一种柔性显示基板、其制作方法及显示面板技术

本发明专利技术提供了一种柔性显示基板、其制作方法及显示面板，其中，所述柔性显示基板包括：柔性基底，所述柔性基底包括显示区以及包围所述显示区的非显示区；隔断结构，位于所述非显示区的至少一个侧边，且所述隔断结构与所述柔性基底的边缘齐平设置；其中，所述隔断结构具有靠近所述柔性基底一侧的第一表面和远离所述柔性基底一侧的第二表面，所述第一表面的面积小于所述第二表面的面积。用于削弱工艺过程中的应力堆积，避免基板翘曲甚至膜层断裂的风险，提高产品良率。提高产品良率。提高产品良率。

【技术实现步骤摘要】
一种柔性显示基板、其制作方法及显示面板


[0001]本专利技术涉及显示
，特别涉及一种柔性显示基板、其制作方法及显示面板。

技术介绍

[0002]现有在采用高世代线的玻璃基板在制作柔性主动矩阵有机发光二极体(Active
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matrix organic light
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emitting diode，AMOLED)产品的过程中，由于大面积的工艺过程会在玻璃基板表面堆积应力，从而导致玻璃基板翘曲甚至相关膜层断裂(Crack)的风险。此外，随着像素密度的提高，线宽越来越窄，所需沉积的薄膜厚度越来越高，进一步地加剧了玻璃基板表面的应力堆积，从而降低了产品良率。

技术实现思路

[0003]本专利技术提供了一种柔性显示基板、其制作方法及显示面板，用于削弱工艺过程中的应力堆积，避免基板翘曲甚至膜层断裂的风险，提高产品良率。
[0004]第一方面，本专利技术实施例提供了一种柔性显示基板，包括：
[0005]柔性基底，所述柔性基底包括显示区以及包围所述显示区的非显示区；
[0006]隔断结构，位于所述非显示区的至少一个侧边，且所述隔断结构与所述柔性基底的边缘齐平设置；
[0007]其中，所述隔断结构具有靠近所述柔性基底一侧的第一表面和远离所述柔性基底一侧的第二表面，所述第一表面的面积小于所述第二表面的面积。
[0008]在一种可能的实现方式中，所述隔断结构环绕所述显示区设置。
[0009]在一种可能的实现方式中，沿背离所述柔性基底的第一方向，所述隔断结构平行于所述柔性基底所在平面的截面的面积呈增大趋势。
[0010]在一种可能的实现方式中，还包括设置在所述隔断结构背离所述柔性基底一侧的平坦层，所述平坦层覆盖所述隔断结构的第二表面，且所述平坦层远离所述柔性基底一侧的表面为一平面。
[0011]在一种可能的实现方式中，还包括：设置在所述非显示区且包围所述显示区的阻挡坝，所述阻挡坝在所述柔性基底上的正投影与所述隔断结构在所述柔性基底上的正投影互不交叠。
[0012]在一种可能的实现方式中，所述隔断结构的厚度大于所述阻挡坝的厚度。
[0013]在一种可能的实现方式中，所述隔断结构的材料为负性光刻胶。
[0014]第二方面，本专利技术实施例还提供了一种显示面板，包括：
[0015]如上面任一项所述的柔性显示基板。
[0016]第三方面，本专利技术实施例还提供了一种如上面任一项所述的柔性显示基板的制作方法，包括：
[0017]在刚性基底上形成柔性母板，所述柔性母板被划分为多个彼此独立的基板区和位于相邻两个所述基板区之间的间隔区；
[0018]在至少部分所述间隔区形成隔断部，所述隔断部覆盖所述基板区与所述间隔区相邻的部分；
[0019]在所述柔性母板背离所述刚性基底的一侧沉积金属膜层，所述金属膜层在所述隔断部处断开；
[0020]对所述金属膜层进行图案化处理；
[0021]剥离所述刚性基底后，沿着所述隔断部切割所述柔性母板，形成包括所述隔断结构的柔性显示基板。
[0022]在一种可能的实现方式中，所述对所述金属膜层进行图案化处理，包括：
[0023]刻蚀掉所述金属膜层覆盖所述隔断部的部分，并对所述金属膜层其他部分进行图案化处理，形成图案化的金属膜层。
[0024]在一种可能的实现方式中，所述在至少部分所述间隔区形成隔断部，包括：
[0025]在所述柔性母板背离所述刚性基底的一侧涂覆一整层负性光刻胶；
[0026]采用光刻工艺，对所述负性光刻胶位于所述间隔区的部分进行曝光，形成隔断部。
[0027]在一种可能的实现方式中，在对所述金属膜层进行图案化处理之后，所述方法还包括：
[0028]在所述金属膜层背离所述刚性基底的一侧形成完全覆盖所述隔断部的平坦层。
[0029]本专利技术的有益效果如下：
[0030]本专利技术实施例提供了一种柔性显示基板、其制作方法及显示面板，其中，该柔性显示基板包括柔性基底和隔断结构，该柔性基底包括显示区以及包围该显示区的非显示区，该隔断结构位于非显示区的至少一个侧边，比如，隔断结构位于非显示区的四个侧边中的其中一个侧边；此外，隔断结构还与柔性基底的边缘齐平设置，如此一来，通过该隔离结构可以有效防止外界水氧的侵蚀；而且，该隔断结构具有靠近柔性基底一侧的第一表面和远离柔性基底一侧的第二表面，其中，第一表面的面积小于第二表面的面积，这样的话，在隔断结构的第二表面背离柔性基底的一侧制备相关膜层的过程中，隔断结构可以有效隔断相关膜层，比如，在隔离结构背离柔性基底的一侧整层沉积金属膜层时，金属膜层将被所述隔断结构隔断，从而削弱了工艺过程中的应力堆积，避免了基板翘曲甚至膜层断裂的风险，提高了产品良率。
附图说明
[0031]图1为本专利技术实施例提供的一种柔性显示基板的其中一种俯视结构示意图；
[0032]图2为沿着图1中MM方向的其中一种剖面结构示意图；
[0033]图3为本专利技术实施例提供的一种柔性显示基板的其中一种俯视结构示意图；
[0034]图4为本专利技术实施例提供的一种柔性显示基板的其中一种俯视结构示意图；
[0035]图5为沿图1中MM方向的其中一种剖面结构示意图；
[0036]图6为沿图1中MM方向的其中一种剖面结构示意图；
[0037]图7为沿图1中MM方向的其中一种剖面结构示意图；
[0038]图8为本专利技术实施例提供的一种柔性显示基板的制作方法的方法流程图；
[0039]图9为图8对应的其中一种工艺流程图；
[0040]图10为图8中步骤S102的方法流程图；
[0041]图11为图9对应的其中一种工艺流程图。
具体实施方式
[0042]为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施例的附图，对本专利技术实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。并且在不冲突的情况下，本专利技术中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。基于所描述的本专利技术的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0043]除非另外定义，本专利技术使用的技术术语或者科学术语应当为本专利技术所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本专利技术中使用的“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。
[0044]需要注意的是，附图中各图形的尺寸和形状不反映真实比例，目的只是示意说明本
技术实现思路
。并且自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。
[0045]在相关技术中，常采用高世代线的玻璃基板来提高柔性AMOLED产品的生产效率以及产品切割的宽容度。在产品制作中，由于大面积的工艺过程，会在玻璃本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种柔性显示基板，其特征在于，包括：柔性基底，所述柔性基底包括显示区以及包围所述显示区的非显示区；隔断结构，位于所述非显示区的至少一个侧边，且所述隔断结构与所述柔性基底的边缘齐平设置；其中，所述隔断结构具有靠近所述柔性基底一侧的第一表面和远离所述柔性基底一侧的第二表面，所述第一表面的面积小于所述第二表面的面积。2.如权利要求1所述的柔性显示基板，其特征在于，所述隔断结构环绕所述显示区设置。3.如权利要求1所述的柔性显示基板，其特征在于，沿背离所述柔性基底的第一方向，所述隔断结构平行于所述柔性基底所在平面的截面的面积呈增大趋势。4.如权利要求1所述的柔性显示基板，其特征在于，还包括设置在所述隔断结构背离所述柔性基底一侧的平坦层，所述平坦层覆盖所述隔断结构的第二表面，且所述平坦层远离所述柔性基底一侧的表面为一平面。5.如权利要求1
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4任一项所述的柔性显示基板，其特征在于，还包括：设置在所述非显示区且包围所述显示区的阻挡坝，所述阻挡坝在所述柔性基底上的正投影与所述隔断结构在所述柔性基底上的正投影互不交叠。6.如权利要求5所述的柔性显示基板，其特征在于，所述隔断结构的厚度大于所述阻挡坝的厚度。7.如权利要求1
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4、6任一项所述的柔性显示基板，其特征在于，所述隔断结构的材料为负性光刻胶。8.一种显示面板，其特征在于，包括：如...

【专利技术属性】
技术研发人员：侯唯玮，王培，张凯，李秋婕，蒋忠涛，李露，潘宇轩，田雨，姚代朋，
申请(专利权)人：重庆京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：