一种高比表面积低残氨黄色氧化钨制备用煅烧工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种高比表面积低残氨黄色氧化钨制备用煅烧工艺，涉及氧化钨制备技术领域，该工艺包括先将仲钨酸铵在＜300℃的第一温度、氧化氛围下进行离解，得到铵钨化合物，再将铵钨化合物在300

【技术实现步骤摘要】
一种高比表面积低残氨黄色氧化钨制备用煅烧工艺


[0001]本专利技术涉及氧化钨制备
，具体讲是一种高比表面积低残氨黄色氧化钨制备用煅烧工艺。

技术介绍

[0002]钨是重要的战略资源，因其具有熔点高、硬度大、延性强、耐磨和耐腐蚀等优良性能而得到广泛应用。
[0003]氧化钨是钨工业领域里一种极其重要的中间产品，工业上，一般生产高比表面积的氧化钨产品，往往是通过物理破碎的方法，使用氧化钨产品为原料进行破碎，例如气流破碎、球磨等。但这种对已经生产的氧化钨进行加工的方式，不仅成本高，而且这些破碎手段，往往极大的破坏了氧化钨产品的晶型晶貌，对后续的钨产品深度加工造成极大的负面影响。因此，通过物理破碎的方式，其应用的领域极小，工业上很少被应用。
[0004]黄色氧化钨呈细碎的黄色晶体状粉末。它是在煅烧仲钨酸氨过程中，严格控制温度，脱离结合水或水和氨。精准的时间和温度的控制，在很大程度上影响氧化钨的物理特性。在黄色氧化钨生产过程中，其生产条件对比表面积、残氨的影响是相矛盾，一般很难兼顾高比表面积和低残氨，但随着环保要求的提高，污染因子氨监管日益加剧，越来越要求氧化钨中残留的氨尽量低。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提供一种高比表面积低残氨黄色氧化钨制备用煅烧工艺。
[0006]本专利技术的技术解决方案如下：
[0007]一种高比表面积低残氨黄色氧化钨制备用煅烧工艺，先将仲钨酸铵在＜300℃的第一温度、氧化氛围下进行离解，得到铵钨化合物，再将铵钨化合物在300
‑
500℃的第二温度、氧化氛围下煅烧，继续升温到500
‑
700℃的第三温度、氧化氛围下煅烧，得到黄色氧化钨。
[0008]优选地，所述第一温度为200
‑
285℃。
[0009]优选地，所述第二温度为350
‑
460℃。
[0010]优选地，所述第三温度为550
‑
680℃。
[0011]优选地，煅烧的同时将期间产生的氨气和水汽抽出。
[0012]优选地，抽出的速率为2
‑
3.5m3/min。
[0013]优选地，所述仲钨酸铵在煅烧之前进行预处理，将其均匀混合在高分子溶液中。
[0014]优选地，所述高分子溶液为：将聚乙烯醇或聚乙烯吡咯烷酮溶于蒸馏水中，得到质量浓度10
‑
20％的高分子溶液。
[0015]本专利技术的有益效果是：
[0016](1)本专利技术的一种高比表面积低残氨黄色氧化钨的制备用煅烧工艺，采用三阶段
温度下对仲钨酸铵进行煅烧，第一温度下先将仲钨酸铵表面的水分子和氨分子挥发离解，第二温度下煅烧进行裂解，并生成复杂的中间产物，第三温度下继续煅烧生成氧化钨，相比于一次煅烧工艺，粒度大大降低，残氨量也非常小，能够制得高比表面积的黄色氧化钨。
[0017](2)本专利技术的一种高比表面积低残氨黄色氧化钨的制备用煅烧工艺，在煅烧时开始抽气，能够减少氨气的还原氛围对氧化钨的影响，而且能够减少残氨率。
[0018](3)本专利技术的一种高比表面积低残氨黄色氧化钨的制备用煅烧工艺，将仲钨酸铵与高分子溶液混合，得到具有网络状模板混合胶凝溶液，在仲钨酸铵低温煅烧的过程中可能减少了其粒度变粗的概率，因此，对其粒度细化具有改进作用。
具体实施方式
[0019]一种高比表面积低残氨黄色氧化钨制备用煅烧工艺，先将仲钨酸铵在＜300℃的第一温度、氧化氛围下进行离解，得到铵钨化合物，再将铵钨化合物在300
‑
500℃的第二温度、氧化氛围下煅烧，继续升温到500
‑
700℃的第三温度、氧化氛围下煅烧，得到黄色氧化钨。
[0020]优选地，所述第一温度为200
‑
285℃。
[0021]优选地，所述第二温度为350
‑
460℃。
[0022]优选地，所述第三温度为550
‑
680℃。
[0023]优选地，煅烧的同时将期间产生的氨气和水汽抽出。
[0024]优选地，抽出的速率为2
‑
3.5m3/min。
[0025]优选地，所述仲钨酸铵在煅烧之前进行预处理，将其均匀混合在高分子溶液中。
[0026]优选地，所述高分子溶液为：将聚乙烯醇或聚乙烯吡咯烷酮溶于蒸馏水中，得到质量浓度10
‑
20％的高分子溶液。
[0027]下面通过实施例对本专利技术作进一步详述。但不局限于此。
[0028]实施例1
[0029]将APT置入进料仓中，通过螺旋给料机以180kg/h为速度送入相对真空度
‑
200Pa的回转炉中，打开炉尾观察镜为敞开体系，温度控制为：第一温度控制区200℃、氧气氛围，第二温度控制区320℃、氧气氛围；第三温度控制区550℃、氧气氛围，炉管转速2.5r/min，煅烧的同时将期间产生的氨气和水汽抽出，抽出的速率为2.5m3/min，经过回转炉煅烧后，冷却、过筛，制得黄色氧化钨。
[0030]实施例2
[0031]将APT置入进料仓中，通过螺旋给料机以180kg/h为速度送入相对真空度
‑
200Pa的回转炉中，打开炉尾观察镜为敞开体系，温度控制为：第一温度控制区180℃、氧气氛围，第二温度控制区350℃、氧气氛围，第三温度控制区600℃、氧气氛围，炉管转速2.5r/min，煅烧的同时将期间产生的氨气和水汽抽出，抽出的速率为3.5m3/min，经过回转炉煅烧后，冷却、过筛，制得黄色氧化钨。
[0032]实施例3
[0033]将APT置入进料仓中，通过螺旋给料机以180kg/h为速度送入相对真空度
‑
200Pa的回转炉中，打开炉尾观察镜为敞开体系，温度控制为：第一温度控制区190℃、氧气氛围，第二温度控制区380℃、氧气氛围，第三温度控制区650℃、氧气氛围，炉管转速2.5r/min，煅烧
的同时将期间产生的氨气和水汽抽出，抽出的速率为3.5m3/min，经过回转炉煅烧后，冷却、过筛，制得黄色氧化钨。
[0034]实施例4
[0035]仲钨酸铵在煅烧之前进行预处理，将其与高分子溶液质量比1:12均匀混合在高分子溶液中，搅拌均匀，静置至气泡完全消失，得到含有APT的溶胶凝胶物质，所述高分子溶液为：将聚乙烯醇溶于蒸馏水中，得到质量浓度10％的高分子溶液。
[0036]将含有APT的溶胶凝胶物质置入进料仓中，通过螺旋给料机以180kg/h为速度送入相对真空度
‑
200Pa的回转炉中，打开炉尾观察镜为敞开体系，温度控制为：第一温度控制区190℃、氧气氛围，第二温度控制区380℃、氧气氛围，第三温度控制区650℃、氧气氛围，炉管转速2.5r/min，煅烧的同时将期间产生的氨气和水汽抽出，抽出的速本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高比表面积低残氨黄色氧化钨制备用煅烧工艺，其特征在于，先将仲钨酸铵在＜300℃的第一温度、氧化氛围下进行离解，得到铵钨化合物，再将铵钨化合物在300
‑
500℃的第二温度、氧化氛围下煅烧，继续升温到500
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700℃的第三温度、氧化氛围下煅烧，得到黄色氧化钨。2.根据权利要求1所述的一种高比表面积低残氨黄色氧化钨制备用煅烧工艺，其特征在于，所述第一温度为200
‑
285℃。3.根据权利要求1所述的一种高比表面积低残氨黄色氧化钨制备用煅烧工艺，其特征在于，所述第二温度为350
‑
460℃。4.根据权利要求1所述的一种高比表面积低残氨黄色氧化钨制备用煅烧工艺，其特征在于，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：周红水，李祀韬，
申请(专利权)人：赣州海盛钨钼集团有限公司，
类型：发明
国别省市：