光刻设备，器件制造方法和由此制造的器件技术

一种光刻投影设备，包括一洛伦兹致动器，它包括与至少一个冷却元件热接触的线圈装置。一个或更多个槽被设置在所述冷却元件内，所述槽被设置成可增加涡流路径的电阻。由于场线圈中的电消耗，洛伦兹致动器产生热。由于通过线圈的磁场改变，会在冷却元件中感应出涡流，导致不想要的阻尼力和发热。本发明专利技术通过将槽结合到冷却元件中提供了减小涡流的改进结构。槽优选是垂直于感应出的电场，并且它们相互平行，并且通过使涡流沿着较高电阻的路径减小了涡流的大小。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光刻投影设备，它包括辐射系统，用于提供辐射投影光束；用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需图案将投影光束图案化；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投影到基底的目标部分上的投影系统；洛伦兹致动器，它包括与至少一个冷却元件热接触的线圈装置。
技术介绍
这里使用的术语“构图装置”应广义地解释为能够给入射的辐射光束赋予带图案的截面的装置，其中所述图案与要在基底的目标部分上形成的图案一致；本文中也使用术语“光阀”。一般地，所述图案与在目标部分中形成的器件如集成电路或者其它器件的特定功能层相对应(如下文)。这种构图装置的示例包括■掩模。掩模的概念在光刻中是公知的，它包括如二进制型、交替相移型、和衰减相移型的掩模类型，以及各种混合掩模类型。这种掩模在辐射光束中的布置使入射到掩模上的辐射能够根据掩模上的图案而选择性地被透射(在透射掩模的情况下)或者被反射(在反射掩模的情况下)。在使用掩模的情况下，支撑结构一般是一个掩模台，它能够保证掩模被保持在入射辐射束中的所需位置，并且如果需要该台会相对光束移动。■可编程反射镜阵列。这种装置的一个例子是具有一粘弹性控制层和一反本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻投影设备，包括：用于提供辐射投影光束的辐射系统；用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需图案将投影光束图案化；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投影到基底的目标部分上的投影系统； 洛伦兹致动器，它包括与至少一个冷却元件热接触的线圈装置；其特征在于：一个或更多个槽被设置在所述冷却元件内，所述槽被设置成可增加涡流路径的电阻。

【技术特征摘要】
EP 2003-3-11 03251446.51.一种光刻投影设备，包括用于提供辐射投影光束的辐射系统；用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需图案将投影光束图案化；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投影到基底的目标部分上的投影系统；洛伦兹致动器，它包括与至少一个冷却元件热接触的线圈装置；其特征在于一个或更多个槽被设置在所述冷却元件内，所述槽被设置成可增加涡流路径的电阻。2.如权利要求1所述的光刻投影设备，其特征在于，所述槽被设置成大致相互平行。3.如前述权利要求任一项所述的光刻投影设备，其特征在于，所述槽被设置成大致垂直于感应出的电场的方向。4.如前述权利要求任一项所述的光刻投影设备，其特征在于，所述槽被设置成大致平行与感应出的电场的方向或与该方向大致成一定倾角。5.如前述权利要求任一项所述的光刻投影设备，其特征在于，所述槽的长度被限制成不跨过...

【专利技术属性】
技术研发人员：SAJ霍尔，EJ布伊斯，HK范德肖特，P维雷格德瓦特，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]