一种光学探测控制方法及装置、存储介质制造方法及图纸

技术编号:32080982 阅读:28 留言:0更新日期:2022-01-29 17:57
本发明专利技术公开了一种光学探测控制方法,包括:在待测对象和光学探测器件间依次设置透明显示屏、液晶调光膜,光学探测器件的入光面面向液晶调光膜;在开启光学探测模式的情况下,控制透明显示屏和液晶调光膜交替开关;在透明显示屏关闭且液晶调光膜开启的期间,控制光学探测器件对待测对象进行光学探测。本发明专利技术还提出了一种光学探测控制装置和一种计算机可读存储介质,通过实施上述方案,不仅保证了透明显示屏的显示效果,而且提高了光学探测的准确性。性。性。

【技术实现步骤摘要】
一种光学探测控制方法及装置、存储介质


[0001]本专利技术涉及屏下摄像头
,尤其涉及一种光学探测控制方法及装置、存储介质。

技术介绍

[0002]目前,在手机、平板电脑等终端中,可以将摄像头和传感器等器件隐藏在的机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)屏幕下,从而带来更更佳的视觉效果和用户体验。
[0003]在现有技术中,将摄像头和传感器布置在屏幕下时,可以将摄像头部分屏幕做成透明,需要进行拍摄时关闭屏幕上相应部分的显示,转换为透明屏幕,也可以将摄像头所在区域的屏幕使用高透光率的材质,使得光线可以透过屏幕到达摄像头中。
[0004]然而,采用上述方案,在进行拍摄时摄像头相应部分屏幕无法显示,且为了避免光线干扰拍摄,需要将摄像头周围的屏幕都关闭,此外,使用高透光率的材质不仅会影响屏幕的显示效果,屏幕的光线也会干扰摄像头成像。

技术实现思路

[0005]为解决上述技术问题,本专利技术期望提供一种光学探测控制方法及装置、存储介质,通过控制透明显示屏和液晶调光膜交替开关,本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学探测控制方法,其特征在于,包括:在待测对象和光学探测器件间依次设置透明显示屏、液晶调光膜,所述光学探测器件的入光面面向所述液晶调光膜;在开启光学探测模式的情况下,控制所述透明显示屏和所述液晶调光膜交替开关;在所述透明显示屏关闭且所述液晶调光膜开启的期间,控制所述光学探测器件对所述待测对象进行光学探测。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述控制所述透明显示屏和所述液晶调光膜交替开关,包括:当控制所述透明显示屏关闭且所述液晶调光膜开启的持续时长达到第一预设时长时,控制所述透明显示屏开启且所述液晶调光膜关闭;当控制所述透明显示屏开启且所述液晶调光膜关闭的持续时长达到第二预设时长时,控制所述透明显示屏关闭且所述液晶调光膜开启。3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述控制所述透明显示屏开启且所述液晶调光膜关闭,包括:控制所述透明显示屏的发光强度从预设低发光强度上升至预设高发光强度,以开启所述透明显示屏;控制所述液晶调光膜的透光率从预设高透光率下降至预设低透光率,以关闭所述液晶调光膜。4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述控制所述透明显示屏关闭且所述液晶调光膜开启,包括:控制所述透明显示屏的发光强度从预设高发光强度下降至预设低发光强度,以关闭所述透明显示屏;控制所述液晶调光膜的透光率从预设低透光率上升至预设高透光率,以开启所述液晶调光膜。5.根据权利要求3或4所述的方法,其特征在于,所述预设高发光强度,为基于标准发光强度确定的发光强度,且高于所述标准发光强度;所述标准发光强度为关闭所述光学探测模式的情况下所述透明显示屏的发光强度。6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述在所述透明显示屏关闭且所述液晶调光膜开启的期间,控制所述光学探测器件对所述待测对象进行光学探测,包括:在所述透明显示屏关闭且所述液晶调光膜开启的期间,控制所述光学探测器件接收透过所述透明显示屏和所述液晶调光膜的入射光线,并利用所述入射光线进行信号处理。7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述在所述透明显示屏关闭且所述液晶调光膜开启的期间,控制所述光学探测器件对所述待测对象进行光学探测之前,所述方法还包括:在所述液晶调光膜远离所述透明显示屏的一侧设置光源器件,所述光源器件的发射面面向所述液晶调光膜;相应的,所述在所述透明显示屏关闭且所述液晶调光膜开启的期间,控制所述光学探测器件对所述待测对象进行光学探测,包括:在所述透明显示屏关闭且所述液晶调光膜开启的期间,控制所述光源器件透过所述透
明显示屏和所述液晶调光膜向所述待测对象发出探测光线;控制所述光学探测器件接收透过所述透明显示屏和所述液晶调光膜,由所述待测对象针对所述探测光线的返回光线,并利用所述返...

【专利技术属性】
技术研发人员:谢宇
申请(专利权)人:中国移动通信集团有限公司
类型:发明
国别省市:

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