铈盐、其制造方法、氧化铈以及铈系研磨剂技术

本发明专利技术提供了在６当量浓度的硝酸１２．５ｇ与３０％过氧化氢溶液１２．５ｇ的混合液中溶解２０ｇ时，溶液中存在的不溶成分的浓度与溶解前的铈盐的质量比为５ｐｐｍ以下的铈盐，以及将该铈盐进行高温处理后的氧化铈。另外，通过减少在氧化铈粒子及其原料铈盐粒子中含有的杂质数量而提高纯度，在使用含该氧化铈粒子的铈系研磨剂进行研磨时，可以减少被研磨面上产生的擦痕。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术是关于降低杂质粒子的高纯度铈盐及其制造方法、将其高温处理而得到的氧化铈、以及使用氧化铈的铈系研磨剂。
技术介绍
需要对材料表面进行精密研磨加工的例子有光盘基板、磁盘、平板显示器用的玻璃基板、表盘、照相机光学镜片、用作光学元件的各种光学镜片的玻璃材料及滤光片类的结晶材料、用作半导体硅片等的基板、以及制造半导体元件过程中形成的各种绝缘膜、金属层以及阻挡层等。上述这些材料表面需要进行高精度的研磨，为此，通常会使用例如二氧化硅、氧化锆及氧化铝等中的一种或两种以上的混合物以作为研磨粒子的研磨剂。作为研磨剂的形态，通常包括将研磨粒子分散在液体中的膏状形态、将研磨粒子与树脂及其它粘合剂一起凝固的状态、以及仅用微粒子或者与粘合剂一起把研磨粒子附着和/或固定在纤维、树脂、金属等基材表面上作为研磨剂使用的状态。特别是将二氧化硅微粒子当作研磨粒子使用的二氧化硅系的研磨剂，由于被研磨面很少产生擦痕，因此已被广泛用于半导体集成电路的精密研磨用研磨剂。但是，由于其研磨速度较慢，近年来研磨速度快的含氧化铈的氧化铈系研磨剂正引起人们的关注(参照日本特开2000-26840号公报及日本特开2002-37本文档来自技高网...

【技术保护点】
铈盐，其特征是，在６当量浓度的硝酸１２．５ｇ与３０％过氧化氢溶液１２．５ｇ的混合液中溶解２０ｇ时，溶液中存在的不溶成分的浓度质量比是５ｐｐｍ以下。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2003-9-12 320667/20031.铈盐，其特征是，在6当量浓度的硝酸12.5g与30％过氧化氢溶液12.5g的混合液中溶解20g时，溶液中存在的不溶成分的浓度质量比是5ppm以下。2.权利要求1所述的铈盐，其特征是，不溶成分是含硅的物质。3.铈盐的制造方法，经过由铈化合物得到一种或多种含铈中间体的工艺过程，加入沉淀剂后得到铈盐的沉淀，其特征是，至少包括一个由溶液状态的含铈中间体中分离、去除不溶成分的工序。4.权利要求3所述的铈盐的制造方法，其特征是，包括在含铈稀土盐溶液中加入沉淀剂而得到铈盐的沉淀的工序，在该工序中，将预先除去不溶成分的沉淀剂加入含铈稀土盐溶液中使其沉淀。5.权利要求3或4所述的铈盐的制造方法，其特征是，包括将铈盐与6当量浓度的硝酸混合得到溶液的工序、分离去除该溶液的不溶成分的工序、以及在该去除之后加入沉淀剂使精制的铈盐沉淀...

【专利技术属性】
技术研发人员：茅根环司，宫冈清二，
申请(专利权)人：日立化成工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]