光刻装置和器件制造方法制造方法及图纸

公开了一种光刻装置，其具有与基底台隔开地形成的盖板和通过控制该盖板的温度来稳定基底台的温度的装置。公开了一种光刻装置，其具有布置在盖板和基底台之间的热绝缘体，使得该盖板用作基底台的热屏蔽。公开了一种光刻装置，其包括确定基底台的变形并参考该基底台的变形来改善对基底位置控制的装置。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光刻装置和制造器件的方法。
技术介绍
光刻装置是将期望的图案施加到基底上(通常是基底靶部上)的一种装置。光刻装置可以用于例如集成电路(IC)的制造。在这种情况下，构图部件(或者称为掩模或分划板)可用于产生形成在IC的一个单独层上的电路图案。该图案可以被转印到基底(例如硅晶片)的靶部上(例如包括一部分，一个或者多个芯片模(die))。通常这种图案的转印是通过成像在涂敷于基底的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。一般地，单一的基底将包含被相继构图的相邻靶部的网格。已知的光刻装置包括所谓的步进器，其中通过将整个图案一次曝光到靶部上而辐射每一靶部，已知的光刻装置还包括所谓的扫描器，其中通过在辐射光束下沿给定的方向(“扫描”方向)扫描所述图案并同时沿与该方向平行或者反平行的方向同步扫描基底来辐射每一靶部。还可以通过将图案压印到基底上把图案从构图部件转印到基底上。 已经有人提议将光刻投影装置中的基底浸入具有相对高的折射率的液体中，如水中，从而填充投影系统的最末元件和基底之间的空间。由于曝光辐射在该液体中具有更短的波长，从而能够对更小的特征进行成像。(液体的作用也可以认为是增大了系本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻装置，包括：布置成支撑基底的基底台；配置成将调制过的辐射光束投影到基底上的投影系统；配置成在曝光过程中将液体提供到投影系统和基底之间的区域中的液体供给系统；与基底台物理地隔开的盖板，其在曝光过程中沿径向定位在基底的外侧，并配置成提供面对投影系统的表面，该表面与基底基本上相邻且平齐；以及基底台温度稳定装置，其配置成通过控制一部分盖板的温度来减小一部分基底台与对应目标温度的温度偏差。

【技术特征摘要】
US 2005-12-30 11/321461的范围的条件下，可以对所描述的发明进行各种修改。权利要求1.一种光刻装置，包括布置成支撑基底的基底台；配置成将调制过的辐射光束投影到基底上的投影系统；配置成在曝光过程中将液体提供到投影系统和基底之间的区域中的液体供给系统；与基底台物理地隔开的盖板，其在曝光过程中沿径向定位在基底的外侧，并配置成提供面对投影系统的表面，该表面与基底基本上相邻且平齐；以及基底台温度稳定装置，其配置成通过控制一部分盖板的温度来减小一部分基底台与对应目标温度的温度偏差。2.根据权利要求1所述的光刻装置，其中，所述温度稳定装置包括配置成将热量输入到一部分盖板的加热元件，和/或配置成从一部分盖板吸取热量的冷却元件。3.根据权利要求1所述的光刻装置，其中，所述温度稳定装置包括嵌在盖板内的通道网络和配置成控制所述通道网络内的热交换流体的温度和/或压力的控制器，以便减小一部分基底台与对应目标温度的温度偏差。4.根据权利要求1所述的光刻装置，其中，所述温度稳定装置包括加热元件和配置成对该加热元件的热输出进行控制的控制器，从而减小一部分基底台与对应目标温度的温度偏差。5.根据权利要求4所述的光刻装置，其中，所述加热元件包括在目标温度的范围内进行热致相变的材料，所述相变使得该材料从一种状态变化到另一种状态，在前一种状态中，该材料低于转变温度而产生相对高的加热输出，在后一种状态中，该材料高于转变温度而产生相对低的加热输出。6.根据权利要求5所述的光刻装置，其中，所述基底台温度稳定装置布置成使电流流过进行相变的材料，该相变为使得该加热元件材料从低于转变温度的相对低的电阻率的状态变化成高于转变温度的相对高的电阻率的状态。7.根据权利要求5所述的光刻装置，其中，所述基底台温度稳定装置布置成向进行相变的材料施加变化的磁场，该相变为使得该加热元件材料从低于转变温度的磁滞态变化成高于转变温度的非磁滞态。8.根据权利要求1所述的光刻装置，还包括温度传感器，所述温度传感器配置成测量一部分基底台和/或盖板的温度，其中，所述基底台温度稳定装置配置成利用温度传感器的温度读数来减小一部分基底台与对应目标温度的温度偏差。9.根据权利要求1所述的光刻装置，还包括基底保持器，所述基底保持器定位在基底台和基底之间，并布置成支撑基底。10.根据权利要求9所述的光刻装置，其中，热传导耦合媒质布置在基底台和盖板之间和/或基底台和基底保持器之间。11.根据权利要求10所述的光刻装置，其中，所述热传导耦合媒质是流体和/或铟。12.根据权利要求9所述的光刻装置，其中，所述基底保持器由包括SiSiC的材料构成。13.一种器件制造方法，包括透过液体将调制过的辐射光束投影到保持在基底台上的基底上；以及通过控制一部分盖板的温度，来减小一部分基底台与对应目标温度的温度偏差，所述盖板与基底台物理地隔开，并且在对调制过的辐射光束进行投影的过程中沿径向定位在基底外侧，并且具有与基底基本上相邻且平齐的表面。14.一种光刻装置，包括布置成支撑基底的基底台；配置成将调制过的辐射光束投影到基底上的投影系统；配置成在曝光过程中将液体提供到投影系统和基底之间的区域中的液体供给系统；与基底台物理地隔开的盖板，其在曝光过程中沿径向定位在基底的外侧，并配置成提供面对投影系统的表面，该表面与基底基本上相邻且平齐；以及热绝缘体，其布置成减小所述盖板和基底台之间的传热，以便由盖板来提供对基底台的热屏蔽。15...

【专利技术属性】
技术研发人员：KJJM扎尔，JJ奥坦斯，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]