光刻装置和器件制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种光刻投影装置，在该装置中投影系统的最后元件和传感器之间的空间填充有液体。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光刻投影装置，该装置包括-提供辐射投影光束的辐射系统；-支撑构图装置的支撑结构，该构图装置用于根据所需的图案对投影光束进行构图；-保持基底的基底台；-在基底的目标部分投影带图案的光束的投影系统；-至少部分的用液体填充所述投影系统的最后元件和定位在所述基底台上的目标之间的空间的液体供给系统。
技术介绍
这里使用的术语“构图装置”应广义地解释为能够给入射的辐射光束赋予带图案的截面的装置，其中所述图案与要在基底的目标部分上形成的图案一致；本文中也使用术语“光阀”。一般地，所述图案与在目标部分中形成的器件如集成电路或者其它器件的特殊功能层相对应(如下文)。这种构图装置的示例包括■掩模。掩模的概念在光刻中是公知的。它包括如二进制型、交替相移型、和衰减相移型的掩模类型，以及各种混合掩模类型。这种掩模在辐射光束中的布置使入射到掩模上的辐射能够根据掩模上的图案而选择性地被透射(在透射掩模的情况下)或者被反射(在反射掩模的情况下)。在使用掩模的情况下，支撑结构一般是一个掩模台，它能够保证掩模被保持在入射光束中的所需位置，并且如果需要该台会相对光束移动。■可编程反射镜阵列。这种设备本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻投影装置，该装置包括：－提供辐射投影光束的辐射系统；－支撑构图装置的支撑结构，该构图装置根据所需的图案对投影光束进行构图；－保持基底的基底台；－在基底的目标部分投影带图案的光束的投影系统；－至少部分的用液体填充所述投影系统的最后元件和定位在所述基底台上的物体之间的空间的液体供给系统。其特征在于，至少一个传感器定位成用于通过所述辐射投影光束的照射，该辐射经过所述浸渍液。

【技术特征摘要】
EP 2003-6-9 03253636.9;EP 2003-8-29 03255395.0;EP 1.一种光刻投影装置，该装置包括- 提供辐射投影光束的辐射系统；- 支撑构图装置的支撑结构，该构图装置根据所需的图案对投影光束进行构图；- 保持基底的基底台；- 在基底的目标部分投影带图案的光束的投影系统；- 至少部分的用液体填充所述投影系统的最后元件和定位在所述基底台上的物体之间的空间的液体供给系统。其特征在于，至少一个传感器定位成用于通过所述辐射投影光束的照射，该辐射经过所述浸渍液。2.根据权利要求1所述的光刻投影装置，其特征在于所述基底台包括用于支撑位于所述投影系统和传感器之间并且不与传感器接触的中间板的支撑表面。3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于基底台还包括用于感测所述光束的透射像传感器，并且所述中间板位于所述传感器和所述投影系统之间。4.根据权利要求1到3任一项所述的光刻投影装置，其特征在于所述传感器位于所述基底台上。5.根据前述权利要求任一项所述的光刻投影装置，其特征在于所述传感器是用于相对所述投影系统对准所述基底台的对准传感...

【专利技术属性】
技术研发人员：J洛夫，H布特勒，SNL当德斯，A科勒斯辰科，ER鲁普斯特拉，HJM梅杰，JCH穆肯斯，RAS里特塞马，F范沙克，TF森格斯，K西蒙，JT德斯米特，A斯特拉艾杰，B斯特里科克，ETM比拉尔特，CA胡根达姆，H范桑坦，MA范德科霍夫，M克鲁恩，AJ登博夫，JJ奥坦斯，JJSM梅坦斯，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]