光刻设备及器件制造方法技术

在浸没光刻设备中，通过减小衬底台上的间隙尺寸或区域和／或覆盖间隙来减少或防止浸没液体中的气泡形成。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光刻设备以及用于制造器件的方法
技术介绍
光刻设备是将所希望的图形应用到衬底上的机器，通常应用到衬底的目标部分上。光刻设备可以用在例如集成电路(IC)的制造中。在那种情况下，可使用可选地称为掩模或标线的构图装置来产生将要形成在IC的单独层上的电路图形。可以将该图形转印到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括部分、一个或若干管芯)上。转印图形一般是通过在提供于衬底上的一层辐射敏感材料(抗蚀剂)上成像。通常，单一衬底将包含被连续图形化的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括所谓的步进机和所谓的扫描仪，在步进机中每个目标部分都通过将整个图形一次曝光到目标部分上来照射，在扫描仪中每个目标部分都通过在给定方向(“扫描”-方向)上通过辐射束扫描该图形来照射，同时平行或反平行于该方向同步地扫描衬底。还能够通过将图形压印到衬底上来将图形从构图装置转印到衬底。已经提出将光刻设备中的衬底浸没在具有相对高的折射率的液体例如水中，以填充在投影系统的最终元件和衬底之间的空间。由于曝光辐射在液体中具有更短的波长，这一点使更小特征的成像成为可能。(液体的效果还可视作增加系统的有效NA，也本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种设置为将辐射束通过液体投射到衬底上的光刻投影设备，该设备包括配置为保持物体的支撑台，该物体包括传感器、衬底、密封板和盖板中的至少一个，其中物体和支撑台之间的间隙被保持为最小化以便最小化液体中的气泡形成。

【技术特征摘要】
US 2005-11-23 11/2857741.一种设置为将辐射束通过液体投射到衬底上的光刻投影设备，该设备包括配置为保持物体的支撑台，该物体包括传感器、衬底、密封板和盖板中的至少一个，其中物体和支撑台之间的间隙被保持为最小化以便最小化液体中的气泡形成。2.根据权利要求1的光刻投影设备，其中物体和支撑台之间的间隙小于0.8mm。3.根据权利要求1的光刻投影设备，其中物体和支撑台之间的间隙小于0.3mm。4.根据权利要求1、2、3或4的光刻投影设备，包括用于覆盖衬底台中或之上的多个传感器的单个盖板。5.根据前述任一权利要求的光刻投影设备，包括对于辐射束透明的盖板。6.根据权利要求4或5的光刻投影设备，其中盖板是薄膜。7.根据权利要求6的光刻投影设备，其中该薄膜连接到支撑台的外部边缘上。8.根据权利要求4、5或6的光刻投影设备，其中盖板与传感器集成。9.根据权利要求4到8中任一项的光刻投影设备，其中盖板由石英制成。10.根据前述任一权利要求的光刻投影设备，还包括配置为在支撑台的孔中侧向移动物体以便在与液体接触时减少物体边缘和孔侧面之间的间隙的驱动器。11.根据权利要求10的光刻投影设备，其中该驱动器配置为根据支撑台相对于液体的位置而在支撑台内执行物体的侧向运动以便与液体接触的支撑台的部分包含最小可能的间隙尺寸。12.根据前述任一权利要求的光...

【专利技术属性】
技术研发人员：H詹森，SMJ科尼利森，SNL唐德斯，RF德格拉夫，CA胡根达姆，H雅各布斯，MHA利德斯，JJSM默坦斯，B斯特里夫柯克，JGC范德图尔恩，P斯米茨，FJJ詹森，M里彭，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]