【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
改进栅极电介质叠层的方法，所述方法包括：提供具有形成在衬底上的高ｋ层的栅极电介质叠层；由包含惰性气体和含氧气体或含氮气体中的一种的处理气体生成等离子体，并选择所述处理气体的压力，以便有效地控制所述等离子体中的中性自由基相对于 离子自由基的量；通过使所述叠层暴露于所述等离子体来改进所述栅极电介质叠层，其中所述压力被选择，以使当所述处理气体包含含氧气体时提高中性自由基相对于离子自由基的量，当所述处理气体包含含氮气体时提高离子自由基相对于中性自由基的量 。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：新实宽明，路吉克罗姆伯，下村晃司，菅原卓也，松土龙夫，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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