衬底处理方法技术

在晶片表面形成抗蚀剂膜；为了对抗蚀剂膜照射曝光光线，在与抗蚀剂膜对置的光学部件和晶片的表面之间以使曝光光线透过并且具有清洗晶片表面以及光学部件表面功能的液体形成液层；使从光学部件照射的曝光光线通过液层以预定的图形照射在抗蚀剂膜上，由此，对抗蚀剂膜进行曝光；对曝光结束后的晶片进行显影，在晶片上形成预定的图形。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种衬底处理方法，其中具有如下步骤：在衬底表面形成抗蚀剂膜；为了对所述抗蚀剂膜照射曝光光线，在与所述抗蚀剂膜对置的光学部件和所述衬底的表面之间形成使曝光光线透过的液层；通过使从所述光学部件照射的曝光光线通过所述液层照射在所述抗蚀剂膜 上，对所述抗蚀剂膜进行曝光；对所述曝光结束后的衬底进行显影，形成所述液层的液体具有清洗所述衬底的表面以及所述光学部件的表面的功能。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：下青木刚，京田秀治，丹羽崇文，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]