光刻设备和器件制造方法技术

公开了一种光刻设备，包括：支架，构建用于支撑构图装置，所述构图装置能够沿截面给予辐射束图案以形成已构图的辐射束，所述支架包括支架夹具，所述支架夹具构建用于将构图装置夹紧到支架上；以及弯曲机械装置，构建用于将弯曲扭矩施加到已夹紧的构图装置上，所述弯曲机械装置包括力／扭矩传动装置，配置用于无需实质减小由支架夹具施加于构图装置上的夹紧力就可以对已夹紧的构图装置起作用。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光刻设备和一种用于制造器件的方法。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底(通常应用到衬底的目标部分)上的机器。例如，可以将光刻设备用于制造集成电路(ic)。在这种情况下，可以将替代地称为掩模(mask)或掩膜版(reticle)的构图装置用 于产生将要在IC的单独层上形成的电路图案。典型地将图案经由成像转 移到衬底上设置的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。通常，单独的衬底将 包含连续进行构图的相邻目标部分的网络。传统的光刻设备包括所谓 的步进机，在所述步进机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部分 上来辐射每一个目标部分；以及所谓的扫描器，在所述扫描器中，通过 沿给定方向(扫描方向)的辐射束扫描所述图案、同时沿与该方向平 行或反向平行地扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。还可以通过将所 述图案压印(imprinting)到所述衬底上，将所述图案从所述构图 (patterning)装置转移到所述衬底上。在光刻设备中，当构图装置由夹具在其底部和/或顶部表面处支撑 时，可能出现构图装置的弯曲。例如，这种弯曲是由重力和热效应引起 的。补偿这种弯曲的一种方式是通过调节一个或更多投影系统光学元件 (例如， 一个或更多透镜元件)。然而，通过使用可调透镜元件引入所谓 的场曲率(field curvature)可能是以引入像散为代价的，也就是 说图案的水平和垂直线之间的焦距差，这固有地限制了光刻设备的聚焦 性能。在其中将构图装置夹紧在其底侧处的光刻设备中，出现彼此部分 抵消的两种热效应。热效应之一是引起构图装置总体膨胀的整体加热， 并且因为构图装置由夹具来支撑，这引起夹具处的张力，并且具有构图装置变得稍微凸起的效果。第二种热效应与在掩模型构图装置的底侧处 存在的铬层有关，所述层比掩模型构图装置的其余材料(主要为石英) 更不能够将热传到环境中。这引起了从构图装置的底部到顶部的温度梯 度，由此构图装置也变得稍微凸起(沿向下的方向)。在光刻设备中，也可以或者替代地将构图装置在其顶侧处夹紧。例 如，因为可以将构图装置从下面加载和/或较大的面积对于夹具是可用 的，所以这可能是理想的。较大的面积有利地放大了摩擦力，所述摩擦 力可用于在加速减速期间使构图装置固定不动以便使能够实现尽可能高 的生产量。然而，利用顶侧夹紧，两个上述热效应实质沿相同方向起作 用，也就是说这两个效应使构图装置向下弯曲。重力效应也使构图装置 向下弯曲。因此，如果将顶侧夹紧用于构图装置，构图装置预期的向下 弯曲可以显著地增加。例如，通过使用针对场曲率是可调节的透镜来试 图对弯曲的这种显著增加进行补偿可能引入显著的像散，并且对于设计 是昂贵且耗时的。例如，美国专利申请公开no.US2005/0134829公开了用于支撑光刻 设备中的构图装置的一种夹具，在所述光刻设备中所述夹具配置有位于 支架的外围附近的多个压力区以保持构图装置。因此可以产生局部调节 的压力，以便提供局部的弯曲运动以使构图装置局部地弯曲。因此，可 以将构图装置针对不平坦、不平整和倾斜进行校正。
技术实现思路
本专利技术的一个或更多实施例目的在于至少部分地消除一个或更多 上述缺点，或者提供一种可使用的替代物。具体地，本专利技术的实施例目 的在于提供一种光刻设备，在所述光刻设备中可以通过针对构图装置的 改进弯曲机制来对构图装置的不希望的弯曲进行校正。根据本专利技术实施例，提出了一种光刻设备，包括 照射系统，配置用于调节辐射束；支架，构建用于支撑构图装置，所述构图装置能够沿截面给予辐射 束图案以形成已构图的辐射束，所述支架包括支架夹具，所述支架夹具 构建用于将构图装置夹紧到支架上；弯曲机械装置，构建用于将弯曲扭矩施加到已夹紧的构图装置上， 所述弯曲机械装置包括力/扭矩传动装置，配置用于无需实质减小由支架 夹具施加于构图装置上的夹紧力就可以对已夹紧的构图装置起作用；衬底台，构建用于保持衬底；以及投影系统，配置用于将已构图的辐射束投影到衬底的目标部分上。 根据本专利技术实施例，提出了一种器件制造方法，包括-使用支架夹具将构图装置夹紧到支架上；无需实质减小由支架夹具施加于构图装置上的夹紧力，将弯曲扭矩施加到已夹紧的构图装置上；使用构图装置沿横截面给予辐射束图案以形成已构图的辐射束；以及将己构图的辐射束投影到衬底上。 附图说明现在将参考示意性附图并且仅作为示例描述本专利技术的实施例，图中 对应的附图标记表示对应的部分，并且其中图1示出了根据本专利技术实施例的光刻设备；图2示出了沿直接实施例的截面示意图以保持具有气体波纹管(gas bellows)作为弯曲机械装置的构图装置；图3示出了夸大情况下图2的实施例；图4示出了具有两个气体波纹管的图3的实施例；图5示意性地示出了具有一组力传动装置作为弯曲机械装置的的实 施例；图6示意性地示出了图5的变体实施例的透视图； 图7是根据具有两组力传动装置的图5的视图8示意性地示出了具有对与用于构图装置的夹具相连的链接系统 进行操作的力/扭矩传动装置的实施例的概念；以及 图9示出了针对图8概念的可能实施例。具体实施例方式图1示意性地示出了根据本专利技术一个实施例的光刻设备。所述设备 包括照射系统(照射器)IL，配置用于调节辐射束B (例如紫外辐射或任意其它合适的辐射)；构图装置支架结构(例如，掩模台)MT，构建 用于支撑构图装置(例如掩模)MA，并且与第一定位装置PM相连，所述 第一定位装置PM被配置用于根据一定参数精确地定位构图装置。所述设 备还包括衬底台(例如，晶片台)WT，构建用于保持衬底(例如涂敷抗 蚀剂的晶片)W，并且与第一定位装置PW相连，所述第二定位装置PW 被配置用于根据一定参数精确地定位衬底。所述设备还包括投影系统(例 如，折射投影系统)PS，配置用于将通过构图装置MA给予辐射束B的图 案投影到衬底W的目标部分C (例如，包括一个或更多管芯)上。照射系统可以包括各种类型的光学元件，例如折射、反射、磁性、 电磁、静电或其它类型的光学部件或其任意组合，用于导引、整形或控 制辐射。构图装置支架结构按照依赖于构图装置的朝向、光刻设备的设计、 和诸如是否将构图装置保持在真空环境中之类的其它条件的方式来支撑 和保持构图装置。构图装置支架结构可以使用机械、真空、静电或其它 夹紧技术以保持构图装置。例如，构图装置支架结构可以是框架或台， 根据需要可以是固定的或是可移动的。例如，构图装置支架结构可以确 保构图装置相对于投影系统处于所需位置。这里可以将使用的任意术语 掩模版或掩模认为与更一般的术语构图装置同义。这里使用的术语构图装置应该广泛地解释为指的是可以用于向 辐射束的横截面给予图案的任意装置，以便在衬底的目标部分中创建图 案。应该注意的是，给予辐射束的图案可能不与衬底的目标部分中的所 需图案精确地对应，例如如果所述图案包括相移特征或所谓的辅助特征。 通常，给予辐射束的图案将与在目标部分中创建的器件中的具体功能层 相对应，例如集成电路。构图装置可以是透射的或反射的。构图装置的示例包括掩模、可编 程镜阵列、和可编程LCD面板。掩模在光刻中是众所周知的，并且包括诸 如二元、交替相移和削弱相移之类的掩模类型以及各种混合掩模类型。 可编程镜阵列的示例采用小镜子的矩阵排列，可以将每一个小镜本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻设备，包括：照射系统，被配置用于调节辐射束；支架，被构建用于支撑构图装置，所述构图装置能够沿截面给予辐射束图案以形成已构图的辐射束，所述支架包括支架夹具，所述支架夹具被构建用于将构图装置夹紧到支架上；弯曲机械装置，被构建用于将弯曲扭矩施加到已夹紧的构图装置上，所述弯曲机械装置包括力／扭矩传动装置，被配置用于无需实质减小由支架夹具施加于构图装置上的夹紧力就可以对已夹紧的构图装置起作用；衬底台，被构建用于保持衬底；以及投影系统，被配置用于将已构图的辐射束投影到衬底的目标部分上。

【技术特征摘要】
US 2006-7-14 11/486,3791.一种光刻设备，包括照射系统，被配置用于调节辐射束；支架，被构建用于支撑构图装置，所述构图装置能够沿截面给予辐射束图案以形成已构图的辐射束，所述支架包括支架夹具，所述支架夹具被构建用于将构图装置夹紧到支架上；弯曲机械装置，被构建用于将弯曲扭矩施加到已夹紧的构图装置上，所述弯曲机械装置包括力/扭矩传动装置，被配置用于无需实质减小由支架夹具施加于构图装置上的夹紧力就可以对已夹紧的构图装置起作用；衬底台，被构建用于保持衬底；以及投影系统，被配置用于将已构图的辐射束投影到衬底的目标部分上。2. 根据权利要求1的设备，其中，所述弯曲机械装置与支架夹具 分离。3. 根据权利要求l的设备，其中，力/扭矩传动装置被构建用于在 相对于已夹紧的构图装置的中线的高度偏移处施加拉力、推力或其拉力 和推力。4. 根据权利要求3的设备，其中，高度偏移e二h/6， h是构图装置 的高度。5. 根据权利要求3的设备，其中，提供了至少两个力/扭矩传动装 置，第一力/扭矩传动装置被配置用于在中线以上施加推力、拉力或者拉 力和推力，以及第二力/扭矩传动装置被配置用于在中线以下施加推力、 拉力或拉力和推力。6. 根据权利要求l的设备，其中，力/扭矩传动装置被构建用于在 己夹紧的构图装置的外围侧边缘处施加拉力、推力或拉力和推力。7. 根据权利要求l的设备，其中，将两组力/扭矩传动装置配置在 已夹紧的构图装置的两个相对外围侧边缘处。8. 根据权利要求1的设备，其中，所述弯曲机械装置还包括连接 器，被配置用于实现与已夹紧的构图装置的连接。9. 根据权利要求8的设备，其中，所述连接器包括真空元件。...

【专利技术属性】
技术研发人员：安德利B朱尼克，马塞尔KM博根，德克让比沃特，托马斯JM卡斯滕米勒，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]