观察装置和观察方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种观察装置和观察方法，观察装置具有：转换器（５），安装有倍率不同的多个物镜（２５）；物镜切换单元（２７），使转换器（５）动作来切换要插入到观察光路内的物镜（２５）；载物台（９），与插入到观察光路内的物镜（２５）对置设置，用于放置基板（Ｓ）；物镜检测单元（３１），检测插入到观察光路内的物镜（２５）的倍率；移动单元（１１、１３、１５），使物镜（２５）和载物台（９）向观察光路的光轴（Ｌ１）方向和光轴（Ｌ１）的正交方向相对移动；以及移动控制单元（３３），当物镜检测单元（３１）检测出高倍率的物镜（２５）时，限制通过移动单元（１３、１５）的物镜（２５）和载物台（９）向正交方向的相对移动。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种将半导体晶片和液晶等装置等的基板进行放大观察的观察装置。本申请要求2004年3月17日提交的日本专利申请2004-076267的优先权，其内容引用至此。
技术介绍
特开2001-134760号公报在半导体装置的制造工序中，当在半导体晶片(基板)的表面形成装置图案时，由于有时发生异物附着、图案缺陷和尺寸异常等的缺陷，因而必须识别该缺陷内容。具体地说，对基板整体目视进行外观检查，以及使用行传感器进行检查，检测缺陷部位。而且，在该缺陷内容的识别中使用具有将半导体晶片的表面进行放大观察的功能的检查装置(观察装置)。在该检查装置中设置有倍率不同的多个物镜。当对形成在半导体晶片表面的电路图案进行放大观察时，把任意物镜插入到观察光路内，使其与半导体晶片表面的观察位置对置配置。此处，由于物镜的倍率越高，物镜的焦点距离就越小，因而当使用高倍率的物镜时，物镜和半导体晶片的间隙变小。即，例如，在使用紫外线作为光源进行高倍率、高分辨率的放大观察的情况下，使用紫外线用物镜，然而该物镜的焦点距离(WD、动作距离)是0.2～0.3mm。另外，在变更半导体晶片表面的放大观察位置的情况下，使物镜本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种观察装置，使用物镜将基板表面放大进行观察，其特征在于，具有：　　　　转换器，其安装有倍率不同的多个物镜；　　　　物镜切换单元，其使前述转换器动作来切换要插入到观察光路内的前述物镜；　　　　载物台，其与插入到前述观察光路内的前述物镜对置设置，放置前述基板使得前述基板的表面与前述观察光路的光轴大致正交；　　　　物镜检测单元，其检测插入到前述观察光路内的前述物镜的倍率；　　　　移动单元，其使前述物镜和前述载物台向前述观察光路的光轴方向和该光轴的正交方向相对移动；以及　　　　移动控制单元，当前述物镜检测单元检测出倍率高于规定倍率的物镜时，限制通过前述移动单元的前述物镜和前述载物台向前述正交方向的相...

【技术特征摘要】
JP 2004-3-17 JP2004-0762671.一种观察装置，使用物镜将基板表面放大进行观察，其特征在于，具有转换器，其安装有倍率不同的多个物镜；物镜切换单元，其使前述转换器动作来切换要插入到观察光路内的前述物镜；载物台，其与插入到前述观察光路内的前述物镜对置设置，放置前述基板使得前述基板的表面与前述观察光路的光轴大致正交；物镜检测单元，其检测插入到前述观察光路内的前述物镜的倍率；移动单元，其使前述物镜和前述载物台向前述观察光路的光轴方向和该光轴的正交方向相对移动；以及移动控制单元，当前述物镜检测单元检测出倍率高于规定倍率的物镜时，限制通过前述移动单元的前述物镜和前述载物台向前述正交方向的相对移动。2.根据权利要求1所述的观察装置，其特征在于，前述移...

【专利技术属性】
技术研发人员：仓田俊辅，
申请(专利权)人：奥林巴斯株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]