【技术实现步骤摘要】
等离子割炬无高频引弧炬头新型引弧结构
[0001]本技术涉及中药提取提纯设备
,尤其涉及等离子割炬无高频引弧炬头新型引弧结构。
技术介绍
[0002]现有的等离子割炬,采用高频引弧的方式,实用高频率的电磁场,在正极与负极之间产生类等离子态的短路电流,使用气体把该短路电流吹出负极,以形成等离子弧,用于导电类金属的切割,使用目前的技术方案,往往会导致切割环境附近的精密仪器及精密电路,一直受到引弧初期的高频电磁干扰,进而损坏磁场附近的仪器和电子设备等。
[0003]然而现有的非高频割炬,也不能很好的控制与气压相关的机构,因受力和输出力的平衡,导致很多时候活塞运动不顺畅,同时活塞复位的机构力也不足,导致难以形成引弧机构需要的回路。
技术实现思路
[0004]本技术目的是在于提供一种结构优化,减少氧化,增强引弧成功率的新型引弧结构。
[0005]等离子割炬无高频引弧炬头新型引弧结构,包括活塞连杆、活塞顶盖、引弧电极、割嘴、外部壳体和连接套杆;
[0006]所述连接套杆套接在外部壳体的内腔壁上, ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.等离子割炬无高频引弧炬头新型引弧结构,其特征在于,包括活塞连杆(1)、活塞顶盖(2)、引弧电极(3)、割嘴(4)、外部壳体(12)和连接套杆(11);所述连接套杆(11)套接在外部壳体(12)的内腔壁上,并且所述连接套杆(11)上下均开口,上开口处过盈装配有活塞滑套(13);所述活塞连杆(1)滑动穿设在活塞滑套(13)的内部,所述活塞顶盖(2)固定装在活塞连杆(1)的下端头处;所述引弧电极(3)与活塞连杆(1)的末端头螺纹装配连接;所述割嘴(4)设置在连接套杆(11)的下开口处,并且割嘴(4)的内腔空间与引弧电极(3)匹配;所述活塞顶盖(2)的下方区域,为活塞高压腔(5);所述活塞高压腔(5)的底部,平行设置有排水孔(7),所述排水孔(7)与活塞低压腔(6)连通。2.根据权利要求1所述的等离子割炬无高频引弧炬头新型引弧结构,其特征在于,所述活塞连杆(1)...
【专利技术属性】
技术研发人员:李恩佐,
申请(专利权)人:上海浦元国际贸易有限公司,
类型:新型
国别省市:
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