基板上浮装置制造方法及图纸

技术编号:3199063 阅读:147 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术在使基板(2)上浮的状态下,利用升降机构(6),使设置在支承构件(10)的前端上的接触构件(13)上升,使该接触构件(13)接触基板(2)的背面,从而限制上浮的基板(2)的移动。(*该技术在2024年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种使如液晶显示器(LCD)等平板显示器(FPD)中所使用的玻璃基板上浮的基板上浮装置
技术介绍
例如对LCD玻璃基板进行检查的情况下,必须把玻璃基板对准到基准位置上。例如特开平8-313815号公报公开了玻璃基板定位装置。该定位装置中,借助球滚轮(ball caster),将保持台载置于XY工作台上,该保持台用于吸附保持玻璃基板,利用压紧汽缸的作用力移动该保持台,并把玻璃基板的侧缘直接压接到各基准销上进行对准。随着玻璃基板的尺寸增大,吸附保持玻璃基板的保持台和XY工作台的尺寸也在增大。尤其,XY工作台中,为了在XY方向上移动玻璃基板并用显微镜来观察玻璃基板的整面,必需具有相当于玻璃基板的4倍的安装空间,使整个装置尺寸增大。并且,随着保持台尺寸的增大,重量也增大,当移动保持台,并将玻璃基板的侧缘直接压接到各基准销上时,其冲击力有可能使玻璃基板破损。并且,在特开2000-9661号公报中公开的技术是在滚轮传送部的多个滚轮上载置了玻璃基板的状态下,利用汽缸的动作,把玻璃基板压接到定位销上进行对准。这种对准方法中,随着玻璃基板的增大,玻璃基板与多个滚轮之间的摩擦力增大,本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板上浮装置,其特征在于具有:使上述基板上浮的上浮机构;能够接触上述基板的背面的接触构件;在前端部设有上述接触构件的支承构件;以及升降机构,使上述支承构件上升,使上述接触构件与被上述上浮机构浮起的上述基板的背面接触,对上述基板的移动进行限制。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2003-4-30 125701/20031.一种基板上浮装置,其特征在于具有使上述基板上浮的上浮机构;能够接触上述基板的背面的接触构件;在前端部设有上述接触构件的支承构件;以及升降机构,使上述支承构件上升,使上述接触构件与被上述上浮机构浮起的上述基板的背面接触,对上述基板的移动进行限制。2.如权利要求1所述的基板上浮装置,其特征在于上述接触构件由具有耐磨性的树脂形成。3.如权利要求1所述的基板上浮装置,其特征在于上述接触构件形成圆筒状,一个开口部接触上述基板的背面。4.如权利要求1所述的基板上浮装置,其特征在于上述接触构件设置在上述支承构件上,在上述接触构件与上述支承构件之间设有弹性构件。5.如权利要求1所述的基板上浮装置,其特征在于上述接触构件通过滚珠轴承可转动地设置在上述支承构件上。6.如权利要求4所述的基板上浮装置,其特征在于上述弹性构件具有按压力,该按压力使得上述接触构件以产生限制上浮的上述基板移动的接触阻力的按压力,与上述基板的背面接触。7.如权利要求4所述的基板上浮装置,其特征在于上述弹性构件是螺旋弹簧或圆筒状的橡胶。8.如权利要求1所述的基板上浮装置,其特征在于上述升降机构...

【专利技术属性】
技术研发人员:冈平裕幸
申请(专利权)人:奥林巴斯株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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