【技术实现步骤摘要】
本专利技术是有关于一种，且特别是有关于一种可迅速、且安全地检视晶片的批号和刻号的机构及方法。(2)
技术介绍
在半导体制程中，集成电路晶片(IC wafer)是装载于晶舟盒(pod)中，且需依照晶片上的批号(lot number)和刻号(wafer number)依序装载。举例来说，在前段制程完成后，晶片会被放置于晶舟盒中，等待下一个制程的开始。在等待期间，生产操作人员会以真空吸笔一片一片地抽出晶片的一部份，以检视其批号或刻号是否正确。批号和刻号在晶片上的位置，如图1所示。图1中，晶片100上的一角落有一标号区域102，标示着该片晶片的批号和刻号，如123456-01；前者为批号，后者为刻号。同一个晶舟盒的晶片具有相同批号，而晶舟盒内有n组凹槽，可装载n片晶片。一般，晶舟盒内的晶片是按照刻号顺序依次地被放置；例如，刻号01的晶片放置在第一组凹槽，刻号02的晶片接着放置在第二组凹槽，…刻号n的晶片接着放置在第n组凹槽。经过排序后的晶片，即可进入下一个阶段的制程。而井然有序的放置晶片于晶舟盒内，亦有利于寻找某一片晶片。然而，以人工使用真空吸笔的方式将晶片抽出检查，不...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种检视机构，用以检视多片晶片上的一标记，该些晶片是存放于一晶舟盒中，该机构包括一平台，用以置放该晶舟盒；和一检视器，具有一倾斜面，并位于该平台上的一端，且该倾斜面可与该晶舟盒进行相对运动，以将该晶舟盒中的该些晶片微微地顶出，因而依序地露出该些晶片上的该标记。2.如权利要求1所述的检视机构，其特征在于，该标记包括一批号和一刻号。3.如权利要求1所述的检视机构，其特征在于，该检视器为一三角斜边体，且该倾斜面为一平坦表面。4.如权利要求1所述的检视机构，其特征在于，该检视器为一梯形体，且该倾斜面为一阶梯状的表面。5.如权利要求4所述的检视机构，其特征在于，该阶梯状的表面包括多个阶梯，且该些阶梯的位置是一一地对应于该些晶片的位置。6.如权利要求1所述的检视机构，其特征在于，该平台的另一端至少有一挡板，用以防止被顶出的该些晶片掉出于该平台外。7.如权利要求1所述的检视机构，其特征在于，该平台上还设有至少一组轨道，以置放该晶舟盒。8.如权利要求1所述的检视机构，其特征在于，该检视器是固定于该平台上，而该晶舟盒可在该平台上朝向该检视器的该倾斜面滑动，以将该些晶片微微地推出该晶舟盒外。9.如权利要求1所述的检视机构，其特征在于，检视器是固定于该平台上，而该晶舟盒则直接放置于该检视器的该倾斜面上，以将该些晶片微微的推出该晶舟盒外。10.如权利要求1所述的检视机构，其特征在于，该检视器可在该平台上滑动，以将该些晶片微微地推出该晶舟盒外。11.一种检视方法，用以检视多片晶片上的一标记，其中这些晶片是存放于一晶舟盒中，该方法包括步骤如下(a)...
【专利技术属性】
技术研发人员：詹益芝，徐裕国，杨盛昌，
申请(专利权)人：旺宏电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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