遮护体和真空处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种使用在真空处理装置的处理容器内的遮护体，其目的在于提供一种具有加热单元、采用通过简单的结构可以实现薄型化的遮护体的真空处理装置。因此，本发明专利技术的真空处理装置，其特征在于，包括：处理容器、对上述处理容器的处理空间进行排气的排气单元、保持被处理基板的保持台、以及设置在上述处理容器内部的遮护体，上述遮护体包括在上述处理容器内部的被减压的处理空间内露出的外壁结构、形成在上述外壁结构的内部与上述处理空间隔绝的内部空间、以及设置在上述内部空间内对上述外壁结构进行加热的加热单元，上述内部空间与上述真空处理容器的外部连通，上述加热单元形成在上述内部空间内以片状延伸的形式。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种设置在真空处理装置的处理容器内部的遮护体，其特征在于，包括：露出于所述处理容器内部的被减压的处理空间的外壁结构；形成在所述外壁结构的内部、与所述处理空间隔绝的内部空间；和设置在所述内部空间、对所述外壁结构进行加热 的加热单元，所述内部空间与所述真空处理容器的外部连通，所述加热单元形成为以片状在所述内部空间内延伸。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：野泽俊久，汤浅珠树，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]