本实用新型专利技术介绍了一种真空搅拌粉体处理装置，包括：滚座、后座、滚筒、可旋转圆形外盖、正极板、负极板、驱动电机以及压力表，后座与滚座位于滚筒两端，可旋转圆形外盖对滚筒进行密封，压力表接入滚筒，正电极与负电极位于滚筒上下两侧，电机位于滚座上，与滚筒前端连接进而带动滚筒转动。经过抽真空机抽真空后，两极板通电产生等离子体，此时滚轮滚动便于等离子体与粉体接触，加大接触面积；装置整体采用前低后高结构，结合滚筒内部回旋式螺纹结构，当滚筒逆时针转时，粉体退出腔体，顺时针转时，粉体进入反应腔体，达到粉体自动进出，免除了拆卸滚筒来倾倒粉体，节省人力资源的技术效果，同时使搅拌更加充分，更加细腻。更加细腻。更加细腻。
【技术实现步骤摘要】
一种真空搅拌粉体处理装置
[0001]本技术属于真空搅拌粉体处理设计领域，具体涉及一种真空搅拌粉体处理装置装置的往复泵。
技术介绍
[0002]粉体搅拌机是食品加工领域常用的物料混合设备，基本组成为搅拌桶加上旋转装置，经旋转装置带动搅拌桶旋转，进而使搅拌桶内粉体进行搅拌。
[0003]中国专利CN210022011U所公布的一种一种真空上料粉体搅拌机，其中，包括搅拌机本体及与搅拌机本体相邻放置的振筛机，搅拌机本体的顶部开设入料口，入料口处安装有储料罐，入料口和储料罐之间设置给料阀，储料罐的顶部分别安装有滑板阀及过滤器，滑板阀上设置进气口，真空上料粉体搅拌机还包括真空上料装置，真空上料装置连通振筛机和过滤器，本技术通过在振筛机和粉体搅拌机之间增设真空上料装置，将经过振筛后的物料用真空上料的方式，直接上料至储料罐中，省时省力，避免了可能出现的因人工上料不及时导致的物料报废，同时，采用真空上料装置还提高了自动化程度，减少了人力成本，但是也只是在上料装置中加入了真空装置，并没有在搅拌装置中加入真空装置，这就会使搅拌过程中出现细菌等问题。
[0004]中国专利CN212091940U公布了一种粉体搅拌机，包括基座、搅拌桶和控制面板，所述基座左端设置有电机，所述电机的电机输出端与传动轴传动连接，所述传动轴贯穿基座左侧壁固定连接有第一夹座，所述第一夹座内侧壁设置有齿轮，所述搅拌桶左端开设有转槽，所述转槽内侧壁设置有第二齿轮，所述第二齿轮和第一齿轮相互啮合。本技术通过在基座内侧壁左端上侧设置有第一夹座，且第一夹座上的设置有第一齿轮与搅拌桶左端开设有转槽内的第二齿轮相互啮合，通过电机带动传动轴，使第一夹座带动搅拌桶转动，可以使搅拌桶整体都在转动，从而可以使粉体搅拌更为充分，但是，因为滚筒内部空间较大，一旦粉体较多，及容易引起粉体成团运转，使搅拌不充分。
[0005]目前市场上和生活中所采用的皆为普通的搅拌器，很多并没有对搅拌桶进行处理，往往会导致搅拌过程中，粉体收到污染以及粉体与等离子体搅拌不充分等问题。
技术实现思路
[0006]针对上述问题，以求解决真空搅拌，杜绝污染的技术问题，达到设备结构简单，搅拌力更强，粉体与等离子体接触面积更大，搅拌更加均匀，效果好等技术效果。
[0007]为达到上述效果，本技术设计了一种真空搅拌粉体处理装置。
[0008]一种真空搅拌粉体处理装置，包括：滚座、后座、滚筒、可旋转圆形外盖、正极板、负极板、驱动电机以及压力表，其特征在于，所述后座与滚座位于滚筒两端，可旋转圆形外盖对滚筒进行密封，压力表接入滚筒，正电极与负电极位于滚筒上下两侧，电机位于滚座上，与滚筒前端连接进而带动滚筒转动。
[0009]优选地，滚筒内部依据滚筒长度设置回旋式螺旋结构，当滚筒逆时针转时，回旋式
螺旋结构推动粉体退出滚筒，顺时针转时，回旋式螺旋结构推动粉体进入滚筒。
[0010]优选地，滚筒中间为圆柱体，滚筒两端为圆锥体结构，靠近滚座一端为前端，前端为封闭式接口，外设螺纹，靠近后座一端为后端，后端为粉体填充口，采用可旋转圆形外盖进行密封。
[0011]优选地，可旋转圆形外盖中间留有孔，孔与抽真空机相连。
[0012]优选地，后座设置为梯形，后座上部设置圆形凹槽，用于卡合可旋转圆形外盖，后座上设置出料通道，出料通道只固定靠近粉体填充口一端。
[0013]优选地，滚座下底采用重金属压重，上部接入驱动电机，中间设置圆形中空，中空处放置滚筒前端，驱动电机与滚筒头部齿轮相连接。
[0014]优选地，滚座与后座底部都设置一凸起，凸起皆设置在远离滚筒一端，滚座高度低于后座高度，使整个装置形成前低后高的形状。
[0015]优选地，滚筒前端7留有压力表接入孔，压力表通过接入孔接入滚筒前端7，坐于滚座1上。
[0016]优选地，正极板与负极板采用贴片式结构，贴于滚筒外壁，两极板不接触，待滚筒真空后，极板通电产生等离子体。
[0017]优选地，滚筒前端设置通气按钮，按下按钮，外界气体通过通气按钮进入滚筒。
[0018]本申请的优点和效果如下：
[0019]1)搅拌装置工作时，位于真空环境下，便于产生等离子体，同时可以保证粉体不受外界污染，因此此装置可用于不同行业中不同粉体之间的搅拌。
[0020]2)滚筒内部设置回旋式螺纹结构，使等离子体与粉体搅拌更加充分，同时可以打碎大块或者已经沉积的粉体，进而使搅拌的更加细腻。
[0021]3)装置整体采用前低后高结构，结合螺旋设置，当滚筒逆时针转时，使得粉体退出腔体，顺时针转时，使得粉体进入反应腔体，这样可以达到粉体自动进出，也免除了人工拆卸滚筒来倾倒粉体，高效且节省人力资源。
[0022]上述说明仅是本申请技术方案的概述，为了能够更清楚了解本申请的技术手段，从而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本申请的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下以本申请的较佳实施例并配合附图详细说明如后。
[0023]根据下文结合附图对本申请具体实施例的详细描述，本领域技术人员将会更加明了本申请的上述及其他目的、优点和特征。
附图说明
[0024]为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。在所有附图中，类似的元件或部分一般由类似的附图标记标识。附图中，各元件或部分并不一定按照实际的比例绘制。
[0025]图1为一种真空搅拌粉体处理装置主视图；
[0026]图2为一种真空搅拌粉体处理装置剖视图；
[0027]图3为一种真空搅拌粉体处理装置的后座主视图；
4，后座2上设置出料通道，出料通道只固定靠近粉体填充口一端。
[0040]进一步的，滚座1下底采用重金属压重，上部接入驱动电机8，中间设置圆形中空，中空处放置滚筒前端，驱动电机8与滚筒头部齿轮相连接。
[0041]进一步的，滚筒前端7留有压力表接入孔，压力表通过接入孔接入滚筒前端7，坐于滚座1上。
[0042]进一步的，正极板5与负极板6采用贴片式结构，贴于滚筒外壁，两极板不接触，待滚筒真空后，极板通电产生等离子体。
[0043]进一步的，滚筒前端设置通气按钮9，按下按钮，外界气体通过通气按钮9进入滚筒。
[0044]简单的组件连接，即可产生等离子体以及将等离子体与粉体进行搅拌，装置简单，可以进行大批量生产的同时也节约了成本。
[0045]实施例2
[0046]基于上述实施例1，本实施例主要介绍一种真空搅拌粉体处理装置中滚筒转动原理以及等离子体真空环境的生成。
[0047]在对滚筒3进行上料后，在滚筒3粉体填充口进行密封，然后用抽真空机进行真空处理，在抽完真空以后，打开驱动电机8，驱动电机本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种真空搅拌粉体处理装置，包括：滚座(1)、后座(2)、滚筒(3)、可旋转圆形外盖(4)、正极板(5)、负极板(6)、驱动电机(8)以及压力表，其特征在于，所述后座(2)与滚座(1)位于滚筒两端，可旋转圆形外盖(4)对滚筒进行密封，压力表接入滚筒，正极板(5)与负极板(6)位于滚筒上下两侧，电机位于滚座(1)上，与滚筒前端(7)连接进而带动滚筒转动。2.根据权利要求1所述的一种真空搅拌粉体处理装置，其特征在于，滚筒内部依据滚筒长度设置回旋式螺旋结构，当滚筒逆时针转时，回旋式螺旋结构推动粉体退出滚筒，顺时针转时，回旋式螺旋结构推动粉体进入滚筒。3.根据权利要求1或2所述的一种真空搅拌粉体处理装置，其特征在于，滚筒中间为圆柱体，滚筒两端为圆锥体结构，靠近滚座(1)一端为滚筒前端(7)，滚筒前端(7)为封闭式接口，外设螺纹，靠近后座(2)一端为后端，后端为粉体填充口，采用可旋转圆形外盖(4)进行密封。4.根据权利要求3所述的一种真空搅拌粉体处理装置，其特征在于，可旋转圆形外盖(4)中间留有孔，孔与抽真空机相连。5.根据权利要求4所述的一种真空搅拌粉体处理装置，其特征在于，后座(2)设置为梯形，后座(...
【专利技术属性】
技术研发人员：王红卫，刘鑫培，沈文凯，
申请(专利权)人：苏州睿祥宝材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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