一种真空镀膜机用清洁装置制造方法及图纸

技术编号:31864072 阅读:30 留言:0更新日期:2022-01-12 14:04
本实用新型专利技术公开一种真空镀膜机用清洁装置,包括清洗轮和连接板,所述清洗轮的顶端设置有连接板,在连接板的表面设置有传动轴,在需要使用的清洁设备前,按下握把表面的控制按钮,握把内部的蓄电池给气罐表面的加压泵供电,使得气罐的气压升高,通过连接气管将气体输入清洁瓶的内部,使得清洁瓶内部的雾化喷头将清洗剂雾化喷射到设备内壁表面,同时按下控制按钮,驱动机带动清洗轮转动,使得清洗轮按压在设备的内壁表面对设备内壁清洗快速清洁,完成后将清洁瓶的内部装满清洁水,使用清水冲刷设备的内壁表面,然后清空清洁瓶内部的清水,使得气罐内部的高速气流通过清洁瓶顶端的雾化喷头排出吹干设备的内壁。雾化喷头排出吹干设备的内壁。雾化喷头排出吹干设备的内壁。

【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜机用清洁装置


[0001]本技术属于真空镀膜机相关
,具体涉及一种真空镀膜机用清洁装置。

技术介绍

[0002]真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空电阻加热蒸发,电子枪加热蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积,离子束溅射等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种,需要镀膜的被称为基片,镀的材料被称为靶材。基片与靶材同在真空腔中,蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面,经历成膜过程,最终形成薄膜。在真空镀膜使用过程中需要种真空镀膜机用清洁装置。
[0003]现有的技术存在以下问题:
[0004]现有的真空镀膜机用清洁装置在使用的过程中通常需要清理设备内壁表面,而传统的镀膜机在清理过程中通常采用的人工的方法,造成镀膜机清洁效率低下,且清洁的过本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜机用清洁装置,包括清洗轮(1)和连接板(2),其特征在于:所述清洗轮(1)的顶端设置有连接板(2),所述连接板(2)的表面设置有传动轴(3),所述传动轴(3)表面设置有传动皮带(4),所述传动皮带(4)的顶端设置有驱动机(7),所述连接板(2)的底端设置有握把(6),所述握把(6)的表面设置有控制按钮(13),所述驱动机(7)的一侧设置有固定槽(8),所述固定槽(8)的表面设置有密封盖(5),所述连接板(2)的右侧设置有固定夹(9),所述固定夹(9)的内部设置有清洁瓶(14),所述清洁瓶(14)的前端设置有雾化喷头(15),所述连接板(2)的前端设置有气罐(10),所述气罐(10)的表面设置有加压泵(11),所述握把(6)的后端设置有挡板(12)。2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机用清洁装置,其特征在于:所述连接板(2)共设置有两块,且两块连接板...

【专利技术属性】
技术研发人员:张毅平
申请(专利权)人:苏州凯瑞纳米科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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