【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及将被处理基板放置于臂部件上、对基板处理部进行被处理基板的送入送出处理的基板输送装置。
技术介绍
例如,在LCD的制造技术中,在作为被处理基板的LCD基板上形成了规定的膜后,涂敷光敏抗蚀剂液而形成抗蚀剂膜,对应于电路图形来对抗蚀剂膜进行曝光处理,将其称为显影处理,利用所谓的光刻技术来形成电路图形。在该光刻技术中,对于作为被处理基板的LCD基板来说,作为主要工序而经过清洗处理→脱水烘焙→粘接(疏水化)处理→涂敷抗蚀剂→前烘焙→曝光→显影→后烘焙这样的一系列处理,在抗蚀剂层上形成规定的电路图形。这样的处理是通过处理系统来进行的,该处理系统如下构成以识别工艺流程的形态将进行基板处理的各处理单元配置在输送路径的两侧,配置一个或者多个由能够扫描输送路径的基板输送装置进行被处理基板向各处理单元的送入送出的程序块,而构成处理系统。这样的处理系统基本上是随机存取,所以处理的自由度极高。在上述基板输送装置中,通常备有放置被处理基板用的臂部件。该臂部件为了进行被处理基板向各处理单元的送入送出,而被设计成能够沿着XYZ方向移动,同时能够沿着水平方向自由旋转。可是,在将被 ...
【技术保护点】
一种基板输送装置,包括具有多个吸附垫片的臂部件,将被处理基板放置在所述吸附垫片上,对基板处理部进行被处理基板的送入送出,所述基板输送装置的特征在于:包括使所述吸附垫片振动的振动设备;驱动所述振动设备的振动驱动设备;和进行所述振动驱动设备的工作控制的控制设备,在将被处理基板放置在所述吸附垫片上时,所述控制设备利用所述振动驱动设备使所述振动设备工作,从而使吸附垫片振动。
【技术特征摘要】
JP 2004-9-30 2004-2885071.一种基板输送装置,包括具有多个吸附垫片的臂部件,将被处理基板放置在所述吸附垫片上,对基板处理部进行被处理基板的送入送出,所述基板输送装置的特征在于包括使所述吸附垫片振动的振动设备;驱动所述振动设备的振动驱动设备;和进行所述振动驱动设备的工作控制的控制设备,在将被处理基板放置在所述吸附垫片上时,所述控制设备利用所述振动驱动设备使所述振动设备工作,从而使吸附垫片振动。2.根据权利要求1所述的基板输送装置,其特征在于所述振动设备具有设置在所述吸附垫片上的磁铁和线圈,所述振动驱动设备将电流供给至所述线圈而产生磁场,利用与磁铁的磁场的排斥力来使吸附垫片振动。3.根据权利要求1所述的基板输送装置,其特征在于所述振动设备具有设置在所述吸附垫片上的簧片阀,所述振动驱动设备通过对所述簧片阀进行空气的导出或者空气的吸引来使簧片阀振动,从而使吸附垫片振动。4.根据权利要求1所述的基板输送装置,...
【专利技术属性】
技术研发人员:田上真也,
申请(专利权)人:东京毅力科创株式会社,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
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