大型玻璃基板及其制造方法、以及母玻璃曝光方法技术

通过将大型玻璃基板材料加工（１）基于基板材料在垂直姿态下的高度数据的整平去除量加上变形修正去除量，来制备用于形成光掩模基板的大型玻璃基板。变形修正去除量是从以下量计算的：（２）基板材料在水平姿态下由于其自身重量而产生的弯曲；（３）由于夹紧在曝光设备中引起的光掩模基板的变形；以及（４）用于支撑母玻璃的台板的精度失真。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种制造用于形成光掩模基板的大型玻璃基板的方法，该光掩模基板用在母玻璃曝光处理中，该处理包括：通过相对两边边缘的支撑将具有相对两边的光掩模基板安装在曝光设备上；在光掩模基板的下侧相邻地设置用作ＴＦＴ液晶面板中的阵列侧或彩色滤光片侧基板的母玻璃；并且穿过光掩模基板从曝光设备将光照射到母玻璃上，所述方法包括通过去除（１）基于大型玻璃基板材料在垂直姿态下的正面和背面的平坦度和平行度的高度数据的材料整平去除量加上材料的变形修正去除量，将具有正面和背面、对角线长度至少为５００ｍｍ并且厚度至少为４ｍｍ的大型玻璃基板材料加工成大型玻璃基板的步骤，变形修正去除量是从以下量计算出的：（２）从基板材料的厚度和尺寸以及当光掩模基板被水平支撑时的支撑位置计算出的基板材料在水平姿态下由于其自身重量而导致的弯曲；（３）在将光掩模基板安装在曝光设备上时由于光掩模基板的支撑而引起的光掩模基板的变形；以及（４）用于支撑母玻璃的台板的精度失真，其中所得到的大型玻璃基板的横截面具有弓形形状，从而在垂直保持时与母玻璃相对的表面为凹形，减小了母玻璃和由在将光掩模基板的相对两边边缘支撑在曝光设备中时水平保持的大型玻璃基板形成的光掩模基板之间的接近间隙的变化。...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：上田修平，柴野由纪夫，渡部厚，草开大介，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]