一种用于光学元器件加工的刻蚀装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术属于光学元器件领域，具体为一种用于光学元器件加工的刻蚀装置，包括输送机构、便于均匀对光学元器件表面进行不同角度清洗与烘干的清洁机构、升降机构，所述输送机构上方设置有所述清洁机构，所述清洁机构一侧设置有所述升降机构。本实用新型专利技术采用了清洁机构和升降机构，利用第一电动推杆伸缩推动着承载架使喷头和清洁辊向下移动，调节光学元器件表面之间的间距，同时启动旋转电机带动旋转管和喷头旋转运动，对光学元器件表面进行不同角度的清洗，再配合清洁辊和风机相互配合将光学元器件表面进行烘干工序，配合着升降机构上下移动进行自动的刻蚀工序，减少工作人员接触，结构简单，提高刻蚀效率。提高刻蚀效率。提高刻蚀效率。

【技术实现步骤摘要】
一种用于光学元器件加工的刻蚀装置


[0001]本技术属于光学元器件领域，具体是涉及一种用于光学元器件加工的刻蚀装置。

技术介绍

[0002]刻蚀是半导体制造工艺，刻蚀是用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要的材料的过程，其基本目标是在涂胶的硅片上正确地复制掩模图形。目前市场现有光学元器件加工过程中，往往光学元器件在清洗表面是只能从一个角度进行清洗，对不同规格的光学元器件表面间距，需要工作人员进行调整，往往容易使表面清洗不均匀，从而影响刻蚀的质量，工作效率低。

技术实现思路

[0003]本技术的目的就在于提供一种用于光学元器件加工的刻蚀装置。
[0004]本技术所采用的的技术方案如下：
[0005]一种用于光学元器件加工的刻蚀装置，包括输送机构、便于均匀对光学元器件表面进行不同角度清洗与烘干的清洁机构、升降机构，所述输送机构上方设置有所述清洁机构，所述清洁机构一侧设置有所述升降机构，所述输送机构包括输送架、输送轴、输送带、传动齿轮、驱动齿轮、输送电机，所述输送架上方内侧设置有所述输送轴，所述输送轴外侧设置有所述输本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于光学元器件加工的刻蚀装置，其特征在于：包括输送机构（1）、便于均匀对光学元器件表面进行不同角度清洗与烘干的清洁机构（2）、升降机构（3），所述输送机构（1）上方设置有所述清洁机构（2），所述清洁机构（2）一侧设置有所述升降机构（3）；所述输送机构（1）包括输送架（11）、输送轴（12）、输送带（13）、传动齿轮（14）、驱动齿轮（15）、输送电机（16），所述输送架（11）上方内侧设置有所述输送轴（12），所述输送轴（12）外侧设置有所述输送带（13），所述输送轴（12）前侧设置有所述传动齿轮（14），所述传动齿轮（14）下方设置有所述驱动齿轮（15），所述驱动齿轮（15）前侧设置有所述输送电机（16）；所述清洁机构（2）包括清洁室（201）、第一电动推杆（202）、承载架（203）、旋转管（204）、旋转电机（205）、喷头（206）、清洁辊（207）、风机（208）、软水管（209）、水泵（210）、水箱（211），所述清洁室（201）内侧设置有所述第一电动推杆（202），所述第一电动推杆（202）伸缩端设置有所述承载架（203），所述承载架（203）内侧设置有所述旋转管（204），所述旋转管（204）后侧设置有所述旋转电机（205），所述旋转管（204）一侧设置有所述喷头（206），所述旋转管（204）另一侧设置有所述清洁辊（207），所述清洁室（201）外侧设置有所述风机（208），所述旋转管（204）上方设置有所述软水管（209），所述软水管（209）一侧设置有所述水泵（210），所述水泵（210）外侧设置有所述水箱（211）。2.根据权利要求1所述的一种用于光学元器件加工的刻蚀装置，其特征在于：所述升降机构（3）包括升降架（31）、蜗杆（32）、升降电机（33）、移动架（34）、刻蚀机本体（35），所述升降架（31）内侧设置有所述蜗杆（32），所述蜗杆（32）上方设置有所述升降电机（33），所述升降架（31）前侧设置有所述移动架（34），所述移动架（34）下方设置有所述刻蚀机本体（35）。3.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨敏，王火红，蔡万祥，
申请(专利权)人：福建浩蓝光电有限公司，
类型：新型
国别省市：