【技术实现步骤摘要】
柔性阵列基板和显示装置
[0001]本公开涉及显示
,尤其涉及一种柔性阵列基板和显示装置。
技术介绍
[0002]柔性可拉伸(Stretchable)显示面板广泛应用于具有弯曲显示面的显示装置中。在柔性可拉伸显示面板中,可拉伸区域可以采用挖孔设计以形成像素岛区和桥连区组成的岛桥区。在岛桥区周围可以设置有隔离槽,以避免水汽侵入像素岛区和桥连区。然而,隔离槽的设置使得桥连区的信号引线密度变大且使得信号引线与隔离槽距离更小,水汽容易从隔离槽侵入信号引线而导致桥连区的电气性能降低。
[0003]所述
技术介绍
部分公开的上述信息仅用于加强对本公开的背景的理解,因此它可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
技术实现思路
[0004]本公开的目的在于提供一种柔性阵列基板和显示装置,提高可拉伸区域的封装效果。
[0005]为实现上述专利技术目的,本公开采用如下技术方案:
[0006]根据本公开的第一个方面,提供一种柔性阵列基板,包括至少一个可拉伸区域;所述柔性阵列基板在所述可拉伸 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种柔性阵列基板,其特征在于,包括至少一个可拉伸区域;所述柔性阵列基板在所述可拉伸区域内设置有多个贯穿孔,多个所述贯穿孔将所述可拉伸区域划分出用于显示的像素岛区和用于传输信号的桥连区;所述桥连区包括源漏桥连区,所述柔性阵列基板在任意一个所述源漏桥连区包括:衬底基板;第一源漏金属层,设于所述衬底基板的一侧,且包括多个第一源漏引线;第一绝缘材料层,设于所述第一源漏金属层远离所述衬底基板的一侧;第二源漏金属层,设于所述第一绝缘材料层远离所述衬底基板的一侧;所述第二源漏金属层包括多个第二源漏引线,且所述第二源漏引线的数量少于所述第一源漏引线的数量;第二绝缘材料层,设于所述第二源漏金属层远离所述衬底基板的一侧;所述第二绝缘材料层设置有多个隔离槽,所述隔离槽在所述第二源漏金属层上的正投影隔离所述第二源漏引线和所述贯穿孔;封装层,设于所述第二绝缘材料层远离所述衬底基板的一侧。2.根据权利要求1所述的柔性阵列基板,其特征在于,在所述源漏桥连区,所述第二源漏引线在所述第二绝缘材料层上的正投影与所述隔离槽之间的距离的最小值,不小于相邻两个所述第二源漏引线之间的间距。3.根据权利要求1所述的柔性阵列基板,其特征在于,在所述源漏桥连区,所述隔离槽的宽度,不大于相邻两个所述第二源漏引线之间的间距的2倍。4.根据权利要求1所述的柔性阵列基板,其特征在于,在所述源漏桥连区,所述隔离槽的宽度,等于相邻两个所述第二源漏引线之间的间距的0.9~1.1倍;在所述第二源漏引线与一个相邻的所述贯穿孔之间,所述隔离槽的数量为多个,且相邻两个所述隔离槽之间的间距等于相邻两个所述第二源漏引线之间的间距的0.9~1.1倍。5.根据权利要求1所述的柔性阵列基板,其特征在于,在所述源漏桥连区,相邻两个所述第二源漏引线之间的间距,不大于所述第二源漏引线的宽度的2倍。6.根据权利要求1所述的柔性阵列基板,其特征在于,在所述源漏桥连区,多个所述第二源漏引线等间距排布;所述源漏桥连区相邻的两个所述贯穿孔,与所述第二源漏引线之间的最小距离相等。7.根据权利要求1所述的柔性阵列基板,其特征在于,在所述源漏桥连区,相邻两个所述第一源漏引线之间的间距,不大于相邻两个所述第二源漏引线之间的间距。8.根据权利要求1所述的柔性阵列基板,其特征在于,在所述源漏桥连区,所述第一源漏引线在所述第二绝缘材料层上的正投影与所述隔离槽之间的距离的最小值,不大于所述第二源漏引线在所述第二绝缘材料层上的正投影与所述隔离槽之间的距离的最小值。9.根据权利要求1所述的柔性阵列基板,其特征在于,在所述源漏桥连区,所述第一源漏引线在所述第二绝缘材料层上的正投影,与所述隔离槽至少部分交叠。10.根据权利要求1所述的柔性阵列基板,其特征在于,在所述源漏桥连区,所述第一源漏引线在所述第二绝缘材料层上的正投影与所述隔离槽之间的距离的最小值为1.5~2.7微米;所述第二源漏引线在所述第二绝缘材料层上的正投影与所述隔离槽之间的距离的最小值为4.5~6.0微米。
11.根据权利要求1所述的柔性阵列基板,其特征在于,所述第一源漏引线的数量比所述第二源漏引线的数量大1或2。12.根据权利要求1所述的柔性阵列基板,其特征在于,所述隔离槽远离所述衬底基板的一端的宽度,小于所述隔离槽靠近所述衬底基板的一端的宽度。13.根据权利要求1~12任意一项所述的柔性阵列基板,其特征在于,在所述源漏桥连区,所述第一源漏引线的延伸方向与所述贯穿孔的延伸方向平行或者垂直;所述第二源漏引线的延伸方向与所述贯穿孔的延伸方向平行或者垂直。14.根据权利要求1~12任意一项所述的柔性阵列基板,其特征在于,所述像素岛区包括多个子像素,任意一个所述子像素沿行方向的尺寸为第一尺寸;在所述源漏桥连区,相邻两个所述第二源漏引线之间...
【专利技术属性】
技术研发人员:钱昱翰,刘利宾,韩龙,曹方旭,王品凡,于洋,李文强,吕祖彬,贾立,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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