一种用于局部镀铜工艺的新型设备制造技术

技术编号:31862415 阅读:19 留言:0更新日期:2022-01-12 14:01
本实用新型专利技术公开了一种用于局部镀铜工艺的新型设备,包括镀铜液放置箱和旋转机构,所述镀铜液放置箱的外壁一侧固定有滑动机构,所述滑动机构的外壁两侧均安装有大小相同的第二固定块,所述第二固定块的内壁开设有第一螺纹槽,所述第一螺纹槽的内壁设有便于安装的第一螺纹杆,所述旋转机构安装在滑动机构的内壁一侧,所述旋转机构的外壁下方设有可调节的夹持机构。本实用新型专利技术,通过设置滑动机构,这样便于对于电镀的深度进行调节,同时旋转第一螺纹杆使其固定在第一螺纹槽的内壁当中,这样能够很好的对于移动的位置进行固定,这样可以有效的防止待电镀金属制品的位置产生移动。的防止待电镀金属制品的位置产生移动。的防止待电镀金属制品的位置产生移动。

【技术实现步骤摘要】
一种用于局部镀铜工艺的新型设备


[0001]本技术涉及镀铜相关
,具体为一种用于局部镀铜工艺的新型设备。

技术介绍

[0002]镀铜一般包括化学镀铜、电铸铜、电刷镀铜技术,铜及铜合金化学与电化学抛光的工艺规范,铜镀层的钝化、退除方法和技巧,镀铜通常分为化学镀铜和电镀铜,故而目前的镀铜工艺常用到新型设备,为此我们提出用于局部镀铜工艺的新型设备。
[0003]但是目前使用的新型设备,不便于对于待电镀金属制品的位置进行调节,对于待电镀金属制品的角度难以进行调节,对于铜制物体的位置不便于进行定位。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种用于局部镀铜工艺的新型设备,以解决上述
技术介绍
中提出的新型设备,不便于对于待电镀金属制品的位置进行调节,对于待电镀金属制品的角度难以进行调节,对于铜制物体的位置不便于进行定位的问题。
[0005]为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种用于局部镀铜工艺的新型设备,包括镀铜液放置箱和旋转机构,所述镀铜液放置箱的外壁一侧固定有滑动机构,所述滑动机构的外壁两侧均安装有大小相同的第二固定块,所述第二固定块的内壁开设有第一螺纹槽,所述第一螺纹槽的内壁设有便于安装的第一螺纹杆,所述旋转机构安装在滑动机构的内壁一侧,所述旋转机构的外壁下方设有可调节的夹持机构,所述镀铜液放置箱的内壁一侧安装有定位机构,所述定位机构的外壁上方安装有连接管,所述连接管的上方表面设置有正极接口,所述正极接口的外壁安装有直流电源,所述直流电源的外壁另一侧安装有负极接口。
[0006]优选的,所述滑动机构包括第一固定块、第一滑槽、滑块和第一定位块,所述第一固定块固定在镀铜液放置箱的外壁一侧,所述第一固定块的内壁两侧均开设有大小相同的第一滑槽,所述第一滑槽的内壁设有可活动的滑块,所述滑块的外壁固定安装有与之相匹配的第一定位块。
[0007]优选的,所述第一螺纹杆通过第一螺纹槽与第二固定块螺纹连接,且第一螺纹杆以第二固定块的中轴线对称设置。
[0008]优选的,所述旋转机构包括第二螺纹槽、螺纹旋杆、第二定位块、限位块和限位槽,所述第二螺纹槽开设在滑块的内壁上,所述第二螺纹槽的内壁设有可旋转的螺纹旋杆,所述螺纹旋杆的外表面设有与之相匹配的第二定位块,所述第二定位块的外壁两侧均安装有大小相同的限位块,所述限位块的外壁开设有限位槽。
[0009]优选的,所述夹持机构包括第二滑槽、第三定位块、夹持块、第三螺纹槽和第二螺纹杆,所述第二滑槽开设在第二定位块的外壁下方,所述第二定位块的外壁一侧安装有第三定位块,所述第二滑槽的内壁下方设有可活动的夹持块,所述第三定位块的内壁下方开设有第三螺纹槽,所述第三螺纹槽的内壁设有便于安装的第二螺纹杆。
[0010]优选的,所述定位机构包括放置板、定位轴、挡板和开设接口,所述放置板固定在镀铜液放置箱的内壁一侧,所述放置板的内壁下方两侧均安装有定位轴,所述放置板的外壁上方安装有挡板,所述挡板的外壁上方开设有开设接口。
[0011]与现有技术相比,本技术的有益效果是:
[0012]1、该用于局部镀铜工艺的新型设备,通过设置滑动机构,这样便于对于电镀的深度进行调节,同时旋转第一螺纹杆使其固定在第一螺纹槽的内壁当中,这样能够很好的对于移动的位置进行固定,这样可以有效的防止待电镀金属制品的位置产生移动。
[0013]2、该用于局部镀铜工艺的新型设备,通过设置定位机构,这样便于对于铜制物体进行定位,通过设置夹持机构,这样便于对于待电镀金属制品的位置进行固定,通过设置旋转机构,这样能够很好的对于待电镀金属制品的角度进行调节,这样能够很好的对于电镀的角度进行调节,从而便于进行局部电镀。
附图说明
[0014]图1为本技术正视结构示意图;
[0015]图2为本技术滑动机构结构示意图;
[0016]图3为本技术定位机构结构示意图;
[0017]图4为本技术旋转机构结构示意图;
[0018]图5为本技术夹持机构结构示意图。
[0019]图中:1、镀铜液放置箱;2、滑动机构;201、第一固定块;202、第一滑槽;203、滑块;204、第一定位块;3、第二固定块;4、第一螺纹槽;5、第一螺纹杆;6、旋转机构;601、第二螺纹槽;602、螺纹旋杆;603、第二定位块;604、限位块;605、限位槽;7、夹持机构;701、第二滑槽;702、第三定位块;703、夹持块;704、第三螺纹槽;705、第二螺纹杆;8、定位机构;801、放置板;802、定位轴;803、挡板;804、开设接口;9、连接管;10、正极接口;11、直流电源;12、负极接口。
具体实施方式
[0020]下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。
[0021]请参阅图1

5,本技术提供一种技术方案:一种用于局部镀铜工艺的新型设备,包括镀铜液放置箱1和旋转机构6,镀铜液放置箱1的外壁一侧固定有滑动机构2,滑动机构2的外壁两侧均安装有大小相同的第二固定块3,第二固定块3的内壁开设有第一螺纹槽4,第一螺纹槽4的内壁设有便于安装的第一螺纹杆5,旋转机构6安装在滑动机构2的内壁一侧,旋转机构6的外壁下方设有可调节的夹持机构7,镀铜液放置箱1的内壁一侧安装有定位机构8,定位机构8的外壁上方安装有连接管9,连接管9的上方表面设置有正极接口10,正极接口10的外壁安装有直流电源11,直流电源11的外壁另一侧安装有负极接口12。
[0022]进一步的,滑动机构2包括第一固定块201、第一滑槽202、滑块203和第一定位块204,第一固定块201固定在镀铜液放置箱1的外壁一侧,第一固定块201的内壁两侧均开设
有大小相同的第一滑槽202,第一滑槽202的内壁设有可活动的滑块203,滑块203的外壁固定安装有与之相匹配的第一定位块204,滑动机构2则能够对于待电镀金属制品在电解池内部的深度进行调节,移动第一定位块204使其带动滑块203在第一滑槽202当中进行滑动,这样则能够对于待电镀金属制品在电解池内部的深度进行调节。
[0023]进一步的,第一螺纹杆5通过第一螺纹槽4与第二固定块3螺纹连接,且第一螺纹杆5以第二固定块3的中轴线对称设置,旋转第一螺纹杆5使其固定在第二固定块3内壁开设的第一螺纹槽4当中,这样则能够很好的对于第一定位块204移动的位置进行定位,这样能够很好的防止第一定位块204的位置产生移动。
[0024]进一步的,旋转机构6包括第二螺纹槽601、螺纹旋杆602、第二定位块603、限位块604和限位槽605,第二螺纹槽601开设在滑块203的内壁上,第二螺纹槽601的内壁设有可旋转的螺纹旋杆602本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于局部镀铜工艺的新型设备,包括镀铜液放置箱(1)和旋转机构(6),其特征在于:所述镀铜液放置箱(1)的外壁一侧固定有滑动机构(2),所述滑动机构(2)的外壁两侧均安装有大小相同的第二固定块(3),所述第二固定块(3)的内壁开设有第一螺纹槽(4),所述第一螺纹槽(4)的内壁设有便于安装的第一螺纹杆(5),所述旋转机构(6)安装在滑动机构(2)的内壁一侧,所述旋转机构(6)的外壁下方设有可调节的夹持机构(7),所述镀铜液放置箱(1)的内壁一侧安装有定位机构(8),所述定位机构(8)的外壁上方安装有连接管(9),所述连接管(9)的上方表面设置有正极接口(10),所述正极接口(10)的外壁安装有直流电源(11),所述直流电源(11)的外壁另一侧安装有负极接口(12)。2.根据权利要求1所述的一种用于局部镀铜工艺的新型设备,其特征在于:所述滑动机构(2)包括第一固定块(201)、第一滑槽(202)、滑块(203)和第一定位块(204),所述第一固定块(201)固定在镀铜液放置箱(1)的外壁一侧,所述第一固定块(201)的内壁两侧均开设有大小相同的第一滑槽(202),所述第一滑槽(202)的内壁设有可活动的滑块(203),所述滑块(203)的外壁固定安装有与之相匹配的第一定位块(204)。3.根据权利要求1所述的一种用于局部镀铜工艺的新型设备,其特征在于:所述第一螺纹杆(5)通过第一螺纹槽(4)与第二固定块(3)螺纹连接,且第一螺纹杆(5)以第二固定块(3)的中轴线对称设置。4.根据权利要求2所述的一种用于局部镀铜工艺的新型设...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈洁
申请(专利权)人:安徽邦仪表面处理有限公司
类型:新型
国别省市:

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