臭氧水供给方法和臭氧水供给装置制造方法及图纸

技术编号:3187973 阅读:245 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种臭氧水供给方法,其特征在于将具有臭氧分解抑制物质的臭氧水转送到使用点(7),在使用点附近,通过浓度调整机构,将该水的浓度降低到规定的臭氧浓度。一种臭氧水供给装置,其特征在于该臭氧水供给装置包括臭氧溶解装置(4),其将臭氧气体溶解于纯水中,调制臭氧水;将臭氧分解抑制物质供给到上述纯水或上述臭氧水中的机构;臭氧水转送配管(6),该臭氧水转送配管将通过上述臭氧溶解装置调制的臭氧水转送到使用点;浓度调整机构(8),该浓度调整机构设置于使用点附近,将通过臭氧水转送配管转送的臭氧水降低到规定的臭氧浓度。通过本装置,可在半导体、液晶等的电子材料的湿式清洗工序、表面处理工序等中,稳定地将规定的臭氧浓度的臭氧水供向使用点。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及臭氧水供给方法和臭氧水供给装置。更具体地说,本专利技术涉及可在半导体、液晶等的电子材料的湿式清洗工序、表面处理工序等中,稳定地将规定的臭氧浓度的臭氧水供向使用点的臭氧水供给方法和臭氧水供给装置。
技术介绍
从半导体用硅基板、液晶用玻璃基板、光掩模用石英基板等的电子材料表面,去除有机物、金属等对于确保制品的质量和合格率来说,是极为重要的。在纯水中溶解有臭氧的臭氧水用于溶解臭氧浓度为数mg/L程度的低浓度,同时,发挥极强的氧化力,使用于去除附着于电子材料表面上的有机物、金属等的杂质造成的污染的工序以及均匀地使硅基板的表面氧化、形成氧化膜层的工序。在此场合,由于所供给的臭氧水的浓度对基板表面的清洗力、氧化膜厚度的控制等造成影响,故其浓度管理是非常主要的。作为溶解于水中的臭氧具有本身分解非常剧烈,臭氧水的溶解臭氧浓度容易降低的问题。即使长距离地转送臭氧水的情况下,作为转送中的臭氧浓度的降低量小、可将一定的浓度的臭氧水供向使用点的臭氧水供给装置,人们提出有下述的臭氧水供给装置,其包括使臭氧溶解于纯水中,形成臭氧水的臭氧水溶解装置;转送形成的臭氧水的臭氧水供给管,在该装置中,设置有使二氧化碳气体或有机化合物溶解于纯水或臭氧水中的添加机构(专利文献1)。作为具有相同效果的臭氧溶解水的供给装置,人们提出有臭氧溶解水的供给装置,其包括将臭氧溶解于被溶解水中的臭氧溶解装置;将被溶解水供给溶解装置的供水管;将臭氧溶解水从溶解装置送出的送出管,在该装置中,在从供水管到送出管之间的任意位置设置化学剂供给装置,该化学剂供给装置添加从亚硝酸、亚硝酸盐、碳酸、碳酸盐、碳酸氢盐、亚硫酸、亚硫酸盐、亚硫酸氢盐和肼组成的组中选择出的1种或2种以上的臭氧分解抑制剂(专利文献2)。另外,作为在将臭氧水供给使用部位时,可容易供给所需浓度的臭氧水的臭氧水的浓度调整方法,人们提出有下述的臭氧水浓度的调整方法,在该方法中,过多地溶解臭氧,通过通水通路的长度、加温、超声波、紫外线或紊流处理,促进臭氧的分解,调整臭氧水的浓度(专利文献3)。作为可容易供给所需溶解臭氧浓度的臭氧水的臭氧浓度调整方法,人们提出有下述的臭氧浓度的调整方法,其中,使含有臭氧的水与玻璃接触,形成所需浓度的包含臭氧的水(专利文献4)。但是,在过去的臭氧水供给方法和臭氧水供给装置中,具有下述的问题,即,难以供给稳定的浓度的臭氧水,另外,也非常难以在使用点,将其控制在规定的溶解臭氧浓度。专利文献1JP特开2000-37695号文献(第2页);专利文献2JP特开2002-18454号文献(第2页);专利文献3JP特开2000-180433号文献(第2~3页);专利文献4JP特开2000-334468号文献(第2页);本专利技术的目的在于提供可在半导体、液晶等的电子材料的湿式清洗工序、表面处理工序等中,稳定地将规定的臭氧浓度的臭氧水供向使用点的臭氧水供给方法和臭氧水供给装置。
技术实现思路
为了解决上述课题,本专利技术人进行了深入研究,其结果是发现,将具有臭氧分解抑制物质的浓度高的臭氧水转送到使用点,在使用点,通过浓度调整机构将该水降低到规定的臭氧浓度,由此,可稳定地将规定臭氧浓度的臭氧水供给使用点,根据该观点,完成了本专利技术。即,本专利技术涉及下述的方案(1)涉及一种臭氧水供给方法,其中,将具有臭氧分解抑制物质的臭氧水转送到使用点,在使用点附近,通过浓度调整机构,将该水的浓度降低到规定的臭氧浓度。(2)涉及上述(1)所述的臭氧水供给方法,其中,臭氧分解抑制物质为从水溶性有机化合物、无机酸或其盐以及肼构成的组中选择出的1种或2种以上。(3)涉及上述(2)所述的臭氧水供给方法,无机酸或其盐为盐酸、硫酸、碳酸、碳酸盐、碳酸氢盐、亚硝酸、亚硝酸盐、亚硫酸、亚硫酸盐或亚硫酸氢盐。(4)涉及上述(1)所述的臭氧水供给方法,其中,浓度调整机构进行溶解臭氧的分解。(5)涉及上述(4)所述的臭氧水供给方法,其中,溶解臭氧的分解通过从超声波辐射、紫外线辐射、紊流发生、搅拌、加温、碱添加和过氧化氢添加构成的组中选择出的1种或2种以上的方式进行。(6)涉及(1)所述的臭氧水供给方法,其中,浓度调整机构进行臭氧水的稀释。(7)涉及上述(1)~(6)中的任何一项所述的臭氧水供给方法,其中,臭氧水向使用点的转送在臭氧水和臭氧气体共存的气液混合状态进行。(8)涉及一种臭氧水供给装置,该臭氧水供给装置包括臭氧溶解装置,该臭氧溶解装置将臭氧气体溶解于纯水中,调制臭氧水;将臭氧分解抑制物质供给到上述纯水或上述臭氧水中的机构;臭氧水转送配管,该臭氧水转送配管将通过上述臭氧溶解装置调制的臭氧水转送到使用点;浓度调整机构,该浓度调整机构设置于使用点附近,将通过臭氧水转送配管转送的臭氧水降低到规定的臭氧浓度。(9)涉及上述(8)所述的臭氧水供给装置,其中,臭氧分解抑制物质为从水溶性有机化合物、无机酸或其盐以及肼构成的组中选择出的1种或2种以上。(10)涉及上述(9)所述的臭氧水供给装置,其中,无机酸或其盐为盐酸、硫酸、碳酸、碳酸盐、碳酸氢盐、亚硝酸、亚硝酸盐、亚硫酸、亚硫酸盐或亚硫酸氢盐。(11)涉及上述(8)所述的臭氧水供给装置,其中,浓度调整机构进行溶解臭氧的分解。(12)涉及上述(11)所述的臭氧水供给装置,其中,溶解臭氧的分解通过从超声波辐射、紫外线辐射、紊流发生、搅拌、加温、碱添加和过氧化氢添加构成的组中选择出的1种或2种以上的方式进行。(13)涉及上述(8)所述的臭氧水供给装置,其中,浓度调整机构进行臭氧水的稀释。(14)涉及上述(8)~(13)中的任何一项所述的臭氧水供给方法,其特征在于臭氧水向使用点的转送在臭氧水和臭氧气体共存的气液混合状态进行。附图说明图1为本专利技术的臭氧水供给装置的一个形式的工序系统图;图2为具有低压水银灯的浓度调整机构的说明图;图3为表示低压水银灯输出和溶解臭氧浓度的关系的曲线图;图4为具有加热器和冷却器的浓度调整机构的说明图;图5为表示低压水银灯输出和溶解臭氧浓度的关系的曲线图。具体实施例方式在本专利技术的臭氧水供给方法中,将具有臭氧分解抑制物质的臭氧水转送到使用点,在使用点附近通过浓度调整机构使规定的臭氧浓度降低。本专利技术的臭氧水供给装置具有臭氧溶解装置,该臭氧溶解装置将臭氧气体溶解于纯水中,调制臭氧水;将臭氧分解抑制物质供给到上述纯水或上述臭氧水中的机构;臭氧水转送配管,该臭氧水转送配管将通过上述臭氧溶解装置调制的臭氧水转送到使用点;浓度调整机构,该浓度调整机构设置于使用点附近,将通过臭氧水转送配管转送的臭氧水降低到规定的臭氧浓度。图1为本专利技术的臭氧水供给装置的一个形式的工序系统图。从氧气容器1和氮气容器2向无声放电式臭氧发生器3中供给氧气和微量氮气的混合气体,制造含有臭氧的气体,在臭氧溶解装置4中,最好使臭氧溶解于预先除气的纯水中而制造臭氧水。本图所示的装置具有,向上述纯水或上述臭氧水供给臭氧分解抑制物质的机构5;将由臭氧溶解装置制造的臭氧水转送到使用点的臭氧水转送配管6;设于使用点7附近,使通过臭氧水转送配管转送的臭氧水降低到规定的溶解臭氧浓度的浓度调整机构8。在该形式的装置中,在使用点未使用的臭氧水流到填充了活性炭等的臭氧分解塔9,作为不含有臭氧的水而被回收。在本专利技术中,通过使臭氧水中具本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种臭氧水供给方法,其特征在于将具有臭氧分解抑制物质的臭氧水转送到使用点,在使用点附近,通过浓度调整机构,将该水的浓度降低到规定的臭氧浓度。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2004-3-31 104505/20041.一种臭氧水供给方法,其特征在于将具有臭氧分解抑制物质的臭氧水转送到使用点,在使用点附近,通过浓度调整机构,将该水的浓度降低到规定的臭氧浓度。2.根据权利要求1所述的臭氧水供给方法,其特征在于臭氧分解抑制物质为从水溶性有机化合物、无机酸或其盐以及肼构成的组中选择出的1种或2种以上。3.根据权利要求2所述的臭氧水供给方法,其特征在于无机酸或其盐为盐酸、硫酸、碳酸、碳酸盐、碳酸氢盐、亚硝酸、亚硝酸盐、亚硫酸、亚硫酸盐或亚硫酸氢盐。4.根据权利要求1所述的臭氧水供给方法,其特征在于浓度调整机构进行溶解臭氧的分解。5.根据权利要求4所述的臭氧水供给方法,其特征在于溶解臭氧的分解通过从超声波辐射、紫外线辐射、紊流发生、搅拌、加温、碱添加和过氧化氢添加构成的组中选择出的1种或2种以上的方式进行。6.根据权利要求1所述的臭氧水供给方法,其特征在于浓度调整机构进行臭氧水的稀释。7.根据权利要求1~6中任一项所述的臭氧水供给方法,其特征在于臭氧水向使用点的转送在臭氧水和臭氧气体共存的气液混合状态进行。8.一种臭氧水供给装置,其特征在于该臭氧水供给装置包括臭氧溶解...

【专利技术属性】
技术研发人员:福井长雄井田纯一森田博志
申请(专利权)人:栗田工业株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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