【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种微流模块，应用于与微机电相关的制造产业，特别是一种具有流场方向一致性的微流模块。
技术介绍
现今社会科技的进步一日千里，带给人们更为便利的生活，尤以在微机电(MEMS，Micro-Electro Mechanical Systems)方面的研究发展。近年来国内半导体以及信息电子产业持续蓬勃发展，已成为我国产品出口的主力。由于电子产品不断地走向“轻薄短小”，连带影响其使用的各类元组件及加工设备的精度及尺寸也日趋要求严苛，因此也促成了另一波制造技术上的革命，朝向超精密化、高密度化、高速化、知能化、微小化等方向发展，进而衍生出为廿一世纪产业所需求的“下一代制造技术”(Next Generation Manufacturing Technology)。下一代制造技术中主要发展方向为两大项目纳米技术(Nano Technology)、微机电系统技术。前者为加工精度位于102nm～10-1nm范围内的制造技术；后者则为应用纳米及微米加工技术研制微细元件及组件，并整合微电子电路与控制器的系统。其中微流体的相关技术，常见微流体的喷头如包含喷墨印头(InkJe...
【技术保护点】
一种微流模块，用以导引一流体补充槽所供给的工作流体，其特征在于，该微流模块包含有： 一微流体流通道阻障层，包含有： 一流体喷射腔体，开设于该微流体流通道阻障层内，用以储存待喷射的工作流体； 一流体进入通道，以直线或几何函数的渐缩型式开设于该微流体流通道阻障层的一侧，使得该流体进入通道的两端分别具有较大横截面的进入端口与较小横截面的输出端口，且该输出端口与该流体喷射腔体相连通； 一流体输出通道，以直线或几何函数的渐缩型式开设于该微流体流通道阻障层的另一侧，使得该流体进入通道的两端分别具有较大横截面的进入端口与较小横截面的输出端口，且该进入端口与该流体喷...
【技术特征摘要】
1.一种微流模块，用以导引一流体补充槽所供给的工作流体，其特征在于，该微流模块包含有一微流体流通道阻障层，包含有一流体喷射腔体，开设于该微流体流通道阻障层内，用以储存待喷射的工作流体；一流体进入通道，以直线或几何函数的渐缩型式开设于该微流体流通道阻障层的一侧，使得该流体进入通道的两端分别具有较大横截面的进入端口与较小横截面的输出端口，且该输出端口与该流体喷射腔体相连通；一流体输出通道，以直线或几何函数的渐缩型式开设于该微流体流通道阻障层的另一侧，使得该流体进入通道的两端分别具有较大横截面的进入端口与较小横截面的输出端口，且该进入端口与该流体喷射腔体相连通；及一致动元件，装设于该流体喷射腔体的内部，用以提供该工作流体一压力源；其中受到该致动元件所提供压力的影响，使得储存于该流体喷射腔体内的工作流体喷射出外界，并由该流体进入通道与该流体输出通道的渐缩型式，使得受压迫的该工作流体平顺地自该流体输出通道流出该喷射腔体，同时经由该流体进入通道回填补充于该流体喷射腔体。2.如权利要求1所述的微流模块，其特征在于，该致动元件为一加热器，由外部输入电位差信号而供给该工作流体热能，而使得该工作流体受到热能的影响而产生喷射动作。3.如权利要求1所述的微流模块，其特征在于，该致动元件的材质为压电陶瓷材料。4.如权利要求1所述的微流模块，其特征在于，该微流体流通道阻障层为一任意多边形。5.如权利要求1所述的微流模块，其特征在于，该流体喷射腔体的型态为一任意多边形。6.如权利要求1所述的微流模块，其特征在于，该微流体流通道阻障层更包含有与该流体喷射腔体相连通的复数个该流体进入通道，用以提升回填补充该工作流体的速度。7.如权利要求1所述的微流模块，其特征在于，该微流体流通道阻障层更包含有与该流体喷射腔体相连通的复数个该流体输出通道，用以提升该工作流体流出该流体喷射腔体的速度。8.如权利要求1所述的微流模块，其特征在于，该微流体流通道阻障层更包含有复数个该流体喷射腔体，且该微流体流通道阻障层的两侧更分别开设有与该流体喷射腔体连通的复数个该流体进入通道以及复数个该流体输出通道。9.如权利要求8所述的微流模块，其特征在于，相邻的该流体喷射腔体连通的该流体进入通道，其直线或几何函数的渐缩方向相反，而该流体输出通道，其直线或几何函数的渐缩方向相反，使得相邻的该流体喷射腔体内的工作流体，其流动方向具有一致性而呈现“S”形的流场方向。...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨进成，毛庆宜，吴周霖，
申请(专利权)人：财团法人工业技术研究院，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]
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