一种打光均匀的同轴光源制造技术

本实用新型专利技术公开了一种打光均匀的同轴光源，包括灯板、位于灯板一侧的分光镜以及位于灯板和分光镜之间的漫射板。在灯板上，沿远离打光工位的方向划分有至少两个区域，区域上设置有多个灯珠；越是远离打光工位的区域，其上的灯珠密度越大；和/或越是远离打光工位的区域，其上的灯珠亮度越大。本实用新型专利技术通过将灯板划分为至少两个区域，并通过改变不同区域的灯珠密度和/或灯珠亮度，实现高均匀性打光。实现高均匀性打光。实现高均匀性打光。

【技术实现步骤摘要】
一种打光均匀的同轴光源


[0001]本技术属于光源
，尤其涉及一种打光均匀的同轴光源。

技术介绍

[0002]如图1所示，为现有技术提供的一种同轴光源。灯珠11发出的灯光分别经过漫射板12和分光镜13，然后照射至其下方的打光工位。但是，该同轴光源具有如下缺点：
[0003]由于灯珠11为等间距分布，且灯珠11的亮度一致，因此在打光工位上，靠近灯板的工位上的灯光亮度大于远离灯板的工位上的灯光亮度，导致打光工位上整体打光不均匀。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种打光均匀的同轴光源，以解决上述技术问题。
[0005]为达此目的，本技术采用以下技术方案：
[0006]一种打光均匀的同轴光源，包括灯板、位于所述灯板一侧的分光镜以及位于所述灯板和所述分光镜之间的漫射板；
[0007]在所述灯板上，沿远离打光工位的方向划分有至少两个区域，所述区域上设置有多个灯珠；
[0008]越是远离所述打光工位的所述区域，其上的灯珠密度越大；和/或越是远离所述打光工位的所述区域，其上的灯珠亮度越大本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种打光均匀的同轴光源，包括灯板(10)、位于所述灯板(10)一侧的分光镜(13)以及位于所述灯板(10)和所述分光镜(13)之间的漫射板(12)，其特征在于：在所述灯板(10)上，沿远离打光工位的方向划分有至少两个区域，所述区域上设置有多个灯珠(11)；越是远离所述打光工位的所述区域，其上的灯珠(11)密度越大；和/或越是远离所述打光工位的所述区域，其上的灯珠(11)亮度越大。2.根据权利要求1所述的打光均匀的同轴光源，其特征在于，包括：调光器，所述调光器分别...

【专利技术属性】
技术研发人员：周杰，
申请(专利权)人：广东奥普特科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：