【技术实现步骤摘要】
设计规则检查的系统、方法与其非暂态计算机可读媒介
[0001]本揭露是关于一种半导体的系统与方法,特别是一种设计规则检查的系统、方法与其非暂态计算机可读媒介。
技术介绍
[0002]小型化集成电路(integrated circuits;IC)的近期趋势已经产出较小的元件,其比以前消耗更少功率却可以更高的速度提供更多功能。在一个态样中,IC的小型化可通过制造程序的进步来实现。例如:上百万乃至上亿的电路元件(例如:晶体管)可在小面积(例如:小于100mm2)中形成。为了确保IC的元件可通过复杂的制造程序依照所设计的来制造,可使用各种电子设计自动化(electronic design automation;EDA)工具。
技术实现思路
[0003]本揭露的一态样是提供一种设计规则检查(Design Rule Check;DRC)方法,包含:通过处理器执行储存在记忆体上的多个计算机可读指令,来接收其中具有设计规则检查违规的布局图案;基于此布局图案与多个先前所分析的布局图案的比较,通过处理器来决定此布局图案为正常值, ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种设计规则检查方法,其特征在于,包含:通过一处理器执行储存在一记忆体上的多个计算机可读指令,来接收其中具有一设计规则检查违规的一布局图案;基于该布局图案与多个先前所分析的布局图案的一比较,通过该处理器来决定该布局图案为一正常值,其中该比较是通过一异常侦测演算法来进行;以及当决定该布局图案为一正常值时,通过该处理器从先前应用至所述多个先前所分析的布局图案的一配方库中选择一配方,以修复该布局图案中的该设计规则检查违规。2.根据权利要求1所述的设计规则检查方法,其特征在于,还包含:基于一图案类型、一违规类型、以及具有该设计规则检查违规的一层,通过该处理器分类该布局图案中的该设计规则检查违规。3.根据权利要求2所述的设计规则检查方法,其特征在于,该违规类型包含间距、面积、长度、推荐、宽度、重叠、包围、颜色间距、扩展、或双图案规则违规类型中的至少一者。4.根据权利要求2所述的设计规则检查方法,其特征在于,分类该布局图案包含:通过该处理器来决定该设计规则检查违规的该图案类型;基于该图案类型,通过该处理器来决定该设计规则检查违规的该违规类型;以及基于该违规类型,通过该处理器来决定具有该设计规则检查违规的该层。5.根据权利要求2所述的设计规则检查方法,其特征在于,还包含:基于该分类,通过该处理器从具有多个设计规则检查违规的所述多个先前所分析的布局图案中辨识出一先前分析布局图案子集,所述多个设计规则检查违规类似于用于选择该配方的该布局图案中的该设计规则检查违规。6.一种设计规则检查系统,其特征在于,包含:一记忆体,具有多个计算机可读指令储存于其上;以及一处理器,用以执行所述多个计算机可读指令来进行:将其中具有一设计规则检查违规的一布局图案分类,来决定该设计规则检查违规的一分类,以辨识出一先前所分析布局图案群组,该先前所分...
【专利技术属性】
技术研发人员:黄于真,林恒毅,庄易霖,
申请(专利权)人:台湾积体电路制造股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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