一种用于半导体湿法工艺的混酸系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种用于半导体湿法工艺的混酸系统，包括槽式湿法清洗设备和混酸装置，混酸装置包括壳体，分别设置在壳体内部不同腔室内的气路单元和液路单元；所述气路单元用以控制液路单元的管路压力；所述液路单元包括多个进液管、混液阀、排液管和出液管，进液管用于将不同液体输送入混液阀进行瞬时混合，多个进液管并联连接至混液阀的进液口；排液管和出液管分别连接至混液阀的出液口，出液管用于将混液阀内混合均匀的混合液输送至所述槽式湿法清洗设备的清洗槽中。本实用新型专利技术能够精确控制湿法清洗溶液中的混酸浓度，提高了发应性溶液的配比精度，同时也能大大提高反应性溶液的配比效率。的配比效率。的配比效率。

【技术实现步骤摘要】
一种用于半导体湿法工艺的混酸系统


[0001]本技术涉及半导体工艺设备
，尤其涉及一种用于半导体湿法工艺的混酸系统。

技术介绍

[0002]在半导体制程或半导体工艺中，需要使用到各种不同的反应性液体，如酸液、碱液、有机溶液等等，尤其对于半导体湿法工艺，往往需要使用这些反应性液体的混合溶液。
[0003]在配制半导体湿法工艺所需的混合溶液时，目前通常是将输送有不同反应性溶液的管道全部接至槽式湿法清洗设备的清洗槽内，在清洗槽内将这些不同的反应性溶液进行混合。这种方式不仅会造成清洗槽中管路过多，会占用大量的空间，而且清洗槽内不同反应性溶液的配比精度也很难控制，同时不同反应性溶液混合均匀也需耗费大量时间。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，本技术提供了一种用于半导体湿法工艺的混酸系统，用以解决上述
技术介绍
中存在的问题。
[0005]一种用于半导体湿法工艺的混酸系统，包括槽式湿法清洗设备和混酸装置，
[0006]所述混酸装置包括壳体，分别设置在壳体内部不同腔室内的气路单元和液路单元；所述气路单元用以控制液路本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于半导体湿法工艺的混酸系统，其特征在于，包括槽式湿法清洗设备和混酸装置，所述混酸装置包括壳体，分别设置在壳体内部不同腔室内的气路单元和液路单元；所述气路单元用以控制液路单元的管路压力；所述液路单元包括多个进液管、混液阀、排液管和出液管，所述进液管用于将不同液体输送入混液阀进行瞬时混合，多个进液管并联连接至混液阀的进液口；所述排液管和出液管分别连接至混液阀的出液口，出液管用于将混液阀内混合均匀的混合液输送至所述槽式湿法清洗设备的清洗槽中。2.根据权利要求1所述的用于半导体湿法工艺的混酸系统，其特征在于，所述进液管的管路上沿着液体流动方向依次安装有液路手阀、用以调整进液管内管路压力的第一稳压阀、用以监测进液管内液体流量的流量计、用以根据气路单元的控制调整进液管内液体流量的第二稳压阀、以及用以根据气路单元的控制改变进液管的管路通断的第一开关阀；所述排液管上安装有用以控制排液管的管路通断的第二开关阀；所述出液管上安装有用以控制出液管的管路通断的第三开关阀。3.根据权利要求2所述的用于半导体湿法工艺的混酸系统，其特征在于，所述气路单元包括第一调压气管、第二调压...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓信甫，李志锋，徐铭，陈佳炜，刘大威，
申请(专利权)人：上海至纯洁净系统科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：