高品质因子的电感和制造方法技术

一种高品质因子的电感，适用于一基底，包括：一介电层，形成于基底上方，其具有一空气隙；一支撑柱，形成于空气隙中；以及一金属线圈，形成于空气隙中，并且借由支撑柱用以支撑。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是有关于高品质因子的电感，特别是有关于半导体集成电路中的电感。
技术介绍
在GHz的射频CMOS集成电路中，电感可以用在芯片嵌入式(on-chip)的匹配电路、被动滤波器、电感负载、变压器、压控震荡器。其中最重要的性能就是品质因数，也就是品质因子，影响品质因子的因素有，金属线圈的欧姆损耗、基底的损耗、电感的寄生电容。在过去的发展中，已经提出许多高品质因子电感，例如使用高导电率的金属层制造金属线圈，以减少欧姆损耗。使用多层金属以增加电感的有效厚度，以减少高频的基底损耗。使用低损耗的基底材料，以减少高频的基底损耗。使用厚氧化层隔绝浮接电感和基底，以减少基底损耗。然而上述电感制造方法都不适用于标准的CMOS制程，需要额外的制造程序，造成成本增加，品质不容易控制。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术提出一种高品质因子的电感，适用于一半导体基底，其上方具有一介电层，并且具有一空气隙于介电层中，包括一支撑柱，位于空气隙之中；以及一金属线圈，位于空气隙中，并且借由支撑柱用以支撑。本专利技术另提出一种形成高品质因子电感的方法，其步骤包括提供一半导体基底，其表面具有第一介电层；形成一支撑柱于本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高品质因子的电感，其特征在于：包括：　　　　一基底；　　　　一介电层，具有一空气隙，位于于上述半导体基底上；　　　　一支撑柱，位于于上述空气隙中；以及　　　　一金属线圈，位于上述空气隙中，并且借由上述支撑柱来支撑。

【技术特征摘要】
1.一种高品质因子的电感，其特征在于包括一基底；一介电层，具有一空气隙，位于于上述半导体基底上；一支撑柱，位于于上述空气隙中；以及一金属线圈，位于上述空气隙中，并且借由上述支撑柱来支撑。2.根据权利要求1所述的高品质因子电感，其特征在于上述支撑柱是以多层金属内联机完成。3.根据权利要求1所述的高品质因子电感，其特征在于上述基底是硅基底。4.根据权利要求1所述的高品质因子电感，其特征在于上述介电层是一二氧化硅层。5.一种高品质因子电感的制造方法，其步骤包括(a)提供一基底；(b)形成第一介电层于上述基底上；(c)形成一支撑柱于上述第一介电层中；(d)形成一金属线圈于上述第一介电层中，并且连接于上述支撑柱；(e)定义一焊垫窗口于上述金属线圈的上方；以及(f)蚀刻上述第一介电层，形成一空气隙上述金属线圈周围。6.根据权利要求5所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈重辉，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]