(Δ1、Δ2)的方式在所
述致动器构件(16)和所述阀元件(18)各自的腔室(17、20)内于所述致动器构件(16)和所述阀元件(18)各自的限位止动表面(17A、17B；20A、20B)之间自由横向滑动。11.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：阿尔诺，
申请(专利权)人：科米特奥地利有限责任公司，
类型：发明
国别省市：