电感线圈模块、电感耦合等离子体生成系统和装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及电感线圈模块、电感耦合等离子体生成系统和装置。本发明专利技术提供的生成电感耦合等离子体的电感线圈模块中，所述电感线圈模块包括至少一个天线单元，其中，所述天线单元还包括：第一弧，位于第一平面，并且具有第一半径；第二弧，位于所述第一平面，并且具有大于所述第一半径的第二半径；第一延伸部，从所述第一弧的一端延伸；第二延伸部，从所述第一弧的另一端延伸；第三延伸部，从所述第二弧的一端延伸；第四延伸部，从所述第二弧的另一端延伸；以及第一连接部，连接所述第二延伸部和所述第三延伸部，其中，当沿着与所述第一平面垂直的方向观察时，所述第一连接部与所述第一延伸部重叠。重叠。重叠。

【技术实现步骤摘要】
电感线圈模块、电感耦合等离子体生成系统和装置
[0001]本申请是申请日为2017年10月30日、专利技术名称为“电感线圈结构和电感耦合等离子体生成系统”的申请号为201780001936.8的专利申请的分案申请。


[0002]本专利技术涉及一种电感耦合等离子体(ICP：inductively
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coupled plasma)生成系统，且特别地，涉及一种包括插入在多个天线之间的电容器且具有分压结构的ICP生成系统。

技术介绍

[0003]等离子体用于对基板(例如，半导体晶片)进行蚀刻的处理或在基板上沉积层的处理。而且，等离子体用于新材料的合成、表面处理和环境净化。此外，大气压等离子体用于等离子体洗涤器、清洗、杀菌和护肤。
[0004]为了生成传统的电感耦合等离子体(ICP)，使用被电感线圈缠绕的电介质放电管。然而，传统的电感线圈结构具有低的放电稳定性和低的等离子体密度。
[0005]本专利技术提供了一种新颖的电感线圈结构，该电感线圈结构被配置成能够在大气压或几托以上的高压下稳定地生成电感耦合等离子体。<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种生成电感耦合等离子体的电感线圈模块，其中：所述电感线圈模块包括至少一个天线单元，其中，所述天线单元还包括：第一弧，所述第一弧位于第一平面，并且具有第一半径；第二弧，所述第二弧位于所述第一平面，并且具有大于所述第一半径的第二半径；第一延伸部，所述第一延伸部从所述第一弧的一端延伸；第二延伸部，所述第二延伸部从所述第一弧的另一端延伸；第三延伸部，所述第三延伸部从所述第二弧的一端延伸；第四延伸部，所述第四延伸部从所述第二弧的另一端延伸；以及第一连接部，所述第一连接部连接所述第二延伸部和所述第三延伸部，其中，当沿着与所述第一平面垂直的方向观察时，所述第一连接部与所述第一延伸部重叠。2.一种电感耦合等离子体生成系统，其包括：电介质管，所述电介质管沿长度方向延伸；第一电感线圈结构，所述第一电感线圈结构被设置成包围所述电介质管且在所述电介质管中产生电感耦合等离子体；RF电源，所述RF电源被配置成提供具有相反相位的正电压和负电压，以向所述第一电感线圈结构的两端分别供应RF功率的正电压和负电压，并且所述RF电源被配置成改变驱动频率；第一主电容器，所述第一主电容器被设置在所述RF电源的正输出端子与所述第一电感线圈结构的一端之间；以及第二主电容器，所述第二主电容器被设置在所述RF电源的负输出端子与所述第一电感线圈结构的另一端之间，其中，所述第一电感线圈结构包括：电感线圈；和辅助电容器，所述辅助电容器被分别设置在所述电感线圈中的相邻电感线圈之间，以分配施加到所述电感线圈的电压，所述第一电感线圈结构包括：第一弧，所述第一弧位于第一平面，并且具有第一半径；第二弧，所述第二弧位于所述第一平面，并且具有大于所述第一半径的第二半径；第一延伸部，所述第一延伸部从所述第一弧的一端延伸；第二延伸部，所述第二延伸部从所述第一弧的另一端延伸；第三延伸部，所述第三延伸部从所述第二弧的一端延伸；第四延伸部，所述第四延伸部从所述第二弧的另一端延伸；以及第一连接部，所述第一连接部连接所述第二延伸部和所述第三延伸部，其中，当沿着与所述第一平面垂直的方向观察时，所述第一连接部与所述第一延伸部重叠。3.一种电感耦合等离子体生成装置，所述电感耦合等离子体生成装置包括电感线圈和管，其中：
所述电感线圈包括：第一单位天线，所述第一单位天线包括第一端、第二端以及在所述第一端与所述第二端之间的第一圆弧，并且缠绕所述管；第二单位天线，所述第二单位天线在所述管的长度的方向上位于距...

【专利技术属性】
技术研发人员：严世勋，李润星，
申请(专利权)人：源多可科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：