图像处理程序、图像处理装置以及图像处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术的目的在于提供一种用于实现高速且虚报少的芯片对数据库检查的计算机程序以及使用该计算机程序的半导体检查装置。为了实现上述目的，提出了一种计算机程序以及使用了该计算机程序的半导体检查装置，该计算机程序具备：编码器层(S302)，其构成为决定设计数据图像的特征；以及解码器层(S303)，其根据编码器层输出的特征量，基于对检查对象图案进行拍摄而得到的图像(检查对象图像)的变化，生成各像素的亮度值的统计量，将从解码器层得到的与亮度值相关的统计量与检查对象图像进行比较，检测图像上的缺陷区域，由此能够实现虚报少的芯片对数据库检查。芯片对数据库检查。芯片对数据库检查。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】图像处理程序、图像处理装置以及图像处理方法


[0001]本专利技术涉及对图像数据进行处理的图像处理技术。其中特别涉及一种能够在使用图像数据的检查中应用的图像处理技术。检查对象的一例包含半导体电路。

技术介绍

[0002]当前，作为使用了图像数据的检查，通过将作为检查对象的试样的设计数据与拍摄检查对象而得到的拍摄数据进行比较来实施检查。作为物品的一例，具有检查半导体电路的物品。
[0003]随着半导体电路图案的细微化，曝光装置的分辨率达到极限，难以在晶片上形成如设计那样的电路图案。在半导体晶片上形成的电路图案的配线宽度偏离设计值，或者容易在图案前端产生缩退，或者容易产生图案的角部或根部的形状变形这样的不良。这样的缺陷被称为系统缺陷，由于在所有芯片中共通地产生该系统缺陷，因此难以通过将检查对象的芯片和其接近芯片进行比较来检测缺陷的方法(芯片对芯片检查)实施检测。
[0004]与此相对，有一种检测缺陷的方法(芯片对数据库检查)，不将接近芯片而是将设计数据图像与检查对象的芯片进行比较来检测缺陷，其中，设计数据图像是对CAD数据等设计数据本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种图像处理程序，其用于使用试样的基准数据和与所述试样相关的输入数据对该试样进行检查，其特征在于，所述图像处理程序执行以下步骤：接收所述基准数据；基于所述基准数据计算与所述试样有关的特征量；以及基于所述特征量，计算用于表示该输入数据可取得的值的概率分布的统计量。2.根据权利要求1所述的图像处理程序，其特征在于，所述图像处理程序还执行以下步骤：判断对用于计算所述特征量的参数和用于计算所述统计量的参数进行学习的必要性，在判断为需要进行所述学习的情况下，所述图像处理程序执行以下步骤：接收所述输入数据；将所述统计量与所述输入数据进行比较；以及根据所述比较的结果来变更用于计算所述特征量的参数以及用于计算所述统计量的参数，在判断为不需要进行所述学习的情况下，所述图像处理程序执行以下步骤：将用于计算所述特征量的参数以及用于计算所述统计量的参数作为模型数据进行保存。3.根据权利要求1所述的图像处理程序，其特征在于，所述图像处理程序还执行以下步骤：接收所述输入数据；将所述统计量与所述输入数据进行比较；以及使用所述比较的结果来进行所述试样的评价。4.根据权利要求3所述的图像处理程序，其特征在于，所述试样的评价是针对所述试样的缺陷检查或者与过程变动相伴的所述试样的形状偏差评价。5.根据权利要求1～4中的任意一项所述的图像处理程序，其特征在于，表示所述输入数据的值是表示所述试样的形状或物理性质的值。6.根据权利要求3或4所述的图像处理程序，其特征在于，所述图像处理程序还执行显示所述统计量或所述评价的结果的步骤。7.一种图像处理装置，其用于使用试样的基准数据和与所述试样相关的输入数据对该试样进行检查，其特征在于，具备：接收所述基准数据的单元；基于所述基准数据计算与所述试样有关的特征量的单元；以及基于所述特征量，计算用于表示该输入数据可取得的值的概率分布的统计量的单元。8.根据权利要求7所述的图像处理装置，其特征在于，所述图像处理装置还具有以下单元：判断对用于计算所述特征量的参数和用于计算所述统计量的参数进行学习的必要性的单元；接收所述输入数据的单元；
将所述统计量与所述输入数据进行比较的单元；以及变更用于计算所述特征量的参数以及用于计算所述统计量的参数并进行保存的单元，在判断为需要进行所述学习的情况下，进行所述比较的单元将所述统计量与所述输入数据进行比较，变更所述参数的单元变更用于计算所述特征量的参数以及用于计算所述统计量的参数，在...

【专利技术属性】
技术研发人员：大内将记，筱田伸一，丰田康隆，弓场龙，新藤博之，
申请(专利权)人：株式会社日立高新技术，
类型：发明
国别省市：