红外传感器及其制造方法技术

技术编号:3208546 阅读:161 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种红外传感器(2),包括多个具有红外光结构的吸收层(20)的像素(12),该结构层处于传感器的上表面上。根据本发明专利技术,吸收层(20)是由胶质微粒形成的,尤其是浸入或凝结在粘结剂中的石墨小薄片或金属氧化物。设计形成结构层要同时利用常规技术沉积含有胶质微粒的分散体吸收层,然后再局部去除如此形成的吸收层,以便获得多个基本吸收区,这些吸收区分别与多个像素连接。(*该技术在2021年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及红外传感器,它包括一个结构化设计的光吸收层,也就是说,通过形成多个红外光基本吸收区,该吸收层局部覆盖传感器的基片,其中这些吸收区分别与构成该传感器的多个像素连接。众所周知,为制得一种具有良好红外光吸收系数的黑色结构在几个毫巴的氮气氛下利用真空热沉积金属的方式形成这类具有一定结构的吸收层。例如,涉及到“黑”金或“黑”银。该吸收层的形成技术有至少两个缺点。首先,所需设备比较昂贵,这就增加了传感器的生产成本。第二,“黑”金属沉积有时伴随产生基片上沉积层的粘附问题。公知的还有利用电化学生长法形成这类经结构化的吸收层,该方法用强电流密度进行铂层的电化学生长,以便可实现枝状晶体生长,这就使生长层具有了黑色。在此可用“黑”铂一词。这后一种公知方法也有一些缺点。首先所用的铂盐比较贵重。然后,枝状晶体生长条件与基片表面态密切相关。结构层就设计在该基片上。因此,如果基片表面不是非常均匀,则得到按照各个范围各不相同生长,这就导致了根据一个传感器或批量生产的多个传感器的像素而具有不同的吸收系数。对工业生产来说这是特别有害的。最后,为了可以在各个相应的单元区内沉积,电化学方法需要将一个传感本文档来自技高网...

【技术保护点】
制备至少一种红外传感器(2)的方法,其中有一个在基片(24)上表面上形成结构性红外光吸收层的步骤,在该基片中局部地形成了所述至少一个红外传感器的多个像素(12),其特征在于,在该结构吸收层的形成步骤中,沉积一种胶质微粒的分散体,从而形成一种覆盖所述基片的吸收层,然后局部地去除所述吸收层以便形成多个基本吸收区(20),它们分别与所述多个像素连接并且确定所述结构层。

【技术特征摘要】
1.制备至少一种红外传感器(2)的方法,其中有一个在基片(24)上表面上形成结构性红外光吸收层的步骤,在该基片中局部地形成了所述至少一个红外传感器的多个像素(12),其特征在于,在该结构吸收层的形成步骤中,沉积一种胶质微粒的分散体,从而形成一种覆盖所述基片的吸收层,然后局部地去除所述吸收层以便形成多个基本吸收区(20),它们分别与所述多个像素连接并且确定所述结构层。2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述结构层的形成步骤(“Lift-off”)包括以下几个分步骤-沉积一种可形成所述基片的上部层的光敏层;-利用光刻方法确定出上述多个基本区;-沉积由胶质微粒形成的上述吸收层;-加入溶剂以便溶解处于所述基本区以外的上述光敏层,同时去除这些单元区以外的上述吸收层。3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述结构层的形成步骤包括以下几个分步骤-把具有多个开孔的掩模放到所述基片上,这些开孔确定出所述几个基本吸收区;-沉积由胶质微粒形成的所述吸收层;-去除所述掩模使得局部去除上述基本上是均匀的层,以便只让这种层保留在多个所述基本吸收区中。4.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员:M科利A赛费尔特B维林
申请(专利权)人:IR微系统股份有限公司
类型:发明
国别省市:CH[瑞士]

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