【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及在例如半导体器件、液晶显示面板等的制造过程中的清洗、剥离、显影、蚀刻、电镀、研磨等的湿式处理工序中，适合用于向被处理物上提供处理液的湿式处理装置中使用的技术。
技术介绍
在半导体器件、液晶显示面板等电子机器的领域中，在其制造过程中，对作为被处理物的半导体基板或玻璃基板进行清洗处理的工序是必需的。在清洗工序中，为了除去制造工序中的各种的除去对象物质，进行使用超纯水、电解离子水、臭氧水、氢水等各种处理液的清洗操作，这些处理液是从湿式处理装置的喷嘴向基板上供给的。在特开平11-33506号公报(专利文献1)中记载有湿式处理装置的一个例子。所述专利文献1中所记述的湿式处理装置是向被处理基板上供应处理液并进行湿式处理时使用的装置，具有以下的构成，即，在一端侧具有用于导入处理液的导入口的导入通路、在另一端侧具有用于将使用后的处理液向外部排出的排出口的排出通路、为了使处理用流体接触被处理基板而设置在导入口和排出口之间的液体处理路。采用以往的湿式处理装置等时，在供应了处理液的部分以外的部分不使处理液接触，而可以从被处理基板上除去，因此可以实现省液型的湿式处理装置...
【技术保护点】
一种湿式处理装置，具备由具有与被处理物对置的对置面的处理部、将处理液导入该被处理物和所述对置面之间的空间中并与所述处理部的一方相邻的处理液导入部、从所述空间回收处理液并与所述处理部的另一方相邻的处理液回收部构成的喷嘴，其特征是，在所述处理液导入部中，具有以下部分，即， ２个以上供给用的处理液流通路、 被连接在各处理液流通路的下游侧，同时，在所述对置面侧上具有开口部的１个供给用的处理液流通配管、 被配置于所述处理液流通路和所述处理液流通配管之间，并使选自所述多个处理液流通路中的１个处理液流通路连接在所述处理液流通配管上的导入侧的切换机构。
【技术特征摘要】
JP 2003-2-5 2003-0284891.一种湿式处理装置，具备由具有与被处理物对置的对置面的处理部、将处理液导入该被处理物和所述对置面之间的空间中并与所述处理部的一方相邻的处理液导入部、从所述空间回收处理液并与所述处理部的另一方相邻的处理液回收部构成的喷嘴，其特征是，在所述处理液导入部中，具有以下部分，即，2个以上供给用的处理液流通路、被连接在各处理液流通路的下游侧，同时，在所述对置面侧上具有开口部的1个供给用的处理液流通配管、被配置于所述处理液流通路和所述处理液流通配管之间，并使选自所述多个处理液流通路中的1个处理液流通路连接在所述处理液流通配管上的导入侧的切换机构。2.根据权利要求1所述的湿式处理装置，其特征是，在所述处理液回收部中，具有以下部分，即，2个以上回收用的处理液流通路、被连接在各回收用的处理液流通路的上游侧，同时，在所述对置面上具有开口部的1个回收用的处理液流通配管、被配置于所述回收用的处理液流通路和所述回收用的处理液流通配管之间，并使所述回收用的处理液流通配管连接在选自2个以上的所述回收用的处理液流通路中的1个处理液流通路上的回收侧的切换机构。3.根据权利要求2所述的湿式处理装置，其特征是，在所述处理液回收部中，具有以下部分，即，2个以上和所述供给用的处理液流通路数目相同的所述回收用的处理液流通路、1个混合处理液回收用的处理液流通路、被连接在所述回收用的各处理液流通路的上游侧，同时，在所述对置面上具有开口部的1个回收用的处理液流通配管、被配置于所述回收用的各处理液流通路和所述回收用的处理液流通配管之间，并使所述回收用的处理液流通配管连接在选自所述回收用的各处理液流通路中的1个处理液流通路上的回收侧的切换机构。4.根据权利要求2所述的湿式处理装置，其特征是，在所述导入侧的切换机构的上游侧或所述回收侧的切换机构的下游侧中至少一方中，具有对施加在所述各切换机构上的处理液的液压进行遮断的压力遮断阀。5.根据权利要求3所述的湿式处理装置，其特征是，在所述导入侧的切换机构的上游侧或所述回收侧的切换机构的下游侧中至少一方中，具有对施加在所述各切换机构上的处理液的液压进行遮断的压力遮断阀。6.根据权利要求2所述的湿式处理装置，其特征是，具有对所述导入侧的切换机构的切换动作的定时和所述回收侧的切换机构的切换动作的定时分别单独控制的控制机构。7.根据权利要求1...
【专利技术属性】
技术研发人员：三森健一，芳贺宣明，
申请(专利权)人：阿尔卑斯电气株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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