批次形成装置、基板处理系统、批次形成方法及存储介质制造方法及图纸

一种批次形成装置，能够通过组合从以层叠状态分别容纳多片基板的多个载体中取出的多片基板来形成基板的批次。批次形成装置包括：从各个载体中取出并搬送容纳在各载体中的多片基板的基板搬送机构；对于由此基板搬送机构搬送的多片基板，通过使基板一片片地相对于其它基板移动，来改变这些多片基板的相互的位置关系的基板相互位置关系变更机构；由用此基板相互位置关系变更机构改变相互的位置关系且由基板搬送机构进一步搬送的多片基板来形成批次的批次形成机构。基板处理系统包括：这种批次形成装置；和对由该批次形成装置形成的基板的批次进行处理的基板处理装置。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种通过组合从以层叠状态分别容纳多片基板这样的多个载体中取出的多片基板来形成基板的批次这样的批次形成装置，具备该批次形成装置的基板处理系统，用于形成基板的批次的批次形成方法及在上述批次形成装置中使用的储存批次形成程序的存储介质。
技术介绍
以往，在半导体元件和平面显示器等的制造过程中，通过使用基板处理系统，执行对半导体晶片和液晶基板的内外面实施清洗和干燥等各种处理的基板处理工序。作为在这种基板处理工序中使用的基板处理系统，公知有相对于基板一片一片地进行处理这样的单片处理式的基板处理系统、和相对于多片基板集中进行处理这样的批次处理式的基板处理系统，按照半导体元件等的制造过程的规模和种类等，选择利用合适的基板处理系统。特别地，在批次处理式的基板处理系统中，通过集中处理多片基板，缩短对每一片基板的处理时间，实现处理工序的生产率的提高，为此目的而使用批次处理式的基板处理。为此，在这种批次处理式的基板处理系统中，就要求进一步提高生产率。为此，在批次处理式的基板处理系统中，不仅集中处理容纳在用于各处理工序间的移送的载体(每1个载体的容纳片数例如为25片)中的多片基板(具体来说为25片基板)，还能够集中处理容纳在多个载体中的更大量的(具体地例如50片)基板。为了实现此目的，使用批次形成装置，通过组合容纳在多个(例如2个)载体中的基板，形成例如由50片基板构成的批次。在批次处理式的基板处理系统中，能够对此基板的批次集中进行处理，具体地，在基板处理工序中，对基板的每批次实施清洗和干燥等各种处理。现有的基板处理系统包括执行以层叠状态容纳多片基板的载体的搬入及搬出的搬入搬出部，通过组合容纳在多个载体中的多片基板而形成集中处理用的基板的批次的批次形成部，对每个批次进行基板的清洗处理及干燥处理的基板处理部。在此，批次形成部具有能够同时搬送容纳在一载体中的多片基板的基板搬送机构，通过组合由此基板搬送机构搬送的多片基板来形成基板的批次的批次形成机构。在批次形成机构中形成基板的批次时，基板搬送机构从第1载体中取出多片基板，搬送到批次形成机构，在此批次形成机构中，纵向地载置彼此隔有微小的间隔而成为重合状态的多片基板。接着，基板搬送机构从第2载体中取出多片基板并搬送到批次形成机构，在此批次形成机构中纵向载置多片基板，此时，以使从第2载体搬送的各基板分别位于从第1载体搬送的多片基板的各个之间的方式，基板搬送机构将从第2载体取出的多片基板载置在批次形成机构中。据此，在批次形成机构中形成的基板的批次中的各基板间的距离约为容纳在载体的各基板间的距离的一半。像这样，在批次形成部的批次形成机构中形成由50片基板构成的批次(例如，参照特开2002-64075号公报)。
技术实现思路
但是，在上述这种现有的基板处理系统中，对容纳在各载体中的多片基板而言，不改变这些基板中的相互位置关系，仅简单地将多片基板以原有的状态依次从各载体搬送到批次形成机构。为此，在各载体中容纳的多片基板中，在各基板不能连续地重合、部分地产生基板的遗漏(基板不足)的情况下，通过批次形成部形成的基板的批次，也常会产生部分基板的遗漏。如此，在构成集中处理用的批次的多片基板中部分地产生遗漏时，就担心会妨碍后续的基板处理部中的各种处理。例如在清洗处理工序和干燥处理工序中，将构成批次的多片基板同时浸渍在清洗槽和干燥槽内进行基板的清洗和干燥。但是，在基板的批次中产生部分基板的遗漏时，彼此相邻的基板间的距离就会不同，相对于基板的清洗液和干燥蒸气的接触程度在每个基板中不同。为此，就担心不能获得均匀的清洗效果和干燥效果。特别地，在基板清洗工序中，在将基板的表面(电路形成面)彼此面对和背面彼此面对的情况下，通过将批次浸渍在清洗槽内，就防止了从基板背面侧剥离的污染物再附着在基板的表面侧。但是，在基板的批次中产生部分基板遗漏时，在批次中，就会产生基板的表面和背面相对的部分，就担心在基板清洗工序中，污染物再次附着到基板的表面。考虑这样的问题点而进行本专利技术，本专利技术的目的在于，提供一种即使在分别容纳在各载体的多片基板中各基板没有连续的重合、部分地产生基板遗漏的情况下也能够通过改变多片基板中的相互位置关系来消除这种基板的部分遗漏的批次形成装置、基板处理系统、批次形成方法、存储介质。根据这种批次形成装置，在形成的基板的批次中不产生基板的部分遗漏，就能够将批次中的基板的部分遗漏引起的、在此后的批次处理中担心会产生的故障防患于未然。本专利技术提供一种批次形成装置，通过组合从以层叠状态分别容纳多片基板的多个载体中取出的多片基板，来形成基板的批次，其特征在于，包括从各个载体中取出并搬送容纳在各载体中的多片基板的基板搬送机构；对于用上述基板搬送机构搬送的多片基板，通过使基板一片片地相对于其它基板移动，来改变这些多片基板的相互位置关系的基板相互位置关系变更机构；以及由用上述基板相互位置关系变更机构改变了相互的位置关系的、用上述基板搬送机构进一步搬送的多片基板来形成批次的批次形成机构。在本专利技术的批次形成装置中，优选上述基板搬送机构在位于该基板搬送机构从上述各载体中取出基板的位置和配设上述批次形成机构的位置之间的搬送路径上移动；上述基板相互位置关系变更机构配设在上述搬送路径的途中。在本专利技术的批次形成装置中，优选上述基板搬送机构根据容纳在上述各载体中的多片基板的容纳状态，选择执行将容纳在上述各载体中的多片基板直接搬送到上述批次形成机构的动作，或先将容纳在上述各载体中的多片基板搬送到上述基板相互位置关系变更机构，改变这些多片基板的相互的位置关系后，将其搬送到上述批次形成机构的动作中的某一种动作。在本专利技术的批次形成装置中，优选上述基板搬送机构在多片基板的搬送中能够改变方向，以使这些多片基板从在水平方向上延伸的状态变为在垂直方向上延伸的状态。在本专利技术的批次形成装置中，优选上述基板搬送机构将从上述各载体中取出的多片基板搬送到上述批次形成机构或上述基板相互位置关系变更机构中的任意的基板容纳位置。在本专利技术的批次形成装置中，优选上述基板相互位置关系变更机构，在用上述基板搬送机构搬送的多片基板中各基板不连续地重合而部分地产生基板的遗漏时，使基板一片片地相对于其它基板移动，以在此遗漏部分填补基板。在本专利技术的批次形成装置中，优选上述基板相互位置关系变更机构，在用上述基板搬送机构从多个载体中搬送各个多片基板时，在从一载体中取出的多片基板中各基板不连续地重合而部分地产生基板遗漏时，使从其它载体取出的基板一片片地移动，以在此遗漏部分填补从其它载体取出的基板。本专利技术提供一种基板处理系统，其特征在于，包括通过组合从以层叠状态分别容纳多片基板的多个载体中取出的多片基板来形成基板的批次的批次形成装置；和对由上述批次形成装置形成的基板的批次进行处理的基板处理装置；上述批次形成装置具有从各个载体中取出并搬送容纳在各载体中的多片基板的基板搬送机构；对于用上述基板搬送机构搬送的多片基板，通过使基板一片片地相对于其它基板移动，来改变这些多片基板的相互位置关系的基板相互位置关系变更机构；由用上述基板相互位置关系变更机构改变了相互的位置关系的、用上述基板搬送机构进一步搬送的多片基板来形成批次的批次形成机构。在本专利技术的基板处理系统中，优选上述批次形成装置的上述基本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种批次形成装置，通过组合从以层叠状态分别容纳多片基板的多个载体中取出的多片基板，来形成基板的批次，其特征在于，包括：从各个载体中取出并搬送容纳在各载体中的多片基板的基板搬送机构；对于用上述基板搬送机构搬送的多片基板，通过使 基板一片片地相对于其它基板移动，来改变这些多片基板的相互位置关系的基板相互位置关系变更机构；以及由用上述基板相互位置关系变更机构改变了相互的位置关系的、用上述基板搬送机构进一步搬送的多片基板来形成批次的批次形成机构。

【技术特征摘要】
JP 2005-10-28 2005-3144091.一种批次形成装置，通过组合从以层叠状态分别容纳多片基板的多个载体中取出的多片基板，来形成基板的批次，其特征在于，包括从各个载体中取出并搬送容纳在各载体中的多片基板的基板搬送机构；对于用上述基板搬送机构搬送的多片基板，通过使基板一片片地相对于其它基板移动，来改变这些多片基板的相互位置关系的基板相互位置关系变更机构；以及由用上述基板相互位置关系变更机构改变了相互的位置关系的、用上述基板搬送机构进一步搬送的多片基板来形成批次的批次形成机构。2.根据权利要求1所述的批次形成装置，其特征在于，上述基板搬送机构在位于该基板搬送机构从上述各载体中取出基板的位置和配设上述批次形成机构的位置之间的搬送路径上移动；上述基板相互位置关系变更机构配设在上述搬送路径的途中。3.根据权利要求1所述的批次形成装置，其特征在于，上述基板搬送机构根据容纳在上述各载体中的多片基板的容纳状态，选择执行将容纳在上述各载体中的多片基板直接搬送到上述批次形成机构的动作，或先将容纳在上述各载体中的多片基板搬送到上述基板相互位置关系变更机构，改变这些多片基板的相互的位置关系后，将其搬送到上述批次形成机构的动作中的某一种动作。4.根据权利要求1所述的批次形成装置，其特征在于，上述基板搬送机构在多片基板的搬送中能够改变方向，以使这些多片基板从在水平方向上延伸的状态变为在垂直方向上延伸的状态。5.根据权利要求1所述的批次形成装置，其特征在于，上述基板搬送机构将从上述各载体中取出的多片基板搬送到上述批次形成机构或上述基板相互位置关系变更机构中的任意的基板容纳位置。6.根据权利要求1所述的批次形成装置，其特征在于，上述基板相互位置关系变更机构，在用上述基板搬送机构搬送的多片基板中各基板不连续地重合而部分地产生基板的遗漏时，使基板一片片地相对于其它基板移动，以在此遗漏部分填补基板。7.根据权利要求1所述的批次形成装置，其特征在于，上述基板相互位置关系变更机构，在用上述基板搬送机构从多个载体中分别搬送多片基板时，在从一载体中取出的多片基板中各基板不连续地重合而部分地产生基板遗漏时，使从其它载体取出的基板一片片地移动，以在此遗漏部分填补从其它载体取出的基板。8.一种基板处理系统，其特征在于，包括通过组合从以层叠状态分别容纳多片基板的多个载体中取出的多片基板来形成基板的批次的批次形成装置；和，对由上述批次形成装置形成的基板的批次进行处理的基板处理装置；上述批次形成装置具有从各个载体中取出并搬送容纳在各载体中的多片基板的基板搬送机构；对于用上述基板搬送机构搬送的多片基板，通过使基板一片片地相对于其它基板移动，来改变这些多片基板的相互位置关系的基板相互位置关系变更机构；以及由用上述基板相互位置关系变更机构改变了相互的位置关系的、用上述基板搬送机构进一步搬送的多片基板来形成批次的批次形成机构。9.根据权利要求8所述的基板处理系统，其特征在于，上述批次形成装置的上述基板搬送机构，在位于该基板搬送机构从上述各载体中取出基板的位置和配设上述批次形成机构的位置之间的搬送路径上移动，上述基板相互位置关系变更机构配设在上述搬送路径的途中。10.根据权利要求8所述的基板处理系统，其特征在于，上述批次形成装置的上述基板搬送机构根据容纳在上述各载体中的多片基板的容纳状态，选择执行将容纳在上述各载体中的多片基板直接搬送到上述批次形成机构的动作，或先将容纳在上述各载体中的多片基板搬送到上述基板相互位置关系变更机构，改变这些多片基板的相互的位置关系后，将其搬送到上述批次形成机构的动作中的某一种动作。11.根据权利要求8所述的基板处理系统，其特征在于，上述批次形成装置的上述基板搬送机构在多片基板的搬送中能够改变方向，以使这些多片基板从在水平方向上延伸的状态变为在垂直方向上延伸的状态。12.根据权利要求8所述的基板处理系统，其特征在于，上述批次形成装置的上述基板搬送机构将从上述各载体中取出的多片基板搬送到上述批次形成机构或上述基板相互位置关系变更机构中的任意的基板容纳位置。13.根据权利要求8所述的基板处理系统，其特征在于，上述批次形成装置的上述基板相互位置关系变更机构，在用上述基板搬送机构搬送的多片基板中各基板不连续地重合而部分地产生基板的遗漏时，使基板一片片地相对于其它基板移动，以在此遗漏部分填补基板。14.根据权利要求8所述的基板处理系统，其特征在于，上述批次形成装置的上述基板相互位置关系变更机构，在用...

【专利技术属性】
技术研发人员：上川裕二，江头浩司，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]