本发明专利技术提供一种曝光装置，该曝光装置具有将标线片的图案投影到被处理体的投影光学系统，并经由在所述投影光学系统和所述被处理体之间所供给的液体将所述被处理体曝光，其特征在于具有：使所述液体、所述被处理体以及所示投影光学系统的至少一个振动的励振设备；以及控制所述励振设备以便使所述被处理体被处理时的所述液体、所述被处理体以及所述投影光学系统的至少一个的振动处于容许范围内的控制部分。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术一般涉及用于在IC、LSI等半导体芯片、液晶面板等显示元件、磁头等检测元件、CCD等摄像元件这样的各种设备以及微型结构中使用的微细图案的制造的，尤其涉及经由投影光学系统和被处理物体之间的液体将被处理物体曝光的所谓液浸。
技术介绍
一直以来使用着这样的投影曝光装置，即，通过投影光学系统将描绘在标线片(掩模)上的电路图案投影在晶片等上并复制电路图案的投影曝光装置，而近几年，高分辨率、高品位曝光的要求越来越强烈。作为满足这样的要求的一种手段，液浸曝光正受到瞩目。液浸曝光就是通过作为投影光学系统的晶片一侧的媒质使用液体从而进一步推进投影光学系统的数值孔径(NA)的增加(所谓高NA化)。就是说，若将媒质的折射率设定为n，那么投影光学系统的NA＝n×sinθ，因此通过填满比空气的折射率更高的折射率(n＞1)的媒质能够将NA增大到n。在液浸曝光中，将液体填充在被曝光物体和投影光学系统之间的方法已经被提出(例如，参照国际公开第99/49504号小册子)。国际公开第99/49504号小册子公开了这样的内容，即，在最靠近投影光学系统的基片的最终透镜附近设置液体供给喷嘴和液体回收喷嘴，并从液体供给喷嘴向基片和最终透镜之间供给液体。在从液体供给喷嘴连续地供给液体、从液体回收喷嘴连续地回收液体的状态下，即，液体在基片和最终透镜之间循环的状态下进行曝光。若经常供给新的液体，那么即使抗蚀剂和光学元件在液体中开始溶化，液体的性质(折射率和透射率等)的变化也少，因此是理想的。在这样的液浸曝光中，当曝光基片周边的复制区域时和初期填充液体时有气泡和微气泡(在本申请中将它们简称为“气泡”)混入之虞。气泡遮断曝光光并招致复制精度和合格率的降低，未必能够满足高品位曝光的要求。之后即使连续地供给和回收液体，气泡也不会被除去。而且，也有从连接于液体供给喷嘴的配管产生气泡并混入连续被供给的液体之虞。作为其它的液体供给方法已知有，把用于将基片固定在作为驱动部分的载置台上的卡盘浸泡在液体中的方法、将卡盘和载置台浸泡在液体中的方法、在晶片盒内存放晶片并在盒内填满液体的方法(例如，参照特开平10-303114号公报)，但防止向液体混入气泡对于所有的液体供给方法是共同的问题。为解决这样的问题，向液体照射超声波，使液体、基片、投影光学系统振动并除去气泡的方法已被提出(例如，参照专利第2753930号公报、特开平11-176727号公报、美国专利第5,610,683号说明书、特开2001-250773号公报、美国专利第6,610,168号说明书、特开平11-54427号公报、特开平8-8216号公报、特开2003-31540号公报、特开2000-216126号公报、特开平10-303161号公报、特开2002-248429号公报)。在这些现有技术中公开了关于用超声波有效地除去气泡的方法，但本专利技术者发现由于由超声波引起的振动级别不同而使图案的复制精度下降。详细地说，若由超声波引起的振动级别大，那么晶片上的复制图像由于振动而晃动，使复制精度恶化。另外，在XY方向的对准检测和Z方向的聚焦检测时由于振动产生误差，因此产生由对准误差引起的重叠误差和由聚焦误差引起的形状模糊，招致复制精度的恶化。
技术实现思路
因此，本专利技术的目的在于提供在有效地除去存在于液体中的气泡的同时防止由于这样的除去而引起的复制精度的恶化的。作为本专利技术的一个侧面的曝光装置，具有将标线片的图案投影到被处理体的投影光学系统，经由在所述投影光学系统和所述被处理体之间所提供的液体将所述被处理体曝光，其特征在于，具有使所述液体、所述被处理体和所述投影光学系统的至少一个振动的励振设备，以及为使所述被处理体被处理时的所述液体、所述被处理体和所述投影光学系统的至少一个的振动处于容许范围内，控制所述励振设备的控制部分。作为本专利技术的另一个侧面的曝光方法，是利用了具有将标线片的图案投影到被处理体的投影光学系统，经由在所述投影光学系统和所述被处理体之间所供给的液体将所述被处理体曝光，并具有使所述被处理体和所述投影光学系统的至少一个振动的励振设备的曝光装置的曝光方法，其特征在于，具有取得关于对于所述被处理体被处理时的所述液体、所述被处理体和所述投影光学系统所容许的振动的第1信息的步骤；取得关于为除去存在于所述液体、所述被处理体和/或所述投影光学系统的每单位数量的气泡所需要的振动的第2信息的步骤；取得关于在所述液体、所述被处理体和/或所述投影光学系统中能产生的气泡的数量的第3信息的步骤；以及根据所述第1～第3信息控制所述励振设备的动作模式的步骤。作为本专利技术的又一个侧面的设备制造方法，其特征在于，具有使用上述的曝光装置将被处理体曝光的步骤；以及将已曝光的所述被处理体显影的步骤。本专利技术的其它目的或其它特征，以下，通过参照附图所说明的理想的实施例将会明确。附图说明图1是表示作为本专利技术的一个实施形态的曝光装置的构成的概略截面图。图2是表示图1所示的控制部分的模块构成的图。图3是用于说明图1所示的曝光装置的动作的流程图。图4是图3所示的步骤S1008的超声波照射作业的详细流程图。图5是图3和图4所示的曝光装置的动作的时序图。图6是作为图3所示的步骤S1008的超声波照射作业的变形例的步骤S1008A的超声波照射作业的详细流程图。图7是使用了图6所示的超声波照射作业的场合的曝光装置的动作的时序图。图8是用于说明设备(IC和LSI等半导体芯片、LCD、CCD等)的制造的流程图。图9是图8所示的步骤4的晶片加工的详细流程图。具体实施例方式下面，参照附图说明作为本专利技术的一个实施形态的曝光装置1。此外，在各图中，对于同一构件附加同一参照号码，并省略重复的说明。图1是表示曝光装置1的构成的概略截面图。曝光装置1是经由向位于投影光学系统30的被处理体40一侧的最终面(最终光学元件)和被处理体40之间所供给的液体LW，用分步扫描(step and scan)方式将形成于标线片20的电路图案曝光到被处理体40的液浸型的投影曝光装置。此处，所谓分步扫描方式是指相对标线片将晶片连续地扫描，将标线片图案曝光到晶片，同时，在1个拍摄(shot)的曝光结束后分步移动晶片，并向下一个曝光区域移动的曝光方法。曝光装置1如图1所示，具有照明装置10、标线片20、放置标线片20的标线片载置台25、投影光学系统30、放置被处理体40的晶片载置台45、液体给排机构50、超声波照射机构60、振动传感器70、以及控制部分100。另外，如图1所示，曝光装置1被保持一定的气氛的暗室CB包围。架台FM具有刚性高的构造，并如后述那样，使标线片20和被处理体40的高精度定位变成可能。照明装置10对形成了复制用的电路图案的标线片20进行照明，并具有未图示的光源部分和照明光学系统。光源部分例如，作为光源，能够使用波长约193nm的ArF受激准激光器、波长约248nm的KrF受激准激光器等，但光源的种类不应限定于受激准激光器，例如，可以使用波长约157nm的F2激光器。照明光学系统是用来自未图示的光源的光对标线片20进行照明的光学系统，包含透镜、反射镜、光学积分仪、光阑等。例如，按照聚光镜、蝇眼透镜、孔径光阑、聚光镜、狭缝、成像光学系统的顺序排列等。光学积分仪包含通过使蝇眼透镜和本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种曝光装置，具有将标线片的图案的像投影到被处理体的投影光学系统，经由所述投影光学系统和所述被处理体之间的液体以及所述投影光学系统将所述被处理体曝光，其特征在于具有：使所述液体、所述被处理体以及所述投影光学系统的至少一个振动的励振设 备；以及控制所述励振设备，以便使所述被处理体被处理时的所述液体、所述被处理体以及所述投影光学系统的至少一个的振动处于容许范围内的控制部分。
【技术特征摘要】
JP 2004-3-29 2004-0971371.一种曝光装置，具有将标线片的图案的像投影到被处理体的投影光学系统，经由所述投影光学系统和所述被处理体之间的液体以及所述投影光学系统将所述被处理体曝光，其特征在于具有使所述液体、所述被处理体以及所述投影光学系统的至少一个振动的励振设备；以及控制所述励振设备，以便使所述被处理体被处理时的所述液体、所述被处理体以及所述投影光学系统的至少一个的振动处于容许范围内的控制部分。2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述励振设备对所述液体照射超声波。3.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述控制部分控制所述振动的振幅和频率的至少一个。4.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述控制部分设定在所述被处理体被处理时以及所述被处理体没有被处理时不同的所述励振设备的动作模式。5.如权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，所述控制部分设定所述动作模式的转换时期，以便在所述被处理体没有被处理时实行动作模式的转换。6.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述处理是曝光。7.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述处理是所述被处理体和所述标线片的对准。8.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，还具有检测所述液体、所述被处理体以及所述投影光学系统的至少一个的振动的检测设备。9.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述液体进行循环。10.一种曝光方法，使用具有将标线片的图案投影到被处理体的投影光学系统、经由所述投影光学系统和所述被处理体之间的液体以及所述投影光学系统将被处理体曝光的曝光装置，其特征在于具有取得与对于所述被处理体被处理时的所述液体、所述被处理体以及所述投影光学系统所容许的振动有关的第...
【专利技术属性】
技术研发人员：北冈厚志，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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