具有群组补偿能力的曝光系统及方法技术方案

一种具有群组补偿能力的曝光系统，其特征在于：所述曝光系统包括：　　　　一批货分类数据库，记录相应至少一批货晶圆的一群组分类；　　　　一补偿单元，由该批货分类数据库取得相应该批货晶圆的该群组分类，依据该群组分类检索相应该批货晶圆的一群组补偿值，并依据该群组补偿值对于相应的至少一对准参数进行补偿；以及　　　　一第一曝光装置，使用补偿后的该对准参数对于该批货晶圆进行包含对准与曝光作业的一后端制程。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术是有关于一种曝光系统及方法，特别有关于一种适用于半导体制造的曝光机台，且可以依据前端制程的机台与光罩将批货进行分类，并于后端制程提供群组补偿的曝光系统及方法。
技术介绍
半导体制造中，黄光区的微影(Photolithography)制程是整个制程中最为重要的步骤之一。半导体产品之内与组件结构相关的，如各层薄膜的图案(Pattern)及掺杂(Dopants)的区域，都必须由微影制程来决定。因此，半导体制造产业通常以一个制程所需要经过的微影次数或是所需要的光罩数量，来表示相应此产品制程的难易程度。如上所述，由于黄光区曝光机台的制程复杂，因此，曝光机台通常是整体半导体制造环节中的主要瓶颈之一。为了提高曝光的分辨率，曝光机台通常会使用“重复且步进(Step andRepeat)”的方式进行曝光，所以，曝光机台也可以称作为步进机(Stepper)。曝光机台将光源经过光罩之后，再依照适当比例缩小后才照射在部分的晶圆位置上，所以整片晶圆的曝光必须经过多次且重复地“一块一块”地曝光，才能将整片晶圆所需的曝光步骤完成。图1显示后端制程与前端制程的层别对准关系例子。在此例子中，不同的后端制本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种具有群组补偿能力的曝光系统，其特征在于所述曝光系统包括一批货分类数据库，记录相应至少一批货晶圆的一群组分类；一补偿单元，由该批货分类数据库取得相应该批货晶圆的该群组分类，依据该群组分类检索相应该批货晶圆的一群组补偿值，并依据该群组补偿值对于相应的至少一对准参数进行补偿；以及一第一曝光装置，使用补偿后的该对准参数对于该批货晶圆进行包含对准与曝光作业的一后端制程。2.根据权利要求1所述的具有群组补偿能力的曝光系统，其特征在于所述曝光系统更包括一第二曝光装置，用以执行该批货晶圆的一前端制程，决定相应该批货晶圆的该群组分类，并将相应该批货晶圆的该群组分类传送至该批货分类数据库。3.根据权利要求2所述的具有群组补偿能力的曝光系统，其特征在于相应该批货晶圆的该群组分类是依据该前端制程使用的机台与光罩决定。4.根据权利要求1所述的具有群组补偿能力的曝光系统，其特征在于该第一曝光装置更于该批货晶圆完成对准与曝光作业之后，更新该批货分类数据库中相应该批货晶圆的该群组分类。5.根据权利要求4所...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭荣治，陈任和，
申请(专利权)人：南亚科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：