基板处理装置及基板交接位置的调整方法制造方法及图纸

一种将基板送入送出对基板进行规定的处理的处理单元的基板输送单元，在预先取得基板对基板保持部的交接位置的数据的情况下，以高精度而且在短时间内进行基板的对位。例如在使基板保持部旋转１８０度时的前后，分别拍摄由基板输送单元交给了基板保持部的对位用的基板表面上形成的标记的位置，根据该标记的位置数据，对基板的中心与基板保持部的旋转中心的位置偏移量进行了运算后，判断由该单元求得的位置偏移量的有无。然后，在断定了有位置偏移量时，将基板重新放置在基板输送单元上，以便基板的中心与基板保持部的旋转中心一致。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及将基板交给对保持在基板保持部上的基板例如进行抗蚀剂的涂敷、显影、加热等规定的处理用的处理单元时，预先取得基板输送单元的位置数据的基板处理装置、以及调整基板的交接位置的方法。
技术介绍
迄今，在作为半导体制造工序之一的光致抗蚀剂工序中，例如在半导体晶片(以下称晶片)的表面上将抗蚀剂涂敷成薄膜状，用规定的图形使该抗蚀剂曝光后，进行显影，形成规定的掩模图形。一般说来，用将曝光装置连接在进行抗蚀剂的涂敷·显影的涂敷·显影装置上的基板处理装置，进行这样的处理。为了确保高生产率，且谋求装置占有面积的小容量化，将对基板进行涂敷处理、显影处理、加热·冷却处理等多种不同处理的处理装置分别单元化，将这些每一种处理所必要数量的单元组装起来，构成上述的基板处理装置，另外设置将基板送入送出各处理单元用的基板输送单元。现简单地说明这样的基板处理装置，例如作为一例，举出图15所示的涂敷·显影装置。在该装置中，例如将收容了25块晶片W的基板托架10送到托架台11上，利用交接臂12取出晶片W，通过棚架单元13a的交接部，输送到处理区14中。在处理区14中，输送单元被设置在中央，在其周围设有将上述涂敷本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，备有对水平地保持在绕铅直轴旋转自如的基板保持部上的基板进行规定的处理的处理单元，预先取得由基板输送单元进行的基板对基板保持部的交接位置的数据，基板处理装置的特征在于，备有：拍摄由上述基板输送单元交给了上述基板保持部 的对位用的基板的表面上形成的标记用的摄像单元；根据在使上述基板保持部旋转１８０度时的前后将分别拍摄到的上述标记的位置互相被连结起来的直线定为１／２的位置的数据，对基板的中心与基板保持部的旋转中心的位置偏移量进行运算的单元；判 断由该单元求得的位置偏移量的有无的单元；当断定了有位置偏移量时，对基板输送单元重新放置基板，以便...

【技术特征摘要】
JP 2003-6-3 158261/03;JP 2004-4-27 131412/041.一种基板处理装置，备有对水平地保持在绕铅直轴旋转自如的基板保持部上的基板进行规定的处理的处理单元，预先取得由基板输送单元进行的基板对基板保持部的交接位置的数据，基板处理装置的特征在于，备有拍摄由上述基板输送单元交给了上述基板保持部的对位用的基板的表面上形成的标记用的摄像单元；根据在使上述基板保持部旋转180度时的前后将分别拍摄到的上述标记的位置互相被连结起来的直线定为1/2的位置的数据，对基板的中心与基板保持部的旋转中心的位置偏移量进行运算的单元；判断由该单元求得的位置偏移量的有无的单元；当断定了有位置偏移量时，对基板输送单元重新放置基板，以便基板的中心与基板保持部的旋转中心一致的单元；以及存储基板的中心与基板保持部的旋转中心一致时的基板输送单元的位置数据的存储单元。2.由权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于上述标记在基板表面的中心形成。3.由权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于判断上述位置偏移量的单元根据预先设定的处理单元的种类，有看作与旋转中心一致的允许值，判断上述位置偏移量是否比允许值大。4.一种基板处理装置，备有对水平地保持在基板保持部上的基板进行规定的处理的处理单元，预先取得由基板输送单元进行的基板对基板保持部的交接位置的数据，基板处理装置的特征在于，备有拍摄由上述基板输送单元交给了上述基板保持部的对位用的在基板表面的中心形成的标记用的摄像单元；以及根据由该摄像单元进行的上述标记的拍摄结果以及在预先拍摄到的基板保持部的中心形成的标记的拍摄结果，判断基板的中心与基板保持部的中心是否一致的判断单元。5.一种基板处理装置，备有对水平地保持在基板保持部上的基板进行规定的处理的处理单元，预先取得由基板输送单元进行的基板对基板保持部的交接位置的数据，基板处理装置的特征在于，备有拍摄由上述基板输送单元交给了上述基板保持部的对位用的在基板表面的中心形成的标记用的摄像单元；根据由该摄像单元进行的上述标记的拍摄结果以及在预先拍摄到的基板保持部的中心形成的标记的拍摄结果，对基板的中心与基板保持部的中心的位置偏移量进行运算的单元；判断由该单元求得的位置偏移量是否比允许值大的判断单元；当断定了位置偏移量比允许值大时，对基板输送单元重新放置基板，以便基板的中心与基板保持部的中心一致的单元；以及存储基板的中心与基板保持部的中心一致时的基板输送单元的位置数据的存储单元。6.由权利要求1至5中的任意一项所述的基板处理装置，其特征在于上述基板输送单元备有各自上下排列的同时独立地进退自如的多个输送臂，在该多个输送臂之中的一个输送臂及另一个输送臂上分别保持对位用的基板及摄像单元。7.一种基板处理装置，备有对水平地保持在绕铅直轴旋转自如的基板保持部上的基板进行规定的处理的处理单元，预先取得由基板输送单元的多个输送臂进行的基板对基板保持部的交接位置的数据，基板处理装置的特征在于，备有将对位用的基板交给上述基板保持部的一个输送臂；拍摄被交给了该基板保持部的对位用的基板的表面上形成的标记以及能成为上述基板保持部的中心位置的标记用的摄像单元；与保持该摄像单元的上述的一个输送臂不同的另一个输送臂；根据由上述摄像单元拍摄到的上述标记及能成为上述基板保持部的中心位置的标记的拍摄数据，求得坐标位置数据的位置数据取得程序；利用上述位置数据取得程序，将对位用的基板放置在上述基板保持部上，根据在旋转180度时的前后分别拍摄到的上述标记的拍摄结果求得的各坐标位置数据；将对连结上述各坐标位置数据的直线定为1/2的坐标位置数据与作为上述基板保持部的中心位置求得的坐标位置数据进行比较，对位置偏移量进行运算的运算程序；判断由运算求得的位置偏移量的有无的判断程序；在有上述位置偏移量的情况下，对上述基板输送单元重新放置基板，以便基板的中心与作为基板保持部的中心位置求得的上述坐标位置数据一致的再试行程序；以及存储上述对位用的基板的中心的坐标数据与上述基板保持部的中心位置的坐标数据一致时的上述基板输送单元的位置数据的存储单元。8.由权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于在上述判断程序中，根据预先设定的处理单元的种类，有规定的允许值。9.由权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于一个输送臂上的基板的交接...

【专利技术属性】
技术研发人员：伊藤和彦，石丸和俊，大仓淳，木下道生，道木裕一，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]