通用模块化晶片输送系统技术方案

本发明专利技术涉及一种用于在隔离环境内、在多个室之间输送单个晶片的晶片输送系统。在一个实施例中，一个晶片由一个晶片穿梭件输送，晶片穿梭件在一个晶片输送容器内运行。晶片输送容器内部与晶片加工设备周围的大气环境相隔离。这样，单个晶片可以在整个晶片加工设备中输送，无需使整个设备保持一种洁净室环境。晶片穿梭件可以采用各种技术、例如（但不限于）磁悬浮或气垫技术进行推进。晶片穿梭件也可以同时输送多个晶片。输送容器内部也可以是真空的、充气的或充入过滤空气。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术一般涉及一种在加工工具之间输送晶片的结构方法。特别是，本专利技术涉及一种在隔离或常压环境中输送单个晶片或晶片包的晶片输送系统。
技术介绍
因为一个损坏的晶片可以造成重大的经济损失，所以必须在输送半导体晶片中倍加小心。半导体晶片必须保持在基本没有微粒污染的洁净的室内环境中，以保持晶片上涂敷物的纯度。洁净的室内环境的要求对半导体晶片的输送有一些制约。为了防止额外的污染，半导体晶片在整个加工设备中输送时通常保持在密封的输送容器、例如SMIF容器中，尽量不暴露于加工机器的外部环境。加工设备通常组织成多个加工间中，每个加工间包括几台加工机器。一个容器中的多个晶片在一台或多台机器上处理之后，晶片容器离开加工间，输送到下一个加工间。这样，在加工设备中基本有两个输送回路晶片容器在加工间之间输送的加工间之间的回路，及晶片容器在一个单个加工间的加工机器之间输送的加工间的内部回路。在半导体加工领域，加工设备通常组织成多个加工间18，每个加工间18包括几台加工机器16。图1示出一个加工间18的一个实施例，加工间18具有多个加工机器16，加工机器16包括(但不限于)用于在晶片上涂敷薄膜的设备、用本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种晶片输送系统，用于在加工工位之间输送晶片，这种输送系统包括：　　　　一个晶片输送装置；　　　　一个晶片输送容器，具有多个导轨，所述晶片输送装置可以沿导轨运行；　　　　一个过渡室，位于加工工具和所述晶片输送容器之间，包括一个隔离阀；　　　　一个驱动装置，用于控制所述晶片输送装置沿所述导轨的运动。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】US 2001-8-31 60/316,7221.一种晶片输送系统，用于在加工工位之间输送晶片，这种输送系统包括一个晶片输送装置；一个晶片输送容器，具有多个导轨，所述晶片输送装置可以沿导轨运行；一个过渡室，位于加工工具和所述晶片输送容器之间，包括一个隔离阀；一...

【专利技术属性】
技术研发人员：安东尼C博诺拉，理查德H古尔德，罗杰G海纳，迈克尔克罗拉克，杰里斯皮斯尔，
申请(专利权)人：阿赛斯特技术公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]