一种新型的真空灭弧室用触头结构制造技术

本实用新型专利技术公开一种新型的真空灭弧室用触头结构，所述触头包括杯体、触指，所述触指为杯体侧壁开设的螺旋状斜槽，斜槽延伸至触头底部，所述触指相对杯体顶部的倾斜角度不大于22

【技术实现步骤摘要】
一种新型的真空灭弧室用触头结构


[0001]本技术涉及真空灭弧室领域，具体涉及一种新型的真空灭弧室用触头结构。

技术介绍

[0002]真空开关具有安全可靠、免维护、健康环保等优点，是中压无油开关的主要发展趋势之一。真空开关的关键部件是真空灭弧室，真空开关的合、分操作是通过位于真空灭弧室外的操动机构使真空灭弧室内的一对对置触头(动、静触头)闭合或分离来完成的。真空灭弧室内部为高真空(≤1X 10
‑3Pa),当动、静触头在操动机构作用下合闸时，动、静触头闭合，电源与负载接通，电流流过负载。反之当动、静触头在操动机构作用下带电分闸时，触头间产生真空电弧，真空电弧依靠触头上蒸发出来的金属蒸汽维持，直到工频交流电流接近零时，金属蒸汽将接近停止蒸发，同时加上真空电弧的等离子体很快向四周扩散，电弧就被熄灭，触头间隙很快地变为绝缘体，于是电流就被分断。
[0003]由于触头的特殊构造，可使电弧均匀分布在触头表面，从而减小电弧能量和触头的电腐蚀速度，并使真空灭弧空具有较高的弧后介质强度恢复速度。因此，触头结构的选择和设计对真空灭弧室乃至真空开关本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种新型的真空灭弧室用触头结构，其特征在于：所述触头包括杯体(1)、触指(2)，所述触指(2)为杯体(1)侧壁开设的螺旋状斜槽，斜槽延伸至触头底部，所述触指(2)相对杯体(1)顶部的倾斜角度不大于22
°
，触指(2)的首尾旋转角度大于100
°
；所述杯体(1)内部设置有环状铁磁体(3)，所述铁磁体(3)上开...

【专利技术属性】
技术研发人员：李津利，马元杰，李艳敏，刘继君，
申请(专利权)人：成都旭光电子股份有限公司，
类型：新型
国别省市：